显示面板及其制备方法与流程

本公开涉及显示技术领域，具体地，涉及一种显示面板以及该显示面板的制备方法。

背景技术：

常见的显示装置包括液晶显示面板、发光二极管显示面板等多种不同的种类，其中，发光二极管显示面板具有固态发光、自主发光等优点得到了广泛的应用。

提高显示面板的显示效果一直是本领域所一直追求的。

技术实现要素：

本公开提供一种显示面板、以及该显示面板的制备方法。

作为本公开的第一个方面，提供一种显示面板，所述显示面板包括衬底基板和形成在所述衬底基板上的发光元件层，所述发光元件层包括多个像素，每个像素包括多个子像素，每个子像素中都设置有发光元件，所述显示面板还包括遮光反射层，所述遮光反射层位于所述发光元件层的出光侧，且所述遮光反射层包括多个遮光反射件，所述遮光反射件设置在相邻两个发光元件之间的部分，所述遮光反射件朝向所述子像素的开口的表面为反光面，所述遮光反射层上与所述发光元件相对的部分能够透光。

可选地，所述发光元件层包括像素界定层，所述像素界定层限定多个子像素开口，多个所述发光元件分别设置在多个所述子像素开口中，所述遮光反射件设置在所述像素界定层上。

可选地，所述遮光反射层包括覆盖所述发光元件层的第一透光绝缘层，所述第一透光绝缘层上形成有反射件开口，遮光反射件设置在所述反射件开口中。

可选地，在沿远离所述发光元件层的方向上，所述反射件开口的横截面积逐渐增加；或者

在沿远离所述发光元件层的方向上，所述反射件开口的横截面积逐渐减小。

可选地，所述第一透光绝缘层包括层叠设置的第一无机透光绝缘子层、有机透光绝缘子层和第二无机透光绝缘子层，所述第二无机透光绝缘子层位于所述发光层和所述有机透光绝缘子层之间；或者

所述第一透光绝缘层包括第一无机透光绝缘子层和第二无机透光绝缘子层。

可选地，所述遮光反射件由金属材料制成。

可选地，所述遮光反射件与所述发光元件的阴极电连接。

可选地，所述显示面板还包括层叠设置的第二透光绝缘层、透光填充层和封装层，所述第二透光绝缘层覆盖所述遮光反射层。

可选地，所述显示面板还包括量子点滤光层，所述量子点滤光层设置在所述封装层背离所述透光填充层的一侧。

作为本公开的第二个方面，提供一种显示面板的制备方法，包括：

提供衬底基板；

形成发光元件层，所述发光元件层包括多个像素，每个像素包括多个子像素，每个所述子像素内都设置有发光元件；

形成遮光反射层，所述遮光反射层包括多个遮光反射件，所述遮光反射件设置在相邻两个发光元件之间的部分，所述遮光反射件朝向所述子像素的开口的表面为反光面，所述遮光反射层上与所述发光元件相对的部分能够透光。

附图说明

附图是用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本发明，但并不构成对本发明的限制。在附图中：

图1是本公开所提供的显示面板的一种实施方式的局部示意图；

图2是本公开所提供的显示面板的另一种实施方式的局部示意图；

图3是本公开所提供的显示面板的又一种实施方式的局部示意图；

图4是相关技术中，显示面板进行显示时发生串扰的原理示意图；

图5中所示的是说明本公开所提供的显示面板在显示时不会发生串扰的原理示意图；

图6是遮光反射件的一种实施方式的示意图；

图7是本公开所提供的显示面板的还一种实施方式的局部示意图；

图8是本公开所提供的显示面板的再一种实施方式的局部示意图；

图9是本公开所提供的显示面板的又一种实施方式的局部示意图；

图10是本公开所提供的显示面板的制备方法的流程图。

具体实施方式

以下结合附图对本发明的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明，并不用于限制本发明。

在相关技术中，显示面板的每个像素单元包括多个子像素，如图4所示，每个子像素中均设置有发光元件(例如，发光二极管)发出的光束在一定得角度范围内发散。发光元件与显示面板的封装层之间存在一定距离，一个发光元件发出的光可能会进入相邻的子像素单元中，导致混色、串扰的出现，降低了显示效果。在图4中，具有箭头的线段表示的就是光线传播的方向。

有鉴于此，作为本公开的一个方面，提供一种显示面板，如图1所示，所述显示面板包括衬底基板100和形成在该衬底基板100上的发光元件层200，该发光元件层200包括多个像素，每个像素包括多个子像素，每个子像素内均设置有发光元件。

所述显示面板还包括遮光反射层300，该遮光反射层300位于所述发光元件层的出光侧，且所述遮光反射层包括多个遮光反射件310，且遮光反射件310设置在相邻两个发光元件之间的部分，遮光反射件310朝向所述子像素的开口的表面为反光面，遮光反射层300上与所述发光元件相对的部分能够透光。

遮光反射件310位于发光元件层200的出光侧，如图5中所示，当发光元件发光时，发散角度较大、超出当前发光元件所在的子像素单元的光会照射在遮光反射件310的反光表面上，并由遮光反射件310反射回该发光元件所在的像素子单元，不会进入相邻的像素子单元，进而不会产生串扰，并因此提高了显示效果。

发光元件发出的光中，大角度散射的光也被反射回该发光元件所在的像素子单元，最终能够从相应的像素子单元中出射，提高了发光元件发出光线的利用率，进而提高了显示面板的亮度、降低了显示面板的能耗。

在本公开中，对每个像素单元中子像素的数量并不做特殊的限定。作为一种可选实施方式，一个像素单元中可以包括三个子像素，这三个子像素单元分别为红色子像素、绿色子像素、蓝色子像素。相应地，如图1所示，红色子像素中设置有发光元件211，绿色子像素中设置有发光元件212，蓝色子像素中设置有发光元件213。

在本公开中，对如何设置遮光反射件310并不做特殊的限制，只要能够将遮光反射件310设置在相邻两个发光元件之间、且位于发光层的出光侧即可。作为一种可选实施方式，将遮光反射件310设置在像素界定层220上。在本公开中，发光元件层200包括像素界定层220，该像素界定层220限定多个子像素开口，多个所述发光元件分别设置在多个所述子像素开口中。

将遮光反射件310设置在像素界定层220上可以避免遮光反射层对子像素的开口区造成遮挡，提高显示面板的出光率。

在本公开中，对像素界定层220的具体材料不做特殊的限定。例如，可以利用树脂材料制成像素界定层220。

在本公开中，对遮光反射层300的具体结构不做特殊的限定，只要其包括遮光反射件310、且不影响发光元件正常出光即可。

作为一种可选实施方式，遮光反射层300可以包括通过转印的方式形成在像素界定层220上的多个遮光反射件。

为了便于制造所述遮光反射件，作为一种可选实施方式，遮光反射层300可以包括覆盖发光元件层200的第一透光绝缘层320，第一透光绝缘层320上形成有反射件开口，遮光反射件310设置在所述反射件开口中。

在制作遮光反射层300时，可以先形成第一透光绝缘材料层，然后对所述透光绝缘材料层进行图形化处理，以在所述透光绝缘材料层上形成多个反射件开口，并获得所述第一透光绝缘层。随后，可以在所述反射件开口中设置遮光反射件310。

在本公开中，对遮光反射件310的具体材料不做特殊的限定。例如，可以利用金属材料制成遮光反射件310。相应地，在制作遮光反射层300时，需要在获得了第一透光绝缘层320后，再在第一透光绝缘层320上沉积金属层、并对所述金属层进行图形化处理，最终获得位于所述反射件开口中的遮光反射件310。

在本公开中，对遮光反射件310的具体结构不做特殊的限定。为了实现防止一个子像素中的发光元件发出的光穿过遮光反射件310、进入相邻子像素这一目的，遮光反射件310至少包括侧面部311，该侧面部311从像素界定层220上凸起。

如上文中所述，遮光反射件310可以形成在所述反射件开口中，为了简化构图工艺，只需要去除金属层中位于反射件开口外部的部分即可，相应地，如图6所示，遮光反射件310包括与所述反射件开口的侧壁相贴合的侧面部311和与反射件开口的底壁相贴合的底面部312。在这种实施方式中，遮光反射件310具有顶部开口的盒状结构。

所述反射件开口的形状决定了遮光反射件310的形状。在图1中所示的实施方式中，所述反射件开口的纵界面为矩形。

在图2中所示的实施方式中，所述反射件开口的纵截面为倒梯形，即，在沿远离发光元件层200的方向上，所述反射件开口的横截面积逐渐增加。

在图3中所示的实施方式中，所述反射件开口的纵界面为正梯形，即，在沿远离发光元件层200的方向上，所述反射件开口的横截面积逐渐减小。

在本公开中，对第一透光绝缘层320的具体材料、以及具体结构不做特殊的限定。如图7至图9中所示，第一透光绝缘层320包括层叠设置的第一无机透光绝缘子层321、有机透光绝缘子层322和第二无机透光绝缘子层323。并且，第二无机透光绝缘子层323位于发光元件层200和有机透光绝缘子层322之间。

在本公开中，对第一无机透光绝缘子层321、有机透光绝缘子层322和第二无机透光绝缘子层323的材料、以及厚度均不作特殊的限定。作为一种可选实施方式，第一无机透光绝缘子层321的材料为硅的氧化物和/或硅的氮化物，并且，第一无机透光绝缘子层321的厚度可以在1μm左右(例如，0.5μm至1.5μm之间)；有机透光绝缘子层322的材料为聚丙烯酸酯，并且，有机透光绝缘子层的厚度可以在8μm左右(例如，6μm至10μm之间)；第二无机透光绝缘子层323的材料为硅的氧化物和/或硅的氮化物，并且，第二无机透光绝缘子层323的厚度可以在1μm左右(例如，0.5μm至1.5μm之间)。

当然，本公开并不限于此，作为另一种可选实施方式，第一透光绝缘层320包括第一无机透光绝缘子层321和第二无机透光绝缘子层322。

所述反射件开口形成在第一透光绝缘层320中，在本公开中，对所述反射件开口的深度不做特殊的限定，只要不对像素界定层220造成太多破坏、并破坏子像素单元的结构即可。

在图7中所示的实施方式中，所述反射件开口较浅，并未到达像素界定层220，且所述反射件开口也并未到达形成在像素界定层220表面的阴极层(该阴极层为发光元件的阴极)。在这种实施方式中，反射件开口与发光元件的阴极之间的绝缘材料(即，第二无机透光绝缘子层322的材料)厚度可以在5000埃左右。

在图8中所示的实施方式中，所述反射件开口相对较深，但仍然到达像素界定层220，与图7中所示实施方式的不同之处在于，反射件开口到达了像素界定层220表面的阴极层。

在图9中所示的实施方式中，所述反射件开口相对较深，不仅达到了像素界定层220，还在像素界定层220上也形成了具有一定深度的凹槽。可选地，该凹槽的深度可以在5000埃左右。

可以根据第一透光绝缘层320的厚度、以及结构来确定所述反射件开口的深度。当第一透光绝缘层320包括第一无机透光绝缘子层321、有机透光绝缘子层322和第二无机透光绝缘子层323时，所述反射件开口的深度可以在9.5μm至10.5μm之间。当第一透光绝缘层320包括第一无机透光绝缘子层321、和第二无机透光绝缘子层323时，所述反射件开口的深度可以在1.5μm至2.5μm之间。

在本公开中，对制成遮光反射件311的材料不做特殊的限定，只要能保证遮光反射件311的反射性能即可。作为一种可选实施方式，遮光反射件311由金属材料制成。例如，可以选择金属ag、al、cu中的一种或几种材料制成遮光反射件311。进一步优选地，可以选择ag制成遮光反射件311。在本公开中，对遮光反射件311的厚度也不做特殊的限定，可选地，遮光反射件311的厚度可以在80nm至120nm之间，进一步地，遮光反射件311的厚度可以在100nm左右。

为了不影响各个子像素的开口率，可选地，遮光反射件311在衬底基板上的正投影位于设置该遮光反射件311的像素界定层在所述衬底基板上的正投影的范围内。

在本公开中，所述发光元件可以是发光二极管，相应地，该发光二极管包括阳极、发光层和阴极。为了便于制造，不同发光二极管的阴极可以电连接形成为整面电极。在图8和图9中所示的实施方式中，遮光反射件311与所述发光元件的阴极电连接。在这种情况下，遮光反射件311和发光元件的阴极形成的整体结构的方阻小于单独一层阴极的方阻，因此，将遮光反射件311与发光元件的阴极电连接还可以降低发光元件在发光时的电压降，提高显示面板显示时的均匀性。

具体地，本公开中用作发光元件的发光二极管采用顶发射结构，为了保证透过率，阴极的厚度较薄，通常在12nm左右。金属薄膜的电阻可用方块电阻rs表示，rs满足关系rs＝ρ/d，ρ是材料电阻率，d是薄膜厚度。从rs公式可以看到，金属薄膜厚度越薄，其方块电阻越大。因此在相关技术中，采用顶发射发光二极管显示面板中存在ir-drop问题，并会因此造成中心和边缘驱动电压不一致的问题。

在本公开中，遮光反射件的厚度优选100nm，方块电阻是普通阴极的1/10左右，因此将遮光反射件和阴极搭接可起到辅助阴极的作用，缓解ir-drop问题。

作为一种可选实施方式，所述显示面板还可以包括层叠设置的第二透光绝缘层400、透光填充层500和封装层600，并且，第二透光绝缘层400覆盖遮光反射层300。

第二透光绝缘层400可以对反射遮光件进行封装和保护，避免后续工艺过程对所述反射遮光件造成损坏。

在本公开中，对第二透光绝缘层400的具体材料不做特殊的限定。例如，可以利用硅的氧化物和/或硅的氮化物制成第二透光绝缘层400。作为一种可选实施方式，第二透光绝缘层400的厚度可以在0.5μm至2μm之间。进一步可选地，第二透光绝缘层400的厚度为1μm。

作为一种可选实施方式，所述显示面板还包括量子点滤光层700，该量子点滤光层700设置在封装层600背离所述透光填充层的一侧。量子点滤光层700包括多个量子点滤光块，所述量子点滤光块能够在预定波长的光的激发下发出预定颜色光，以使得所述显示面板实现彩色显示。

为了更好的保护所述显示慢板，所述显示面板还可以包括设置在量子点滤光层700外侧的玻璃盖板800。

在本公开中，对量子点滤光层700的具体结构并不做特殊的限定，只要能够在发光二极管的作用下，使得显示面板实现彩色显示即可。

作为一种可选实施方式，一个像素单元包括三个子像素。三个子像素中设置的发光元件(分别为发光元件211、发光元件212和发光元件213)均为蓝色发光二极管。相应地，量子点滤光层700包括与红色子像素对应的量子点滤光块qd-r、与绿色子像素对应的量子点滤光块qd-g、以及与蓝色子像素对应的透射块710。量子点滤光块qd-r能够在蓝光的激发下发出红光，量子点滤光块qd-g能够在蓝光的激发下发出绿光。

在本公开中，对透射块710的具体材料不做特殊的限定，只要该透射块710可以允许蓝光透过即可。作为一种可选实施方式，透射块710包括透明基体和分散在透明具体中的散射粒子。

如图5中所示，当发光元件211发光时，其发散角较大的光会照射在遮光反射件311上，并由该遮光反射件311进一步反射至量子点滤光块qd-r上，激发量子点滤光块qd-r发出红光。

为了提高显示效果，量子点滤光层700还可以包括黑矩阵710，该黑矩阵710在发光元件层上的正投影位于子像素周围、以将相邻子像素隔开。设置黑矩阵，可以对显示面板的走线、以及遮光反射件进行遮挡，从而实现更好的显示效果。

在本公开中，透光填充层500由透明光学胶制成，其主要作用是将设置有发光元件层200、以及遮光反射层300的衬底基板与封装层600粘结在一起。

下面结合图4和图5对本公开所提供的显示面板的工作原理进行简单介绍。

图4和图5中所示的均是具有量子点滤光层的显示面板，不同之处在于，图5中所示的显示面板还具有遮光反射件310和第二透光绝缘层400。

封装层600由硅的氮氧化物制成，厚度为1μm，折射率为1.8；

透光填充层500由透明光学胶制成，厚度为10μm，折射率为1.5；

第二透光绝缘层400由硅的氮化物制成，厚度为1μm，折射率为1.9；

第一无机透光绝缘子层321由硅的氮化物制成，厚度为1μm，折射率为1.9；

有机透光绝缘子层322由透光树脂制成，厚度为8μm，折射率为1.5；

第二无机透光绝缘子层323由硅的氮氧化物制成，厚度为1μm，折射率为1.8；

遮光反射件310的材料为银。

对于图4中的显示面板，因此光在由第二无机透光绝缘子层323向有机透光绝缘子层322出射时，出射角变大，光线变得发散，并且，光由第一无机透光绝缘子层321向透光填充层500出射时，出射角变大，光线变得发散；同时，由于有机透光绝缘子层322和透光填充层500的厚度更大，因此光在其中传播的距离也远大于无机层中的传播距离，两个因素导致光在经过有机透光绝缘子层322层和透光填充层500之后发散程度变得更大，因此红色量子点滤光块qd-r对应的发光元件211出光在经过第一透光绝缘层和透光填充层500后会有部分进入相邻像素，并激发绿色量子点滤光块qd-g，从而使本应该不发光的绿色子像素发光，造成串色问题，降低色域。

图5中所示的显示面板上，像素界定层上方形成了遮光反射件310，一部分发散的出射光经过遮光反射件310反射重新回到红色子像素内，从而减少了进入相邻像素的出射光，有助于缓解串色问题，提高显示色域和色纯度。

作为本公开的第二个方面，提供一种显示面板的制备方法，其中，如图10所示，所述制备方法包括：

在步骤s110中，提供衬底基板；

在步骤s120中，形成发光元件层，所述发光元件层包括多个像素，每个像素包括多个子像素，每个所述子像素内都设置有发光元件；

在步骤s130中，形成遮光反射层，所述遮光反射层包括多个遮光反射件，所述遮光反射件设置在相邻两个发光元件之间的部分，所述遮光反射件朝向所述子像素的开口的表面为反光面，所述遮光反射层上与所述发光元件相对的部分能够透光。

通过本公开所提供的制备方法可以制得本公开第一方面所提供的显示面板。上文中已经对所述显示面板的工作原理以及有益效果进行了详细描述，这里不再赘述。

在本公开中，对如何具体执行步骤s130不做特殊的限定，可选地，步骤s130可以包括：

形成第一透光绝缘材料层；

对所述第一透光绝缘材料层进行构图工艺，以获得具有反射件开口的第一透光绝缘层；

在所述第一透光绝缘层的反射件开口中形成所述遮光反射件。

作为一种优选实施方式，对所述第一透光绝缘材料层进行构图工艺为干刻工艺。干刻过程中不会引入刻蚀液体，从而能够避免形成有发光元件层的衬底基板与刻蚀液接触，并避免刻蚀液影响发光元件的稳定性。

在本公开中，对如何获得所述遮光反射件不做特殊的限定。

例如，在所述第一透光绝缘层的反射件开口中形成所述遮光反射件的步骤可以包括：

在所述第一透光绝缘层上形成金属层；

对所述金属层进行构图工艺，以获得所述遮光反射件。

当然，也可以直接通过真空蒸镀工艺在所述反射件开口中形成所述遮光反射件。

如上文中所述，第一透光绝缘层可以具有三层结构，也可以具有双层结构。

当所述第一透光绝缘层具有包括第一无机透光绝缘子层、有机透光绝缘子层和第二无机透光绝缘子层的三层结构时，形成第一透光绝缘材料层的步骤可以包括：

通过化学气相沉积形成第二无机透光绝缘材料层；

通过喷墨打印形成有机透光绝缘材料层；

通过化学气相沉积形成第一无机透光绝缘材料层。

当所述第一透光绝缘层具有包括第一无机透光绝缘子层和第二无机透光绝缘子层的时，形成第一透光绝缘材料层的步骤可以包括：

通过化学气相沉积形成第二无机透光绝缘材料层；

通过化学气相沉积形成第一无机透光绝缘材料层。

在本公开中，形成了遮光反射层后，所述方法还可以包括：

形成第二透光绝缘层；

形成透光填充层；

形成封装层；

形成量子点滤光层。

可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本公开的原理而采用的示例性实施方式，然而本公开并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本公开的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本公开的保护范围。