1.一种基板处理装置，其特征在于，具备：
槽，其贮存处理基板的处理液，并使该基板浸渍于处理液中；和
保持部件，其将所述基板以立起姿势进行保持，并以相对于所述槽能够在所述基板的交接位置与处理位置之间升降的方式设置，
所述保持部件具有从下方保持所述基板的保持槽，
在所述槽设有保持部，该保持部在所述保持部件于所述处理位置保持着所述基板的状态下，在与所述保持槽相比的上方、且在包含所述基板的表面的法线的铅垂方向上的假想面的水平方向的两侧位置处与所述基板抵接，抑制所述基板的旋转。
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述保持槽及所述保持部以与保持并排列于所述保持部件的多个所述基板各自对应的方式沿所述基板的排列方向设置，
沿所述排列方向设置的多个保持部的相位设定为，相对于从沿所述排列方向设置的多个所述保持槽的相位以相邻的该保持槽之间的间距的二分之一偏离的相位而进一步偏离。
3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，所述保持部设于与从由所述保持部件保持的所述基板的中心穿过的水平面相比靠下方的位置。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，所述保持槽在与包含所述基板的法线的铅垂面平行的截面中的形状是楔形。
5.根据权利要求1～3中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，所述保持槽在与包含所述基板的法线的铅垂面平行的截面中的形状是与该基板的晶边部在所述截面中的形状一致的形状。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，具有搬送机构，该搬送机构在所述保持部件下降到所述槽内的位置上能够将所述保持部与由所述保持部件保持的所述基板的表面之间的间隔沿水平方向进行变更。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，所述保持部是大致圆锥形状的突起或槽形状。
8.根据权利要求1～7中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，在所述保持部的下侧具备第2保持部，该第2保持部在所述保持部件于所述处理位置保持着所述基板的状态下，在与所述保持槽相比的上方、且在包含所述基板的表面的法线的铅垂方向上的假想面的水平方向的两侧位置处与所述基板抵接，抑制所述基板的旋转。
9.根据权利要求1～8中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，在所述槽内具备：
使所述处理液喷出的喷出管；和
从所述槽的底部供给气泡的气泡供给管。
10.一种基板处理装置，其特征在于，具备：
槽，其贮存处理液，并将平板的基板以立起姿势浸渍而进行处理；
保持部件，其以相对于所述槽能够在所述基板的交接位置与该槽内的处理位置之间升降的方式设置，并具有将所述基板从立起姿势的下方进行保持及载置的凹状的多个保持槽；和
抵接部，其具有尖锐形状的主体，该主体在与处于所述处理位置的所述保持部件的所述保持槽相比的上方、且在与所述槽的深度的中心相比的下侧，具有以与相邻的所述保持槽的间隔相等的间隔分离的顶点，该顶点的方向沿与所述保持槽的长度方向平行的方向延伸。
11.根据权利要求10所述的基板处理装置，其特征在于，所述尖锐形状是圆锥形状或针形状。
12.根据权利要求10或11所述的基板处理装置，其特征在于，在与所述抵接部相比的下侧还具备具有尖锐形状的主体的第2抵接部，该第2保持部的主体具有以与相邻的保持槽的间隔相等的间隔分离的顶点。