一种干法刻蚀设备及其顶盖的制作方法

本实用新型设计半导体设备领域，特别涉及一种干法刻蚀设备及其顶盖。

背景技术：

刻蚀(etching)是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术，实际上，狭义理解就是光刻腐蚀，先通过光刻将光刻胶进行光刻曝光处理，然后通过其它方式实现腐蚀处理以移除所需除去的部分。通常刻蚀技术可以分为湿法刻蚀(wetetching)和干法刻蚀(dryetching)两类，它是半导体制造工艺、微电子制造工艺以及微纳米级制造工艺中的一种相当重要的步骤，是与光刻相联系的图形化(pattern)处理的主要工艺。

等离子刻蚀，是干法刻蚀中最常见的一种形式，其原理是：将暴露在电子区域的气体形成等离子体，等离子体通过电场加速时，会释放足够的能量，促使等离子体与材料表面发生反应。目前，在半导体行业中，干法刻蚀中的等离子刻蚀由于可以使电路图形变得更加精细，因此得到越来越广泛的使用。

等离子刻蚀设备中的上部电极的很多零部件都需要安装在气体室外顶壁上，为了保护该上部电极，通常在正常运行时需要在其上增加一具有腔室的顶盖。然而，现有的顶盖由于体积较大且比较重，在等离子刻蚀设备维护时，一个维护人员根本无法将其拿下来或盖上，而且，在拿下来或盖上的过程中很容易碰到安装在气体室外顶部的零部件造成零部件的损坏或者电路短路，造成事故的发生。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种干法刻蚀设备及其顶盖，以便于等离子刻蚀设备的维护，预防事故的发生。

为了解决上述问题，本实用新型提供了一种干法刻蚀设备的顶盖，所述顶盖具有腔室，所述顶盖包括下顶盖和上顶盖，所述上顶盖盖合在所述下顶盖上，所述上顶盖远离所述下顶盖的一侧具有一把手，所述把手固定在所述上顶盖上。

可选的，所述下顶盖为两端开口的环状壳体。

进一步的，所述上顶盖为板件，且所述顶盖的腔室形成在所述下顶盖内。

进一步的，所述上顶盖为一端开口的壳体。

更进一步的，所述上顶盖包括盖板和上子顶盖，所述盖板盖合在所述上子顶盖上，所述上子顶盖盖合在所述下顶盖上。

更进一步的，所述上子顶盖为两端开口的环状壳体，其形状与所述下顶盖匹配，所述盖板为板件，且所述顶盖的腔室形成在所述上子顶盖和下顶盖内。

更进一步的，所述上子顶盖和盖板一体成型。

可选的，所述上顶盖盖合在所述下顶盖上。

可选的，所述上顶盖朝向所述下顶盖一侧具有凸起，所述下顶盖朝向所述上顶盖一侧与所述凸起相匹配的凹槽，所述凸起设置在所述凹槽中。

本实用新型提供了一种干法刻蚀设备，包括上述所述的顶盖。

由于采用了以上技术方案，本实用新型具有以下有益效果：

本实用新型提供的一种干法刻蚀设备及其顶盖，所述顶盖具有腔室，所述顶盖包括下顶盖和上顶盖，所述上顶盖配合设置在所述下顶盖上，所述上顶盖远离所述下顶盖的一侧具有一把手，所述把手固定在所述上顶盖上。本实用新型的顶盖在保养时仅需要通过抓取把手将上顶盖移开即可，无需将整个顶盖一起移开，减轻了维修时需要移开的重量，便于操作，方便了维修人员的日常维护工作，预防了事故的发生。

附图说明

图1为本实用新型的一实施例的一种顶盖的截面示意图；

图2为本实用新型的一实施例的另一种顶盖的截面示意图。

附图标记说明：

10-下顶盖；

20-上顶盖；21-盖板；22-上子顶盖；211-把手。

具体实施方式

以下将对本实用新型的一种干法刻蚀设备及其顶盖作进一步的详细描述。下面将参照附图对本实用新型进行更详细的描述，其中表示了本实用新型的优选实施例，应该理解本领域技术人员可以修改在此描述的本实用新型而仍然实现本实用新型的有利效果。因此，下列描述应当被理解为对于本领域技术人员的广泛知道，而并不作为对本实用新型的限制。

为了清楚，不描述实际实施例的全部特征。在下列描述中，不详细描述公知的功能和结构，因为它们会使本实用新型由于不必要的细节而混乱。应当认为在任何实际实施例的开发中，必须做出大量实施细节以实现开发者的特定目标，例如按照有关系统或有关商业的限制，由一个实施例改变为另一个实施例。另外，应当认为这种开发工作可能是复杂和耗费时间的，但是对于本领域技术人员来说仅仅是常规工作。

为使本实用新型的目的、特征更明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式作进一步的说明。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比率，仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。

本实施例所提供的一种干法刻蚀设备，所述干法刻蚀设备包括等离子体刻蚀设备。所述干法刻蚀设备包括反应腔室、上部电极、下部电极和顶盖，所述下部电极例如是底部射频电极。所述上部电极包括内设上部电极和外设上部电极，所述内设上部电极设置在反应腔室中，所述内设上部电极例如是至少包括上部电极天板(简称上天板)和喷淋头，所述上天板沿高度方向将所述上腔室和下腔室隔开，以使得所述上腔室为气体室，所述下腔室为刻蚀反应室，所述喷淋头例如是设置在所述反应腔室的顶壁上，具体的，所述喷淋头例如是设置在所述上腔室的顶壁上。

所述外设上部电极设置在所述反应腔室外，例如是设置在所述反应腔室外顶壁上，具体的，所述外设上部电极设置在所述上腔室外顶壁上。所述外设上部电极包括气体管路和腔室控制装置，所述气体管路与所述喷淋头连接，其用于将气体源装置中的气体输送至所述上腔室中。所述腔室控制装置例如是包括压力侦测计、马达、电路板、感应信号线、控制环等，所述腔室控制装置用于对所述反应腔室进行部分的工艺环境的检测、调控以及反馈等。

所述顶盖具有腔室，所述顶盖盖合在所述上腔室外顶壁上，以将所述上腔室外顶壁上的零部件(例如外设上部电极)保护在所述腔室中。所述顶盖例如是由防尘、耐高温材料制备而成。

图1为本实施例的一种顶盖的截面示意图。如图1所示，所述顶盖包括下顶盖10和上顶盖20，所述下顶盖10盖合在所述反应腔室外顶壁上，具体的，所述下顶盖10盖合在所述上腔室外顶壁上。所述下顶盖10用于将所述外设上部电极保护在其内侧，以避免来自外侧对所述外设上部电极的物理或电气伤害。所述下顶盖10例如为两端开口的环状壳体，其形状较佳的与所述上腔室外顶壁的形状相同，所述下顶盖10的内环垂直于其延伸方向的截面面积小于等于上腔室外顶壁的面积。在本实施例中，所述上腔室外顶壁呈方形，所述下顶盖10为两端开口的长方体环状壳体，所述下顶盖10的内环垂直于其延伸方向的截面面积等于上腔室外顶壁的面积，所述下顶盖10例如是由铝材料制备而成。

所述上顶盖20配合设置在所述下顶盖10上，所述上顶盖20从外侧以及上方将所述外设上部电极保护起来，以避免来自外侧和/或上方对所述外设上部电极的物理或电气伤害。可知，在需要对所述干法刻蚀设备的上电极进行维护时，仅需要将顶盖的上顶盖20移开即可，无需将整个顶盖一起移开，减轻了维修时需要移开的重量，方便了维修人员的日常维护工作，预防了事故的发生。所述上顶盖20朝向所述下顶盖10一侧具有凸起，此时，所述下顶盖10朝向所述上顶盖20一侧与所述凸起相匹配的凹槽，所述凸起设置在所述凹槽中。具体的，所述上顶盖20例如是具有连续凸起，以形成z形或“凸”字形结构，所述下顶盖10具有与所述上顶盖的凸起相匹配的z形或“凹”字形结构；或者，所述上顶盖20例如是具有若干相互间隔的凸起，所述下顶盖10具有与所述上顶盖的凸起相匹配的相同数量的凹槽。当然，所述上顶盖20可以直接盖合在所述下顶盖10上。

所述上顶盖20例如为一端开口的壳体或者为一板件。

如图1所示，首先介绍所述上顶盖20例如为一板件的具体结构，所述板件盖合在所述下顶盖10上，此时，所述顶盖的腔室形成在所述下顶盖10内。所述上顶盖20朝向所述下顶盖10的表面(盖合面)至少将所述下顶盖10朝向上顶盖20的表面覆盖，例如是，所述上顶盖20朝向所述下顶盖10的表面的形状与所述下顶盖10朝向上顶盖20的表面的形状相同，且所述上顶盖20朝向所述下顶盖10的表面的面积与所述下顶盖10朝向上顶盖20的表面的面积相同。

图2为本实施例的一种干法刻蚀设备的另一种顶盖的截面示意图。如图2所示，接着介绍所述上顶盖20例如为一端开口的壳体的具体结构，当所述下顶盖10的高度较高时，由于维护不方便，可以降低所述下顶盖的高度，此时，所述上顶盖20包括盖板21和上子顶盖22，所述上子顶盖22为两端开口的环状壳体，所述上子顶盖22与所述下顶盖10匹配，所述盖板21为板件，且所述顶盖的腔室形成在所述上子顶盖22和下顶盖10内。所述上子顶盖22的外环的面积小于等于所述下顶盖10外环的面积，且大于所述下顶盖10内环的面积，所述上子顶盖22的壳体壁厚优选的与所述下顶盖10的壳体壁厚相同。所述盖板21设置在所述上子顶盖22远离所述下顶盖10的一端的开口处，所述上子顶盖22和盖板21例如是一体成型。在本实施例中，所述上子顶盖22也是方体状环状壳体，所述上子顶盖22的外环的面积等于下顶盖10的外环的面积，所述上子顶盖22的内环的面积等于下顶盖10的内环的面积，所述上子顶盖22例如是由铝材料制备而成。

在所述第二上子顶盖22远离所述下顶盖10的表面(即，所述上顶盖的外顶壁)上设置有把手211，可知，在需要对所述干法刻蚀设备的上电极进行维护时，可以通过抓取把手211方便的将所述盖板21移开，便于操作，进一步的方便了维修人员的日常维护工作，预防了事故的发生。

所述把手211的数量至少为一个，例如是1个、两个、三个、四个等，所述把手211的数量，可以根据实际设计的盖板21的体积以及重量来进行适应性的调整。当所述把手211的数量为1个时，所述把手211较佳的设置在所述上顶盖20的外顶壁的中心位置；当所述把手211的数量多于1个时，所述把手211较佳的设置在所述上顶盖20的外顶壁的对称位置上。所述把手211的形状可以是弧状把手，所述弧状把手的两侧例如是焊接在所述上顶盖20的外顶壁上。所述把手211的形状还可以是蘑菇状把手，所述把手211的一端例如是焊接或者螺纹连接在所述上顶盖20的外顶壁上。在本实施例中，所述把手211的形状可以是弧状把手。所述把手211例如是由防尘、耐高温材料制备而成，具体的，所述把手211例如是由铝材料制备而成。当然，在其他实施例中，所述把手的形状也可以根据实际需求采用其他形状，例如“工”字、“弓”字状把手等。

综上，本实用新型提供的一种干法刻蚀设备及其顶盖，所述顶盖具有腔室，所述顶盖包括下顶盖和上顶盖，所述上顶盖盖合在所述下顶盖上，所述上顶盖远离所述下顶盖的一侧具有一把手，所述把手固定在所述上顶盖上。本实用新型的顶盖在保养时仅需要通过抓取把手将上顶盖移开即可，无需将整个顶盖一起移开，减轻了维修时需要移开的重量，便于操作，方便了维修人员的日常维护工作，预防了事故的发生。

此外，需要说明的是，除非特别说明或者指出，否则说明书中的术语“第一”、“第二”等的描述仅仅用于区分说明书中的各个组件、元素、步骤等，而不是用于表示各个组件、元素、步骤之间的逻辑关系或者顺序关系等。

可以理解的是，虽然本实用新型已以较佳实施例披露如上，然而上述实施例并非用以限定本实用新型。对于任何熟悉本领域的技术人员而言，在不脱离本实用新型技术方案范围情况下，都可利用上述揭示的技术内容对本实用新型技术方案作出许多可能的变动和修饰，或修改为等同变化的等效实施例。因此，凡是未脱离本实用新型技术方案的内容，依据本实用新型的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化及修饰，均仍属于本实用新型技术方案保护的范围内。