技术总结
本发明涉及一种等离子体处理系统及其包含的法拉第屏蔽装置，其中等离子体处理系统包括设置在射频线圈和介质窗之间的法拉第屏蔽装置本体，其中心设有空心结构，空心结构套设在进气喷嘴上；还包括驱动装置，法拉第屏蔽装置本体通过驱动装置实现在介质窗中心轴线上的旋转；本发明选用合适的清洗工艺即可实现对介质窗以及反应腔室内壁的清洗，可以避免反应产物在介质窗以及反应腔室腔体内壁沉积造成的颗粒污染，同时也可以避免射频线圈进行能量耦合过程中均匀性无法得到保证的问题。耦合过程中均匀性无法得到保证的问题。耦合过程中均匀性无法得到保证的问题。
技术研发人员：李雪冬 刘小波 胡冬冬 刘海洋 孙宏博 车东晨 许开东
受保护的技术使用者：江苏鲁汶仪器有限公司
技术研发日：2019.12.31
技术公布日：2021/7/15