有机发光二极管柔性阵列基板的制作方法

本发明是有关于一种柔性阵列基板，尤指一种有机发光二极管柔性阵列基板，其大为提升弯折区讯号线的可靠性与寿命。

背景技术：

柔性显示面板具有可弯曲性，而能良好地安装在物品的各种曲面上，因此逐渐受到大众的重视。

现有的柔性显示面板采用柔软可弯曲的塑料基板，非常适合窄边框显示设备的制作。此乃因为柔性显示面板的四周外围非显示区92可以采取弯曲或折叠的方式，将其置于屏幕侧方或下方。从而减小正面区域内非显示区92的占比，实现窄边框设计。

请参照图1及图2，现有的柔性显示面板包括柔性基板90、设置在所述柔性基板90上的显示区(activearea,aa)91以及一设置在所述显示区91周边的非显示区92，另在所述非显示区92上形成有弯折区921及芯片设置区922。在所述芯片设置区922设置有驱动芯片93。所述弯折区921作为讯号走线区，且在所述弯折区921内设置有讯号线以连接所述显示区91以及所述驱动芯片93。由于所述讯号线是直接制作在柔性基板90上，因此可省略柔性电路板。此外，讯号走线区和芯片设置区922透过弯折区921而被折叠置于显示区91侧方或下方。从而实现窄边框设计。

然而，上述弯折区921的讯号线容易在弯折应力下产生裂纹或断裂。此外，弯折区的弯曲状态导致讯号走线电阻增加，甚至断线，从而引起画面显示异常。

故，有必要提供一种有机发光二极管柔性阵列基板，以解决现有技术所存在的问题。

技术实现要素：

有鉴于现有技术的柔性显示面板弯折区的讯号线容易在弯折应力下产生裂纹或断裂的技术问题，本发明提供一种有机发光二极管柔性阵列基板，以解决现有技术所存在的问题。

本发明的主要目的在于提供一种有机发光二极管柔性阵列基板，包括：

显示区以及相邻于所述显示区的弯折区；

柔性基板，位于所述显示区以及所述弯折区中；

阻隔层，设置在所述柔性基板上，且位于所述显示区；

缓冲层，设置在所述阻隔层上，且位于所述显示区；

多晶硅层，设置在所述缓冲层上，且位于所述显示区中；

第一绝缘层，设置在所述缓冲层上且覆盖所述多晶硅层，且位于所述显示区中；

第一金属层，设置在所述第一绝缘层中，且位于所述显示区中；

第二绝缘层，设置在所述第一金属层上方；

第二金属层，设置在所述第一绝缘层中，且位于所述显示区以及所述弯折区中，其中，所述第二金属层在所述弯折区中的部分形成有多个弯折讯号线；

第三绝缘层，位于第二金属层上方，其中第三绝缘层至少包含一层有机材料和一层无机绝缘材料；以及

第三金属层，设置在所述第一绝缘层上，且位于所述显示区以及所述弯折区中，其中，所述第三金属层在所述弯折区中的部分形成有多个弯折讯号线。

在本发明一实施例中，所述第二金属层位于所述显示区中的部分形成有下电容极板及多个平坦讯号线。

在本发明一实施例中，所述第二金属层的各所述平坦讯号线的宽度小于所述第二金属层的各所述弯折讯号线的宽度。

在本发明一实施例中，所述第二金属层的相邻两平坦讯号线的间距小于所述第二金属层的相邻两弯折讯号线的间距。

在本发明一实施例中，所述第三金属层位于所述显示区中的部分形成有上电容极板及多个平坦讯号线，其中所述上电容极板与所述上电容极板相对应。

在本发明一实施例中，所述第三金属层的各所述平坦讯号线的宽度小于所述第三金属层的各所述弯折讯号线的宽度。

在本发明一实施例中，所述第三金属层的相邻两平坦讯号线的间距小于所述第三金属层的相邻两弯折讯号线的间距。

在本发明一实施例中，所述第一金属层上形成有讯号线。

在本发明一实施例中，所述有机发光二极管柔性阵列基板进一步包括至少一平坦层，所述平坦层设置在所述第一绝缘层上，且位于所述显示区以及所述弯折区中；所述像素定义层设置在平坦层上，位于所述显示区以及所述弯折区中；以及所述阳极层设置在所述平坦层上，位于所述显示区中，且通过过孔与所述第三金属层电连接。

1.本发明在弯折区中设置了第二金属层以及第三金属层的弯折讯号线，可增加弯折区内讯号走线的强度与可靠度。

2.所述第二金属层以及第三金属层的弯折讯号线是采用与显示区是分别延伸自显示区内的下电容极板及上电容极板，而非采用额外增加的金属层，故仅需要同一道黄光蚀刻工艺即可同时制造完成下电容极板及上电容极板及第二金属层以及第三金属层。因此本发明可在不额外增加工艺的基础上，实现弯折区双层讯号走线的结构。

3.所述第二金属层以及第三金属层在所述弯折区内的弯折讯号线，相较于显示区内的平坦讯号线，适当地增加了线宽及线距，进而使所述弯折区获得较佳的抗弯曲效果。

为让本发明的上述内容能更明显易懂，下文特举优选实施例，幷配合所附图式，作详细说明如下：

附图说明

图1是一现有技术柔性显示面板的俯视图。

图2是图1中现有技术柔性显示面板的侧视图。

图3是本发明有机发光二极管柔性阵列基板第1实施例的侧面剖视图。

图4是本发明的第二金属层或第三金属层的局部放大俯视图。

具体实施方式

请参照图3，本发明有机发光二极管柔性阵列基板的第1实施例包括：显示区100以及相邻于所述显示区100的弯折区200、柔性基板10、阻隔层20、缓冲层30、多晶硅层40、第一绝缘层51、第一金属层ge、第二绝缘层52、第二金属层sd1、第三绝缘层53、第三金属层sd2、至少一平坦层61、62、像素定义层70、以及阳极层80。

所述柔性基板10位于所述显示区100以及所述弯折区200中。此外，所述柔性基板10以聚酰亚胺制造。

所述阻隔层20设置在所述柔性基板10上，且位于所述显示区100。

所述缓冲层30设置在所述阻隔层20上，且位于所述显示区100。

所述多晶硅层40设置在所述缓冲层30上，且位于所述显示区100中。

所述第一绝缘层50设置在所述缓冲层30上且覆盖所述多晶硅层40，且位于所述显示区100中。

所述第一金属层ge设置在所述第一绝缘层50中，且位于所述显示区100中。此外，所述第一金属层ge上形成有讯号线。

所述第二绝缘层52设置在所述第一金属层ge上方。

所述第二金属层sd1设置在所述第一绝缘层50中，且位于所述显示区100以及所述弯折区200中，其中，所述第二金属层sd1在所述弯折区200中的部分形成有多个弯折讯号线w2。

所述第三金属层sd2设置在所述第一绝缘层50上，且位于所述显示区100以及所述弯折区200中，其中，所述第三金属层sd2在所述弯折区200中的部分形成有多个弯折讯号线w2。

所述平坦层61、62设置在所述第一绝缘层50上，且位于所述显示区100以及所述弯折区200中。此外，所述平坦层61、62可为依序迭设的两个以上的平坦层61、62。

所述像素定义层70设置在平坦层61、62上，位于所述显示区100以及所述弯折区200中。

所述阳极层80设置在所述平坦层61、62上，位于所述显示区100中，且通过过孔与所述第三金属层sd2电连接。

请参照图4，在本发明一实施例中，所述第二金属层sd1位于所述显示区100中的部分形成有下电容极板及多个平坦讯号线w1。所述第二金属层sd1的各所述平坦讯号线w1的宽度小于所述第二金属层sd1的各所述弯折讯号线w2的宽度。所述第二金属层sd1的相邻两平坦讯号线w1的间距小于所述第二金属层sd1的相邻两弯折讯号线w2的间距。

所述第三绝缘层53位于第二金属层上方，其中第三绝缘层53至少包含一层有机材料和一层无机绝缘材料。

请参照图4，在本发明一实施例中，所述第三金属层sd2位于所述显示区100中的部分形成有上电容极板及多个平坦讯号线w1，其中所述上电容极板与所述上电容极板相对应。在本发明一实施例中，所述第三金属层sd2的各所述平坦讯号线w1的宽度小于所述第三金属层sd2的各所述弯折讯号线w2的宽度。在本发明一实施例中，所述第三金属层sd2的相邻两平坦讯号线w1的间距小于所述第三金属层sd2的相邻两弯折讯号线w2的间距。

在本发明一实施例中，第一绝缘层51为无机绝缘层，包含二氧化硅，氮化硅等材料；所述第二绝缘层52可以为无机膜层。位于所述平坦区100，而在所述弯折区200中，第二绝缘层52被完全移除。

在本发明一实施例中，第一绝缘层51为无机绝缘层，包含二氧化硅，氮化硅等材料；第二绝缘层52可以为有机膜层和无机膜层的堆叠结构。其中有机膜层位于所述平坦区100以及所述弯折区200中；而无机膜层位于所述平坦区100，在所述弯折区200中，无机膜层被完全移除。

在本发明一实施例中，第三绝缘层53，位于第二金属层sd2上方，其中第三绝缘层53至少包含一有机膜层和一无机绝缘膜层。其中有机膜层位于所述平坦区100以及所述弯折区200中；而无机膜层位于所述平坦区100，在所述弯折区200中，无机膜层被完全移除。

与现有技术相比较，本发明有机发光二极管柔性阵列基板具有下列优点:

1.本发明在弯折区200中设置了第二金属层sd1以及第三金属层sd2的弯折讯号线w2，可增加弯折区200内讯号走线的强度与可靠度。

2.所述第二金属层sd1以及第三金属层sd2的弯折讯号线w2是采用与显示区100是分别延伸自显示区100内的下电容极板及上电容极板，而非采用额外增加的金属层，故仅需要同一道黄光蚀刻工艺即可同时制造完成下电容极板及上电容极板及第二金属层sd1以及第三金属层sd2。因此本发明可在不额外增加工艺的基础上，实现弯折区200双层讯号走线的结构。

3.所述第二金属层sd1以及第三金属层sd2在所述弯折区200内的弯折讯号线w2，相较于显示区100内的平坦讯号线w1，适当地增加了线宽及线距，进而使所述弯折区200获得较佳的抗弯曲效果。