一种彩色滤光片黑色矩阵制作方法与流程

本发明涉及oled微显示面板技术领域，特别是一种彩色滤光片黑色矩阵制作方法。

背景技术：

显示面板，例如硅基oled微显示具有体积小，像素小，低耗电量，全彩化等优点。显示装置一般包括阵列基板、彩色滤光片以及设置在阵列基板和彩色滤光片之间的液晶层。彩色滤光片则包括设置在一基底上的黑色矩阵以及彩色滤光单元。黑色矩阵设置在相邻的彩色滤光单元之间。黑色矩阵用于阻止光线进入非像素区域内，并分割彩色滤光单元，以增加色彩对比性。oled器件发光时会有斜向光线的存在，当斜向光线发生折射后，在阵列基板一侧人眼可以在较大的角度观察到该光线，从而产生漏光现象，这种现象被称为斜视漏光现象。如何有效解决斜视漏光现象一直是业界的一个重要课题。尤其在硅基oled微显示领域，要求黑色矩阵的线宽要小，常规的有机材料无法满足要求。

中国发明专利cn108336112a公开了一种彩色滤光片包括基板、形成于所述基板上的黑色矩阵以及位于所述黑色矩阵内的彩色滤光单元，所述基板包括支撑层以及通过溅射形成在所述支撑层下表面的阻水层，所述彩色滤光单元和所述黑色矩阵位于所述阻水层上。

技术实现要素：

本发明需要解决的技术问题是提供一种有利于解决硅基oled微显示面板斜视漏光问题的彩色滤光片基板的制作方法。

为解决上述技术问题，本发明的一种彩色滤光片黑色矩阵制作方法，在玻璃基板清洗后，在玻璃基板上沉积铬金属薄膜；经过涂胶曝光显影光刻工艺，再经过蚀刻，形成金属铬矩阵；将玻璃基板通过等离子体氧化处理，形成表面的黑色氧化铬层。

优选的，在玻璃基板上沉积铬金属薄膜采用溅射、热蒸发或电子束蒸发的方式。

优选的，所述蚀刻采用湿法腐蚀或干法刻蚀。

采用上述方法后，本发明设备及工艺简单，可以形成超细的黑色氧化铬矩阵，降低或消除漏光现象。

附图说明

下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。

图1为本发明彩色滤光片的立体示意图。

图2为本发明彩色滤光片的立体示意图。

图中：1为玻璃基板，2为金属铬矩阵，3为氧化铬层。

具体实施方式

如图1和图2所示，本发明的一种彩色滤光片黑色矩阵制作方法，在玻璃基板1清洗后，采用磁控溅射玻璃基板上沉积200nm厚度的铬金属薄膜，溅射靶材为高纯cr靶，反应气体为高纯氩气，反应室预抽真空为6×10^-4pa,采用直流功率源，反应过程中氩气流量为80sccm；利用旋涂甩胶机在玻璃基板上旋涂1um的光刻胶，在150℃的温度下进行烘烤30分钟，采用曝光显影光刻工艺制备出需要的图形，再经过cr刻蚀液（主要成分是硝酸铈铵(ce(nh4)2(no3)6)和硝酸）湿法腐蚀将cr腐蚀，将玻璃基板放入脱膜液中使胶膜脱落，形成金属铬矩阵2；将玻璃基板1放入臭氧等离子设备进行氧化处理，形成表面的黑色氧化铬层3。通过形成超细的黑色氧化铬矩阵，降低或消除漏光现象。

虽然以上描述了本发明的具体实施方式，但是本领域熟练技术人员应当理解，这些仅是举例说明，可以对本实施方式作出多种变更或修改，而不背离本发明的原理和实质，本发明的保护范围仅由所附权利要求书限定。

技术特征：

技术总结
本发明涉及OLED微显示面板技术领域，特别是一种彩色滤光片黑色矩阵制作方法，在玻璃基板清洗后，在玻璃基板上沉积铬金属薄膜；经过涂胶曝光显影光刻工艺，再经过蚀刻，形成金属铬矩阵；将玻璃基板通过等离子体氧化处理，形成表面的黑色氧化铬层。采用上述方法后，本发明设备及工艺简单，可以形成超细的黑色氧化铬矩阵，降低或消除漏光现象。

技术研发人员：邹成;刘志文
受保护的技术使用者：湖畔光电科技（江苏）有限公司
技术研发日：2019.02.20
技术公布日：2019.06.14