技术特征：
1.一种等离子体处理系统，包括反应腔室，其端面安装介质窗，在介质窗的中心位置开设进气口，进气口上安装进气喷嘴，其特征在于：法拉第屏蔽装置本体中心设有空心结构，空心结构套设在进气喷嘴上，且空心结构与进气口同轴设置；还包括绝缘支撑结构，其套设在空心结构上，射频线圈通过绝缘支撑结构安装在介质窗表面，法拉第屏蔽装置本体设置在射频线圈和介质窗之间；还包括驱动装置，法拉第屏蔽装置本体通过驱动装置实现在介质窗中心轴线上的旋转。2.根据权利要求1所述的等离子体处理系统，其特征在于：驱动装置包括电机、偏心轮以及绝缘杆，电机的电机轴上安装偏心轮，绝缘杆的一端可旋转连接在偏心轮上，绝缘杆的另一端可旋转连接在法拉第屏蔽装置本体表面；绝缘杆、偏心轮以及法拉第屏蔽装置本体均在同一平面上旋转；空心结构的顶端通过舒展装置与射频柱固定连接。3.根据权利要求2所述的等离子体处理系统，其特征在于：绝缘杆的一端通过销钉可旋转连接在偏心轮上，绝缘杆的另一端同样通过销钉可旋转连接在法拉第屏蔽装置本体上。4.根据权利要求2所述的等离子体处理系统，其特征在于：前述的舒展装置呈弧状结构设置，其一端固定在射频柱上，舒展装置的另一端固定在空心结构的顶端；舒展装置采用铜片制作。5.根据权利要求1所述的等离子体处理系统，其特征在于：驱动装置包括电机，电机固定在射频柱上，电机的电机轴通过联轴器与空心结构的顶端固定连接，且电机的电机轴与空心结构同轴设置。6.一种法拉第屏蔽装置，其特征在于：其为安装在等离子体处理系统内的法拉第屏蔽装置本体；前述的法拉第屏蔽装置本体包括若干片结构相同的叶片，若干片叶片均呈扇形结构设置，叶片的顶端均固定在空心结构上；若干片叶片整体呈圆形，以介质窗的中心轴线为中心线发散对称排布，且相邻两片叶片之间的间距均相等。7.根据权利要求6所述的法拉第屏蔽装置，其特征在于：前述的叶片的片数选用范围为15-20片。8.根据权利要求6所述的法拉第屏蔽装置，其特征在于：若干片叶片整体构成的圆形状的圆周上固定绝缘圈，绝缘圈与叶片接触部分通过螺钉固定。