一种显示面板及其制备方法、显示装置与流程

[0001]
本申请涉及显示技术领域，更具体地说，涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。


背景技术：

[0002]
目前，在显示面板中集成触控功能的方式主要包括两类，其中一类是在显示面板的显示面上外挂一个触控模组，由于第一类集成触控功能的方式由于需要外置触控模组，不利于显示面板的轻薄化，因此现在主流的触控功能集成方式多为在显示面板内部集成触控电极的方式。
[0003]
但在实际的应用过程中发现，当触控电极集成于显示面板的内部时，触控电极的走线会跨过显示面板内部的边框区域，在制备爬坡位置的走线时，容易导致触控电极的走线出现短路等可靠性问题。


技术实现要素：

[0004]
为解决上述技术问题，本申请提供了一种显示面板及其制备方法、显示装置，以降低触控走线在制备过程中出现短路问题的概率。
[0005]
为实现上述技术目的，本申请实施例提供了如下技术方案：
[0006]
一种显示面板，包括：
[0007]
衬底，所述衬底包括显示区和与所述显示区相邻的台阶区；
[0008]
位于所述台阶区表面的第一围坝和第二围坝，所述第二围坝位于所述第一围坝远离所述显示区一侧，所述第一围坝和第二围坝之间包括第一区域，所述第二围坝远离所述第一围坝一侧包括第二区域，所述第二区域与所述第二围坝毗邻；
[0009]
位于所述衬底上，与所述第一围坝和所述第二围坝同侧的触控走线，位于所述第一区域和所述第二区域中的触控走线的宽度小于位于预设区域的触控走线的宽度。
[0010]
一种显示面板的制备方法，包括：
[0011]
提供衬底，所述衬底包括显示区和与所述显示区相邻的台阶区；
[0012]
形成位于所述台阶区表面的第一围坝和第二围坝，所述第二围坝位于所述第一围坝远离所述显示区一侧，所述第一围坝和第二围坝之间包括第一区域，所述第二围坝远离所述第一围坝一侧包括第二区域；
[0013]
形成位于所述衬底上，与所述第一围坝和所述第二围坝同侧的触控走线，位于所述第一区域和所述第二区域中的触控走线的宽度小于位于预设区域的触控走线的宽度。
[0014]
一种显示装置，包括：如上述任一项所述的显示面板。
[0015]
从上述技术方案可以看出，本申请实施例提供了一种显示面板及其制备方法、显示装置，其中，所述显示面板的衬底包括显示区和台阶区，在所述台阶区上设置有第一围坝和第二围坝，同时所述衬底上还设置有触控走线，所述第一围坝和第二围坝之间包括第一区域，所述第二围坝远离所述第一围坝一侧包括第二区域，位于所述第一区域和所述第二
区域中的触控走线的宽度小于位于预设区域的触控走线的宽度，以降低位于第一区域和第二区域的触控走线在制备过程中由于光刻胶残留的问题导致相邻触控走线粘连或接触等情况的出现概率，降低了所述触控走线在制备过程中出现短路问题的概率。
附图说明
[0016]
为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。
[0017]
图1为本申请的一个实施例提供的一种显示面板的俯视结构示意图；
[0018]
图2为图1中虚线框的放大示意图；
[0019]
图3为图2中沿bb
’
线的一种剖面结构示意图；
[0020]
图4为图2中沿bb
’
线的另一种剖面结构示意图；
[0021]
图5为图2中沿bb
’
线的又一种剖面结构示意图；
[0022]
图6为本申请的一个实施例提供的一种显示面板的剖面结构示意图；
[0023]
图7为本申请的一个实施例提供的一种显示面板第一区域的剖面结构示意图；
[0024]
图8为本申请的另一个实施例提供的一种显示面板第一区域的剖面结构示意图；
[0025]
图9为本申请的又一个实施例提供的一种显示面板第一区域的剖面结构示意图；
[0026]
图10为本申请的再一个实施例提供的一种显示面板第一区域的剖面结构示意图；
[0027]
图11为本申请的一个可选实施例提供的一种显示面板第一区域的剖面结构示意图；
[0028]
图12为本申请的另一个可选实施例提供的一种显示面板第一区域的剖面结构示意图；
[0029]
图13为本申请的一个实施例提供的一种显示面板的制备方法的流程示意图；
[0030]
图14-图15为本申请的一个实施例提供的一种显示面板的制备流程示意图；
[0031]
图16为本申请的另一个实施例提供的一种显示面板的制备方法的流程示意图；
[0032]
图17为本申请的一个实施例提供的一种显示装置的结构示意图。
具体实施方式
[0033]
正如背景技术中所述，在触控电极集成于显示面板内部的方案中，由于触控电极的走线会跨过显示面板内部的边框区域，而边框区域中通常会设置有若干围坝(bank)，这些围坝的制作工序在显示面板的封装层之前，用于对封装层中液态膜层(例如封装油墨)等结构进行阻隔。发明人发现，这些围坝相较于显示面板的其他区域形成了较大的高度差，使得在对金属层进行曝光、显影形成触控走线的过程中，这些围坝之间的区域的光刻胶容易出现曝光不完全的现象，使得这些围坝之间的区域容易出现光刻胶残留的情况，导致残留光刻胶覆盖的金属层无法被刻蚀去除，而相邻触控走线之间的间距通常很小，残留的金属层可能会将相邻的触控走线短路，导致触控走线连接的触控电极无法准确识别操作体触控位置，导致触控模组的功能异常的可靠性问题。
[0034]
为了解决这一问题，发明人经过进一步研究发现，容易出现光刻胶残留的区域一
般为两个围坝之间的区域以及与外围围坝相邻的区域，将位于这些区域的触控走线做窄，可相应增加触控走线之间的间距，有利于降低由于光刻胶残留而导致的残留金属连接相邻触控走线的概率。基于上述思想，发明人提出了一种显示面板的具体结构。
[0035]
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
[0036]
本申请实施例提供了一种显示面板，如图1和图2所示，图1为所述显示面板的台阶区的俯视结构示意图，图2为图1中虚线框的放大示意图，所述显示面板包括：
[0037]
衬底10，所述衬底10包括显示区aa和与所述显示区aa相邻的台阶区。
[0038]
位于所述台阶区表面的第一围坝21和第二围坝22，所述第二围坝22位于所述第一围坝21远离所述显示区一侧，所述第一围坝21和第二围坝22之间包括第一区域111，所述第二围坝22远离所述第一围坝21一侧包括第二区域112，所述第二区域112与所述第二围坝22毗邻。
[0039]
位于所述衬底10上，与所述第一围坝21和所述第二围坝22同侧的触控走线30，位于所述第一区域111和所述第二区域112中的触控走线30的宽度小于位于预设区域113的触控走线30的宽度。
[0040]
在图1中示出的台阶区主要包括扇出(fan-out)区11和弯折(bending)区12，在扇出区11上设置有第一围坝21和第二围坝22，我们通常把第一围坝21远离第二围坝22的部分区域称为有机层净空区1jk1，把第一围坝21和第二围坝22之间的区域称为有机层净空区2jk2，把第二围坝22远离第一围坝21的区域称为有机层净空区3jk3，本实施例中所述的第一区域111即为有机层净空区2jk2，所述第二区域112即为有机层净空区3jk3，在这两个区域中，容易出现光刻胶曝光不完全而导致残留的问题，进而导致残留光刻胶覆盖的金属层无法去除的问题。触控走线30在扇出区11的边缘会通过换线孔40进入弯折区12，弯折区12以弯折的方式弯折到显示面板的背面，实现弯折区12在显示面的“隐藏”。
[0041]
在本实施例中，将位于第一区域111和第二区域112中的触控走线30的宽度设置为小于位于所述预设区域113的触控走线30的宽度有利于增加相邻触控走线30之间的间距，从而降低由于光刻胶残留而导致的残留金属短路相邻触控走线30的概率，有利于保证触控走线30连接的触控电极的正常触控功能，避免触控走线30出现短路问题。
[0042]
所述预设区域113是指除所述第一区域111和所述第二区域112之间的区域，具体包括位于所述第一区域111远离所述第二区域112一侧的区域、位于所述第二区域112远离所述第一区域111一侧的区域以及所述第一围坝21和第二围坝22的表面。
[0043]
对于位于所述第一区域111和所述第二区域112中的触控走线30的具体结构，可以包括两种，参考图3和图4，图3和图4为图2中沿bb
’
线的剖面结构示意图，在图3中，位于所述第一区域111和所述第二区域112中的所述触控走线30经过一次曝光、显影工序制成，位于所述第一区域111和所述第二区域112中的所述触控走线30的宽度小于位于所述预设区域113中的触控走线30的宽度。由于在实际的刻蚀过程中，随着刻蚀深度的进行，刻蚀量逐渐减小，因此，参考图5，图5为图2中沿bb
’
线的剖面结构示意图，所述触控走线30沿垂直于bb
’
线的剖面形状大致为一个上窄下宽的正梯形，在本实施例中，所述触控走线30的宽度可以
是指所述触控走线30的顶面宽度，也可以是指所述触控走线30的底面宽度，还可以是指所述触控走线30的平均宽度。
[0044]
在图4中，位于所述第一区域111和所述第二区域112中的触控走线30包括在所述衬底10上依次层叠设置的第一走线31和第二走线32。
[0045]
所述第一走线31的宽度小于所述第二走线32的宽度，相邻所述第一走线31之间的距离大于相邻所述第二走线32之间的距离。
[0046]
在本实施例中，位于下方的第一走线31通过一次曝光、显影过程制成，相邻第一走线31之间的间距较大，有利于避免光刻胶残留导致的相邻第一走线31的短路问题。在第一走线31制备完成后，在第一走线31上形成另一金属层，对该金属层进行第二次曝光、显影过程，以形成第二走线32，由于第二走线32的高度相对第一走线31较高，位于第二走线32上的光刻胶的高度也相对较高，有利于降低该光刻胶相对于第一围坝21和第二围坝22之间的高度差，有利于避免该光刻胶在曝光过程中曝光不足的问题。在图4所示的实施例中，可以通过控制第一走线31和第二走线32上的光刻胶的曝光量的方式实现对第一走线31和第二走线32的宽度的调节，具体地，对所述第一走线31上的光刻胶的曝光量大于所述第二走线32上的曝光量，从而使得所述第一走线31的宽度较小，而所述第二走线32的宽度较大。
[0047]
另外，在图4所示的实施例中，由于所述第二走线32的宽度较宽，有利于降低位于第一区域111和第二区域112中的触控走线30的电阻，降低触控走线30在传输信号时的损耗。在图4所示的实施例中，位于所述第一区域111和所述第二区域112中的触控走线30的宽度可以是指所述第一走线31和所述第二走线32的平均宽度，也可以是指所述第一走线31的宽度，还可以是指所述第二走线32的宽度。在图3-图5中，还示出了位于衬底10上的层间介质层(inter layer dielectric，ild)13、平坦化层(planarization，pln)14、封装膜层15和电极缓冲层16。
[0048]
下面对位于所述第一区域111和所述第二区域112中的触控走线30的宽度的可选取值进行分析，一般情况下，位于所述第一区域111和所述第二区域112中的触控走线30的宽度越小，相邻所述触控走线30之间的间距越大，越有利于避免光刻胶的残留问题，但宽度过小的触控走线30会导致电阻过大，因此位于所述第一区域111和所述第二区域112中的触控走线30的宽度与位于所述预设区域113中的触控走线30的宽度的差值一般小于5μm，以免引起电阻较大突变。
[0049]
另外，通常情况下，位于预设区域113的触控走线30的宽度的取值范围通常在10～15μm，相应的，位于所述第一区域111和所述第二区域112中的触控走线30的宽度的取值范围可以为5～10μm，该取值范围可以在保证位于所述第一区域111和所述第二区域112中的触控走线30的电阻值相较于位于预设区域113中的触控走线30的电阻值不会发生突变，也可以保证位于所述第一区域111和所述第二区域112中的触控走线30之间的间距在20μm以上，以避免相邻所述触控走线30由于光刻胶残留问题而导致的短路现象。
[0050]
在上述实施例的基础上，在本申请的一个实施例中，如图6所示，图6为所述显示面板的剖面结构示意图，所述显示面板还包括：封装膜层50、第一填充层51和第二填充层52。
[0051]
所述第一填充层51位于所述第一区域111，所述第二填充层52位于所述第二区域112。
[0052]
所述封装膜层50至少覆盖所述第一围坝21背离所述衬底10一侧表面以及所述衬
底10的第一区域111和第二区域112表面。
[0053]
在本实施例中，通过填充所述第一填充层51和第二填充层52减少所述第一区域111和所述第二区域112与所述第一围坝21以及第二围坝22之间的高度差，所述第一填充层51的具体剖面形状可以为矩形，所述第一填充层51的高度可以小于覆盖所述第一围坝21和第二围坝22的封装膜层15的高度，也可以与覆盖所述第一围坝21和第二围坝22的封装膜层15的高度相同(即所述第一填充层51和第二填充层52与覆盖所述第一围坝21和所述第二围坝22的封装膜层15齐平)，此时第一围坝21和第二围坝22上的封装膜层15与第一填充层51和第二填充层52的高度差可以几乎为零，一方面降低触控走线30曝光时光刻胶残留风险，另一方面减少触控走线30经过第一区域111和第二区域112时的段差，有利于降低位于第一区域111和第二区域112中的触控走线30的断线风险。所述第一填充层51和第二填充层52的高度均是指所述第一填充层51和第二填充层52与所述封装膜层50之间在垂直于衬底10方向上与衬底10之间的最大距离，相应的覆盖所述第一填充层51和所述第二填充层52的封装膜层15的高度也是指该部分封装膜层15在垂直于衬底10方向上与衬底10之间的最大距离。
[0054]
所述第二填充层52的具体剖面形状可以为直角三角形或直角梯形，以直角三角形为例，其直角边贴附在第二围坝22上，斜边从靠近第二围坝22的顶面向衬底10方向延伸，以使触控走线30可以从第二围坝22的顶面沿该斜边延伸到第二区域112远离所述第一区域111一侧的区域中，减缓位于第二区域112中的触控走线30与第二围坝22之间的高度差。当然地，所述第二填充层52和第一填充层51的剖面形状还可以为其他形状，只要能够实现上述目的即可。
[0055]
在本实施例中，由于所述第一填充层51和所述第二填充层52的存在，降低了第一围坝21和第二围坝22与第一区域111以及第二区域112之间的高度差，有利于降低曝光时光刻胶残留的概率，因此位于所述第一区域111和第二区域112中的触控走线30与位于预设区域113中的触控走线30的宽度差可以适当减小，有利于降低位于所述第一区域111和第二区域112中的触控走线30与位于预设区域113中的触控走线30的电阻差。
[0056]
可选的，在本申请的一个实施例中，所述第一填充层51和所述第二填充层52均为无机材料层。无机材料的防水性能相较于有机材料更好，因此无机材料层作为所述第一填充层51和第二填充层52不会影响封装膜层50的封装效果，且由于此处并不需要弯曲，应力积累也较小。
[0057]
仍然参考图6，所述封装膜层50可以为薄膜封装(thin-film encapsulation)层，薄膜封装层通常包括三层膜层结构，上下两层膜通常为通过化学气相沉积(chemical vapour deposition，cvd)方法制备的有机膜层(即第一有机膜151和第二有机膜153)，中间膜层通常为喷墨打印(ink jet printing)等方式形成的油墨层152。此外图6中还示出了位于衬上的层间介质层13、平坦化层14、fpc(flexible printed circuit，柔性线路板)60以及在弯折区上的有机膜层17，触控走线30经过第一围坝21和第二围坝22之后，与fpc上的接触焊盘电连接。
[0058]
除了如图6所示的减缓第一区域111和第二区域112与第一围坝21和第二围坝22之间的高度差的方式之外，参考图7、图8、图9、图10、图11和图12，图7-图12为所述显示面板的局部剖面结构示意图，所述显示面板还包括：位于所述第一区域111的缓冲结构70，所述缓冲结构70的高度小于所述第一围坝21的高度，且小于所述第二围坝22的高度。
[0059]
由于所述缓冲结构70的存在，位于第一区域111和第二区域112中的触控走线30可以制备在所述缓冲结构70上，有利于减少触控走线30制备时光刻胶与第一围坝21和第二围坝22的高度差，从而降低光刻胶曝光不完全的概率。
[0060]
对于所述缓冲结构70的具体结构，图7-图12示出了两种可行的结构，参考图7、图8、图9和图10，所述缓冲结构70包括多个第一缓冲单元71。
[0061]
每个所述第一缓冲单元71包括单层有机膜层或两层以上层叠设置的有机膜层。
[0062]
在图7-10中，多个所述第一缓冲单元71间隔设置，每个第一缓冲单元71可以是单层有机膜层，也可以是两层以上层叠设置的有机膜层。所述第一围坝21和第二围坝22均包括两层层叠设置的有机膜层，其中，211和212表示构成所述第一围坝21的有机膜层，221和222表示构成所述第二围坝22的有机膜层，一般情况下，221和212为同种有机材料制备形成的有机膜层。所述第一缓冲单元71中包括的单层有机膜层或两层以上层叠设置的有机膜层的膜层种类可以分别与211、212、221以及222相同。例如，在图7中，三个所述第一缓冲单元71均包括两层层叠设置的有机膜层，其中，面向图7左侧的两个第一缓冲单元71的两层有机膜层的种类与第一围坝21的两层有机膜层的种类以及层叠方式相同，这两个第一缓冲单元21可以与第一围坝21同时形成。图7中右侧的一个第一缓冲单元71的两层有机膜层的种类与第二围坝22的两层有机膜层的种类以及层叠方式相同，该第一缓冲单元21可以与第二围坝22同时形成。在图8和图9中，三个所述第一缓冲单元71均包括单层有机膜层，每个第一缓冲单元71包括的单层有机膜层可以分别为211、212、221、222中的一种，例如在图8中，左侧的两个第一缓冲单元71包括的单层有机膜层的种类与211以及221相同，右侧的一个第一缓冲单元71包括的单层有机膜层的种类与222相同，在图9中，左侧的两个第一缓冲单元71包括的单层有机膜层的种类与211相同，右侧的一个第一缓冲单元71包括的单层有机膜层的种类与221以及212相同。在图10中，两侧的第一缓冲单元71包括层叠的两层有机膜层，左侧的第一缓冲单元71包括的两层有机膜层的层叠方式与第一围坝21中包括的两层有机膜层的种类以及层叠方式相同，右侧的第一缓冲单元71包括的两层有机膜层的层叠方式与第二围坝22中包括的两层有机膜层的种类以及层叠方式相同。中间的第一缓冲单元71包括单层有机膜层，该有机膜层可以与221以及212的有机膜层种类相同。
[0063]
参考图11和图12，所述缓冲结构70包括第二缓冲单元72和至少两个第三缓冲单元73。
[0064]
至少两个所述第三缓冲单元73间隔设置于所述第二缓冲单元72表面。
[0065]
在图11和图12中，可以先形成一层面积较大的第二缓冲单元72作为底层，然后在第二缓冲单元72上形成至少两个第三缓冲单元73，所述第三缓冲单元73的形成材料可以与所述第二缓冲单元72相同，也可以与所述第二缓冲单元72的形成材料不同，在图11中，至少一个所述第三缓冲单元73和所述第二缓冲单元72为同种材料的有机膜层。这样可以使得至少一个所述第三缓冲单元73与所述第二缓冲单元72在同一工序中制备形成，有利于简化缓冲结构70的制备工序。在图12中，第二缓冲单元72的有机膜层的种类与222相同，可与222在同一道工序中形成，第三缓冲单元73则可分别与211、212或221在同一道工序中形成，同样可起到简化缓冲结构70的制备工序的目的。
[0066]
类似的，形成所述第二缓冲单元72和第三缓冲单元73的有机膜层种类可以与形成所述第一围坝21或第二围坝22的有机膜层种类相同，以进一步简化所述缓冲结构70的制备
工序。
[0067]
下面对本申请实施例提供的一种显示面板的制备方法进行描述。相应的，本申请实施例还提供了一种显示面板的制备方法，如图13所示，图13为所述显示面板的制备方法的流程示意图，所述显示面板的制备方法包括：
[0068]
s101：提供衬底10，所述衬底10包括显示区和与所述显示区相邻的台阶区。参考图14，图14为所述衬底10的俯视结构示意图。
[0069]
s102：形成位于所述台阶区表面的第一围坝21和第二围坝22，所述第二围坝22位于所述第一围坝21远离所述显示区一侧，所述第一围坝21和第二围坝22之间包括第一区域111，所述第二围坝22远离所述第一围坝21一侧包括第二区域112。参考图15，图15为所述衬底10经过步骤s102后的俯视结构示意图。
[0070]
s103：形成位于所述衬底10上，与所述第一围坝21和所述第二围坝22同侧的触控走线30，位于所述第一区域111和所述第二区域112中的触控走线30的宽度小于位于预设区域113的触控走线30的宽度。衬底10经过步骤s103后的剖面结构示意图参考图2。
[0071]
如前文所述，所述第一围坝21和第二围坝22的制备工序通常位于封装膜层50之前，即参考图16，图16为所述显示面板的制备方法的流程示意图，所述形成位于所述台阶区表面的第一围坝21和第二围坝22之后，形成所述触控走线30之前，还包括：
[0072]
s104：形成封装膜层50，所述封装膜层50至少覆盖所述第一围坝21背离所述衬底10一侧表面。
[0073]
参考图6，图6中示出了包括所述封装膜层50的显示面板的剖面结构示意图。
[0074]
s105：形成位于所述第一区域111的缓冲结构70，所述缓冲结构70的高度小于所述第一围坝21的高度，且小于所述第二围坝22的高度。
[0075]
参考图7-图10，图7-10中示出了所述缓冲结构70的可行结构示意图。
[0076]
仍然参考图4，当位于所述第一区域111和所述第二区域112中的触控走线30包括在所述衬底10上依次层叠设置的第一走线31和第二走线32时，位于所述第一区域111和所述第二区域112中的触控走线30的制备过程包括：
[0077]
在位于所述衬底10上的第一金属层上形成第一光刻胶层，以所述第一光刻胶层为掩膜对所述第一金属层进行曝光、显影，以获得所述第一走线31；
[0078]
形成位于所述第一走线31背离所述衬底10一侧的第二金属层，在所述第二金属层上形成第二光刻胶层，以所述第二光刻胶层为掩膜对所述第二金属层进行曝光、显影，以获得所述第二走线32，所述第一走线31的宽度小于所述第二走线32的宽度，相邻所述第一走线31之间的距离大于相邻所述第二走线32之间的距离。
[0079]
即在本实施例中，位于下方的第一走线31通过一次曝光、显影过程制成，相邻第一走线31之间的间距较大，有利于避免光刻胶残留导致的相邻第一走线31的短路问题。在第一走线31制备完成后，在第一走线31上形成另一金属层，对该金属层进行第二次曝光、显影过程，以形成第二走线32，由于第二走线32的高度相对第一走线31较高，位于第二走线32上的光刻胶的高度也相对较高，有利于降低该光刻胶相对于第一围坝21和第二围坝22之间的高度差，有利于避免该光刻胶在曝光过程中曝光不足的问题。在图4所示的实施例中，可以通过控制第一走线31和第二走线32上的光刻胶的曝光量的方式实现对第一走线31和第二走线32的宽度的调节，具体地，对所述第一走线31上的光刻胶的曝光量大于所述第二走线
32上的曝光量，从而使得所述第一走线31的宽度较小，而所述第二走线32的宽度较大。
[0080]
相应的，本申请实施例还提供了一种显示装置，如图17所示，图17为所述显示装置a100的结构示意图，所述显示装置a100包括如上述任一实施例所述的显示面板。
[0081]
综上所述，本申请实施例提供了一种显示面板及其制备方法、显示装置，其中，所述显示面板的衬底包括显示区和台阶区，在所述台阶区上设置有第一围坝和第二围坝，同时所述衬底上还设置有触控走线，所述第一围坝和第二围坝之间包括第一区域，所述第二围坝远离所述第一围坝一侧包括第二区域，位于所述第一区域和所述第二区域中的触控走线的宽度小于位于预设区域的触控走线的宽度，以降低位于第一区域和第二区域的触控走线在制备过程中由于光刻胶残留的问题导致相邻触控走线粘连或接触等情况的出现概率，降低了所述触控走线在制备过程中出现短路问题的概率。
[0082]
本说明书中各实施例中记载的特征可以相互替换或者组合，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。
[0083]
对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本申请。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本申请的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本申请将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。