1.一种基板加压模块，涉及一种由上部向基板的一部分区域施加力的基板加压模块，该基板加压模块特征在于，
包括：
支撑部件，支撑基板；
重量部件，放置于在所述支撑部件上放置的基板的所述一部分区域上，并具有超过一定重量的重量；
加压单元，由上部向所述重量部件施加力。
2.根据权利要求1所述的基板加压模块，其特征在于，
所述加压单元包括：
突出部，提供至所述重量部件的上部，以与所述重量部件相对的方式向下突出；
驱动部件，将所述突出部或所述支撑部件中的至少一个向下移动至分隔位置与加压位置之间，
所述分隔位置是指所述突出部及所述重量部件沿着相互上下方向分隔的位置，
所述加压位置是指所述突出部的下端及所述重量部件的上面相互接触而通过所述突出部而向所述重量部件的上面施加力的位置。
3.根据权利要求2所述的基板加压模块，其特征在于，
所述突出部被固定，
所述驱动部件将所述支撑部件进行上下方向移动。
4.根据权利要求3所述的基板加压模块，其特征在于，
所述一部分区域为基板的边缘区域，
所述重量部件为提供为底面与所述一部分区域相对的环状。
5.根据权利要求4所述的基板加压模块，其特征在于，
所述基板加压模块还包括：
适配器部件，以放置有基板的状态，由外部提供至所述突出部及所述支撑部件之间，
所述适配器部件将所述重量部件支撑在所述基板的上面。
6.根据权利要求5所述的基板加压模块，其特征在于，
所述适配器部件包括：
环状的主体，内侧直径大于基板；
支撑销，由所述主体向内侧方向突出，沿着所述主体的圆周方向而提供至三个以上的多个，
在所述主体的内侧面的下端形成有突出至内侧的阶梯，
所述重量部件的外侧直径大于所述阶梯的内侧直径，小于所述主体的所述内侧面的直径，
在所述支撑销放置有基板，
所述阶梯以所述重量部件放置在所述基板的上面的方式提供，
所述支撑部件具有小于所述主体的内侧直径，并与基板的直径相同或大于基板的直径的直径，并在上面形成有供所述支撑销向下插入的插入凹槽。
7.根据权利要求4所述的基板加压模块，其特征在于，
所述突出部相互组合多个，沿着所述重量部件的圆周方向而构成环状。
8.根据权利要求2所述的基板加压模块，其特征在于，
所述突出部提供为弹簧定位销。
9.根据权利要求8所述的基板加压模块，其特征在于，
在包含与所述重量部件的上面的所述突出部相对的相对区域的区域形成有向内侧凹蚀的调节凹槽，
在所述调节凹槽啮合插入有深度调节部件，
所述深度调节部件包括在所述调节凹槽能够相互更换的第一调节部件及第二调节部件，
在所述第一调节部件及所述第二调节部件插入至所述调节凹槽的状态下，与所述相对区域对应的对应区域的高度相异。
10.根据权利要求9所述的基板加压模块，其特征在于，
所述调节凹槽延伸至所述重量部件的内侧面，
所述深度调节部件为所述对应区域的高度低于除了所述对应区域之外的区域的高度的形状。
11.一种基板处理设备，涉及一种处理基板的设备，其特征在于，
包括：
外壳，在内部具有处理基板的处理空间；
基板加压模块，在所述外壳内，由上部向基板的一部分区域施加力，
所述基板加压模块包括：
支撑部件，支撑基板；
重量部件，在放置于所述支撑部件上的基板的所述一部分区域上放置，并具有超过一定重量的重量；
加压单元，由上部向所述重量部件施加力。
12.根据权利要求11所述的基板处理设备，其特征在于，
所述加压单元包括：
突出部，提供至所述重量部件的上部，以与所述重量部件相对的方式向下方突出；
驱动部件，将所述突出部或所述支撑部件中的至少一个以上下方向移动至分隔位置与加压位置之间，
所述分隔位置是指所述突出部及所述重量部件沿着上下方向分隔的位置，
所述加压位置是指所述突出部的下端及所述重量部件的上面相互接触而通过所述突出部而向所述重量部件的上面施加力的位置。
13.根据权利要求12所述的基板处理设备，其特征在于，
所述外壳包括：
下部外壳；
上部外壳，提供至所述下部外壳的上部，与所述下部外壳组合而形成所述处理空间，
所述突出部固定至所述上部外壳，
所述驱动部件将所述支撑部件以上下方向移动，
所述下部外壳以侧壁环绕所述支撑部件的方式提供。
14.根据权利要求13所述的基板处理设备，其特征在于，
所述下部外壳与所述支撑部件结合而通过所述驱动部件而进行上下方向移动，对于所述支撑部件处于所述加压位置的情况，与上部外壳一起密封处理空间。
15.根据权利要求14所述的基板处理设备，其特征在于，
所述一部分区域为基板的边缘区域，
所述重量部件提供为底面与所述一部分区域相对的环状，
所述基板加压模块还包括：
适配器部件，以放置有基板的状态下由外部提供至所述突出部及所述支撑部件之间，
所述适配器部件包括：
环状的主体，内侧直径大于基板；
支撑销，由所述主体突出至内侧方向，沿着所述主体的圆周方向而提供为三个以上的多个，
在所述主体的内侧面的下端形成有向内侧突出的阶梯，
所述重量部件的外侧直径大于所述阶梯的内侧直径，小于所述主体的所述内侧面的直径，
在所述支撑销放置有基板，
所述阶梯以所述重量部件放置于所述基板的上面的方式提供，
所述支撑部件具有小于所述主体的内侧直径，且与基板的直径相同或大于基板的直径的直径，在上面形成有向下插入所述支撑销的插入凹槽。
16.根据权利要求15所述的基板处理设备，其特征在于，
所述主体与所述上部外壳的侧壁的下端及所述下部外壳的侧壁的上端相对，
在所述加压位置上，所述主体的上面与所述上部外壳的所述侧壁的下端接触，底面与所述下部外壳的所述侧壁的上端接触而密封所述处理空间。
17.一种基板加压方法，涉及一种利用权利要求1所述的基板加压模块而由上部对基板的一部分区域施加力的基板加压方法，该基板加压方法特征在于，
包括如下步骤：
提供基板步骤，在所述基板加压模块内提供基板；
提供重量部件步骤，在所述基板上安装所述重量部件；
加压步骤，之后，利用所述加压单元而由上部对所述重量部件施加力。
18.根据权利要求17所述的基板加压方法，其特征在于，
所述加压单元包括：突出部，提供至所述重量部件的上部，以与所述重量部件相对的方式向下突出，
在所述加压步骤中，在所述支撑部件安装所述基板并在所述基板上安装所述重量部件的状态下，所述重量部件通过所述突出部将所述支撑部件上升至由上部施加力的加压位置。
19.根据权利要求18所述的基板加压方法，其特征在于，
所述一部分区域为基板的边缘区域，
所述重量部件提供为底面与所述一部分区域相对的环状，
所述基板加压模块还包括：适配器部件，以放置有基板及重量部件的方式提供，
所述适配器部件包括；
环状的主体，内侧直径大于基板；
阶梯，由所述主体向内侧方向突出，并沿着所述主体的圆周方向而提供为三个以上的多个，
在所述主体的内侧面的下端提供有向内侧突出的阶梯，
所述重量部件的外侧直径大于所述阶梯的内侧直径，且小于所述主体的内侧面的直径，
所述支撑部件具有小于所述主体的内侧直径，且与基板的直径相同或大于基板的直径的直径，并在上面形成供向下插入所述支撑销的插入凹槽，
在所述提供基板步骤中，在所述支撑销上放置有基板的所述适配器部件提供至所述支撑部件及所述突出部之间。
20.根据权利要求19所述的基板加压方法，其特征在于，
在所述提供重量部件步骤中，在放置有基板的所述适配器部件上安装所述重量部件。
21.根据权利要求20所述的基板加压方法，其特征在于，
在所述加压步骤中，以将所述支撑部件贯通至所述主体的内部的方式提升至所述加压位置。
22.一种基板处理方法，涉及一种利用权利要求16所述的基板处理设备而处理基板的基板处理方法，该基板处理方法的特征在于，
包括如下步骤：
基板加压步骤，利用所述基板加压模块而由上部向基板的所述一部分区域施加力；
基板处理步骤，执行处理基板的工序，
所述基板加压步骤包括如下步骤：
提供基板步骤，向所述基板加压模块内提供基板；
提供重量部件步骤，在所述基板上安装所述重量部件；
加压步骤，之后，利用所述加压单元而由上部向所述重量部件施加力，
在所述提供基板步骤中，在所述支撑销上放置有基板的所述适配器部件被提供至所述支撑部件及所述突出部之间，
在所述提供重量部件步骤中，在放置有基板的适配器部件上安装所述重量部件，
在所述加压步骤中以将所述支撑部件及所述下部外壳贯通所述主体的内部方式提升至所述加压位置。
23.根据权利要求22所述的基板处理方法，其特征在于，
所述基板处理步骤在通过所述加压步骤而所述支撑部件处于所述加压位置的状态下执行。