一种半导体真空制程设备的进出料结构的制作方法

文档序号:23871775发布日期:2021-02-05 17:43阅读:52来源:国知局
一种半导体真空制程设备的进出料结构的制作方法

[0001]
本实用新型涉及进出料结构技术领域,具体为一种半导体真空制程设备的进出料结构。


背景技术:

[0002]
晶圆托盘在半导体制程的应用上是必须的装置,而且使用量非常的大,不管晶圆大小或其应用范畴,所有的半导体晶圆制作时,都要用到品圆托盘以固定及容置晶圆,进行多样的半导体制程,而在对其进行输送过程中,则需使用到相应的进出料装置。
[0003]
现今市场上的此类进出料结构种类繁多,基本可以满足人们的使用需求,但是依然存在一定的不足之处,具体问题有以下几点。
[0004]
(1)现有的此类进出料结构不便于对物件进行防护处理,导致其输送过程中易产生滑落的现象,时常困扰着人们;
[0005]
(2)现有的此类进出料结构不便于对转轴部位进行润滑处理,导致其易因磨损产生钝化的现象,进而影响进出料结构的传动效率;
[0006]
(3)现有的此类进出料结构不便于调节输送室的高度,难以使进出料口与外部制程设备保持水平状态,进而影响其输送效果。


技术实现要素:

[0007]
本实用新型的目的在于提供一种半导体真空制程设备的进出料结构,以解决上述背景技术中提出进出料结构不便于对物件进行防护处理、不便于对转轴部位进行润滑处理以及不便于调节输送室高度的问题。
[0008]
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种半导体真空制程设备的进出料结构,包括底座、承载台、进出料口、升降基台和控制面板,所述底座顶端的中心位置处固定有升降基台,且升降基台的上方设有输送室,并且输送室内部的一端设有单向丝杆,单向丝杆的一端与输送室的内壁相铰接,所述单向丝杆表面的一侧螺纹连接有螺旋帽,且螺旋帽顶端的中心位置处安装有支撑架,并且支撑架的顶端设有承载台,所述输送室一侧的外壁上安装有电机,且电机的输出端通过联轴器安装有转轴,转轴远离电机的一端延伸至输送室的内部并与单向丝杆的一端固定连接,并且转轴上方的输送室内壁上设有润滑结构,所述输送室顶部的两外侧壁上皆设有进出料口,进出料口的一端延伸至输送室的内部,且升降基台表面的中心位置处安装有控制面板,控制面板内部单片机的输出端与电机的输入端电性连接。
[0009]
优选的,所述润滑结构的内部依次设有注液口、微型气缸、活塞板、蓄液箱以及出液口,所述转轴上方的输送室内壁上固定有蓄液箱,且蓄液箱底端的一侧设有出液口,出液口的顶端延伸至蓄液箱的内部,以便润滑液经出液口滴落至转轴的外壁。
[0010]
优选的,所述蓄液箱一侧的内壁上设有注液口,注液口的一端延伸至输送室的外部,以便将润滑液注入至蓄液箱的内部进行存储。
[0011]
优选的,所述蓄液箱顶部的中心位置处安装有微型气缸,且微型气缸的底端安装有活塞板,使得蓄液箱内部的气压值发生变化,进而使蓄液箱内部的润滑液由出液口流出。
[0012]
优选的,所述承载台顶端的两侧皆设有侧向凹型板,且相邻侧向凹型板之间的承载台上方安装有两组横杆,并且横杆的底端安装有网栏,网栏远离横杆的一端与承载台的顶端相触碰,以便对承载台顶端的物件进行防护处理。
[0013]
优选的,所述输送室底部的中心位置处设有限位框,且限位框内部的一侧设有限位块,限位块的顶端延伸至限位框的外部并与螺旋帽的底端固定连接,以便对螺旋帽的移动幅度进行限位。
[0014]
优选的,所述升降基台内部的一端设有双向丝杆,双向丝杆的一端与升降基台的内壁相铰接,且升降基台一侧的外壁上安装有转柄,转柄的一端延伸至升降基台的内部并与双向丝杆的一端固定连接,以便带动双向丝杆进行旋转。
[0015]
优选的,所述双向丝杆上方的升降基台内部设有上连板,且上连板顶端的中心位置处固定有立柱,立柱的顶端延伸至升降基台的外部并与输送室的底端固定连接,以便带动输送室进行升降处理。
[0016]
优选的,所述双向丝杆表面的两侧皆螺纹连接有螺母,且螺母顶部的中心位置处设有支撑臂,支撑臂远离螺母的一端与上连板的底部相铰接,以便带动上连板上下移动。
[0017]
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:该半导体真空制程设备的进出料结构不仅避免了进出料结构使用时物件产生滑落的现象,确保了进出料结构使用时的传动效率,而且提高了进出料结构使用时的输送效果;
[0018]
(1)通过设置有侧向凹型板、横杆以及网栏,通过将侧向凹型板设置于承载台顶部的两侧,当物件位于承载台的顶端时,侧向凹型板则会对承载台的两侧进行防护处理,同时因两组侧向凹型板之间的承载台上方设置有两组横杆,且横杆的底端安装有网栏,进而可对物件的两端进行防护处理,从而避免了进出料结构使用时物件产生滑落的现象;
[0019]
(2)通过设置有注液口、微型气缸、活塞板、蓄液箱以及出液口,通过注液口将润滑液注入至蓄液箱的内部,操作控制面板控制微型气缸,使其带动活塞板位于蓄液箱的内部缓慢向下移动,此时蓄液箱内部的气压则会发生变化,并使得蓄液箱内部的润滑液由出液口滴落至转轴的外壁,以便对转轴进行润滑处理,降低其因磨损而产生钝化的现象,从而确保了进出料结构使用时的传动效率;
[0020]
(3)通过设置有升降基台、立柱、支撑臂、上连板、转柄、双向丝杆以及螺母,通过转动转柄,使其带动双向丝杆位于升降基台的内部旋转,此时螺母则会位于双向丝杆的表面向中间滑移,并使其经支撑臂带动上连板下上一端,进而由立柱带动输送室同步上移,以便使进出料口与外部制程设备保持水平状态,从而提高了进出料结构使用时的输送效果。
附图说明
[0021]
图1为本实用新型的正视剖面结构示意图;
[0022]
图2为本实用新型的图1中a处放大结构示意图;
[0023]
图3为本实用新型的润滑结构剖视放大结构示意图;
[0024]
图4为本实用新型的侧向凹型板侧视放大结构示意图;
[0025]
图5为本实用新型的升降基台剖视放大结构示意图。
[0026]
图中:1、底座;2、电机;3、润滑结构;301、注液口;302、微型气缸;303、活塞板;304、蓄液箱;305、出液口;4、侧向凹型板;5、横杆;6、网栏;7、承载台;8、单向丝杆;9、限位框;10、进出料口;11、输送室;12、升降基台;13、转柄;14、控制面板;15、立柱;16、转轴;17、螺旋帽;18、支撑架;19、限位块;20、支撑臂;21、上连板;22、双向丝杆;23、螺母。
具体实施方式
[0027]
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
[0028]
请参阅图1-5,本实用新型提供的一种实施例:一种半导体真空制程设备的进出料结构,包括底座1、承载台7、进出料口10、升降基台12和控制面板14,底座1顶端的中心位置处固定有升降基台12,升降基台12内部的一端设有双向丝杆22,双向丝杆22的一端与升降基台12的内壁相铰接,且升降基台12一侧的外壁上安装有转柄13,转柄13的一端延伸至升降基台12的内部并与双向丝杆22的一端固定连接,以便带动双向丝杆22进行旋转;
[0029]
双向丝杆22上方的升降基台12内部设有上连板21,且上连板21顶端的中心位置处固定有立柱15,立柱15的顶端延伸至升降基台12的外部并与输送室11的底端固定连接,以便带动输送室11进行升降处理;
[0030]
双向丝杆22表面的两侧皆螺纹连接有螺母23,且螺母23顶部的中心位置处设有支撑臂20,支撑臂20远离螺母23的一端与上连板21的底部相铰接,以便带动上连板21上下移动;
[0031]
且升降基台12的上方设有输送室11,输送室11底部的中心位置处设有限位框9,且限位框9内部的一侧设有限位块19,限位块19的顶端延伸至限位框9的外部并与螺旋帽17的底端固定连接,以便对螺旋帽17的移动幅度进行限位;
[0032]
并且输送室11内部的一端设有单向丝杆8,单向丝杆8的一端与输送室11的内壁相铰接,单向丝杆8表面的一侧螺纹连接有螺旋帽17,且螺旋帽17顶端的中心位置处安装有支撑架18,并且支撑架18的顶端设有承载台7,承载台7顶端的两侧皆设有侧向凹型板4,且相邻侧向凹型板4之间的承载台7上方安装有两组横杆5,并且横杆5的底端安装有网栏6,网栏6远离横杆5的一端与承载台7的顶端相触碰,以便对承载台7顶端的物件进行防护处理;
[0033]
输送室11一侧的外壁上安装有电机2,该电机2的型号可为y90s-2,且电机2的输出端通过联轴器安装有转轴16,转轴16远离电机2的一端延伸至输送室11的内部并与单向丝杆8的一端固定连接,并且转轴16上方的输送室11内壁上设有润滑结构3,润滑结构3的内部依次设有注液口301、微型气缸302、活塞板303、蓄液箱304以及出液口305,转轴16上方的输送室11内壁上固定有蓄液箱304,且蓄液箱304底端的一侧设有出液口305,出液口305的顶端延伸至蓄液箱304的内部,蓄液箱304一侧的内壁上设有注液口301,注液口301的一端延伸至输送室11的外部,蓄液箱304顶部的中心位置处安装有微型气缸302,该微型气缸302的型号可为src25,微型气缸302的输入端与控制面板14内部单片机的输出端电性连接,且微型气缸302的底端安装有活塞板303;
[0034]
通过注液口301将润滑液注入至蓄液箱304的内部,操作控制面板14控制微型气缸
302,使其带动活塞板303位于蓄液箱304的内部缓慢向下移动,此时蓄液箱304内部的气压则会发生变化,并使得蓄液箱304内部的润滑液由出液口305滴落至转轴16的外壁,以便对转轴16进行润滑处理,降低其因磨损而产生钝化的现象,确保了进出料结构使用时的传动效率;
[0035]
输送室11顶部的两外侧壁上皆设有进出料口10,进出料口10的一端延伸至输送室11的内部,且升降基台12表面的中心位置处安装有控制面板14,该控制面板14的型号可为gc-1,控制面板14内部单片机的输出端与电机2的输入端电性连接。
[0036]
工作原理:当进出料结构使用时,首先由第一组进出料口10将物件放置于承载台7的顶部,通过将侧向凹型板4设置于承载台7顶部的两侧,当物件位于承载台7的顶端时,侧向凹型板4则会对承载台7的两侧进行防护处理,同时因两组侧向凹型板4之间的承载台7上方设置有两组横杆5,且横杆5的底端安装有网栏6,进而可对物件的两端进行防护处理,避免了进出料结构使用时物件产生滑落的现象,再通过操作控制面板14控制电机2,使其由转轴16带动单向丝杆8旋转,此时限位块19则位于限位框9的内部进行滑移,进而使螺旋帽17位于单向丝杆8的表面滑移并向右滑移,并使其经支撑架18带动承载台7同步平移,以便对物件进行输送处理,之后通过转动转柄13,使其带动双向丝杆22位于升降基台12的内部旋转,此时螺母23则会位于双向丝杆22的表面向中间滑移,并使其经支撑臂20带动上连板21下上一端,进而由立柱15带动输送室11同步上移,以便使进出料口10与外部制程设备保持水平状态,提高了进出料结构使用时的输送效果,最后通过注液口301将润滑液注入至蓄液箱304的内部,操作控制面板14控制微型气缸302,使其带动活塞板303位于蓄液箱304的内部缓慢向下移动,此时蓄液箱304内部的气压则会发生变化,并使得蓄液箱304内部的润滑液由出液口305滴落至转轴16的外壁,以便对转轴16进行润滑处理,降低其因磨损而产生钝化的现象,确保了进出料结构使用时的传动效率,从而完成进出料结构的使用。
[0037]
对于本领域技术人员而言,显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
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