1.一种压电材料薄膜的极化设备，适用以对一装置结构的至少一压电材料薄膜进行一极化制程，该装置结构包含一绝缘基材以及该至少一压电材料薄膜设于该绝缘基材的一表面的一第一部分上，其特征在于，该压电材料薄膜的极化设备包含：
一导电载盘，其中该导电载盘包含至少一凸状部与至少一凹陷部，该绝缘基材设于该至少一凸状部上，且该至少一凸状部对应位于该至少一压电材料薄膜的下方，该至少一凹陷部对应位于该绝缘基材的该表面的一第二部分的下方；
一极化电极，设于该导电载盘的上方，且配置以朝该装置结构的该至少一压电材料薄膜发射多个带电离子束；以及
一直流电源，配置以在该极化电极与该导电载盘之间形成一高电场环境。
2.根据权利要求1所述的压电材料薄膜的极化设备，其特征在于，该至少一凸状部的一外缘与该至少一压电材料薄膜的一外缘对齐、或该至少一凸状部的该外缘位于该至少一压电材料薄膜的该外缘的范围内。
3.根据权利要求1所述的压电材料薄膜的极化设备，其特征在于，该装置结构还包含至少一电子元件设于该绝缘基材的该表面的该第二部分上，该至少一凹陷部的范围涵盖整个该至少一电子元件。
4.根据权利要求1所述的压电材料薄膜的极化设备，其特征在于，该导电载盘还包含：
至少一反向电极，设于该至少一凹陷部中，且配置以驱离朝该绝缘基材的该表面的该第二部分入射的所述多个带电离子束；以及
至少一绝缘层，包覆住该至少一反向电极。
5.根据权利要求1所述的压电材料薄膜的极化设备，其特征在于，该至少一凹陷部为未贯穿该导电载盘的至少一盲孔。
6.根据权利要求1所述的压电材料薄膜的极化设备，其特征在于，该至少一凹陷部为贯穿该导电载盘的至少一贯穿孔。
7.根据权利要求1所述的压电材料薄膜的极化设备，其特征在于，该至少一凹陷部的深度与宽度的比例为0.1至10。
8.根据权利要求1所述的压电材料薄膜的极化设备，其特征在于，该至少一凹陷部的深度与宽度的比例为0.5至1。
9.根据权利要求1所述的压电材料薄膜的极化设备，其特征在于，该装置结构还包含至少一薄膜电极设于该绝缘基材的该表面的该第一部分与该至少一压电材料薄膜之间，该至少一薄膜电极与该导电载盘电性耦合。
10.根据权利要求1所述的压电材料薄膜的极化设备，其特征在于，该压电材料薄膜的极化设备还包含一电网设于该极化电极与该装置结构之间，其中所述多个带电离子束经由该电网而朝该装置结构喷射，该电网的电压与该极化电极的电压相同或相近。