λ/4型电波吸收体的制作方法

λ
/4型电波吸收体
技术领域
1.本发明涉及λ/4型电波吸收体等。


背景技术：

2.近年，移动电话、智能手机等便携通信机器的普及飞速进展，另外在车辆等中也搭载了大量的电子机器，它们产生的电波
·
噪声导致的电波干扰、其他电子机器的故障等问题多有发生。作为防止这样的电波干扰、故障等的对策，各种电波吸收体正在被研究。
3.现有技术文献
4.专利文献
5.专利文献1：日本特开2017
‑
163141号公报


技术实现要素：

6.本发明所要解决的技术问题
7.λ/4型电波吸收体根据使用的装置的部位，需要对曲面具有长期追随性。本发明者在研究的过程中，着眼于以下问题：以往的λ/4型电波吸收体曲面追随性较低，在低温等严酷条件下经过长时间而弯曲时，经常发生因材料疲劳导致的断裂，进而无法保持作为λ/4型电波吸收体的性能的情况。此外，本发明者在推进研究的过程中，还着眼于以下问题：在车辆等用途中，由于会暴露在温度变化的环境下，因此对温度变化环境中的耐久性的要求更高。
8.在专利文献1中，虽然提出了适用于曲面部位的λ/4型电波吸收体，但并没有对在低温等严酷条件下的弯折耐性(低温弯折耐性)进行探讨。
9.因此，本发明的问题是提供一种低温弯折耐性更高的λ/4型电波吸收体。更优选地，本发明的问题是提供一种还进一步具备温度变化环境中的耐久性的λ/4型电波吸收体。
10.解决技术问题的技术手段
11.本发明者在研究的过程中，着眼于以小刀等利器在电介质层上制造龟裂后的、电介质层的修复性，发现通过将其最优化，能够提高低温弯折耐性。并且，基于该发现进一步进行深入研究的结果，本发明者发现，如果是λ/4型电波吸收体，则能够解决所述问题，所述λ/4型电波吸收体具有电阻膜、电介质层以及反射层，且所述电介质层具有自我修复性，该性质如下：将直径0.5mm的针从电波吸收体的与反射层侧相反侧的表面垂直地插入吸收体，贯穿至电波吸收体的背面，贯穿10秒后拔出，在室温下静置7天，静置后，通过彩色3d激光显微镜(vk8710，keyence公司制造，或其同等品)，测定电波吸收体的开孔侧的相互距离5μm的任意1000个点处的孔的深度，从其平均值(孔的平均深度)中减去电波吸收体中除了电介质层以及反射层以外的层的厚度而得到的值小于电介质层的厚度(当电介质层包含多层时，所述电介质层的厚度为多层的厚度之和)的4/5。
12.并且，本发明者发现，如果是包含电阻膜、含有凝胶分数为40～80％的粘接剂的电介质层、以及反射层的λ/4型电波吸收体，则不仅具有低温弯折耐性，还具备温度变化环境
中的耐久性。
13.本发明者基于以上的发现，进一步进行研究的结果，完成了本发明。
14.即，本发明包含下述的方式。
15.1、一种λ/4型电波吸收体，其具有电阻膜、电介质层以及反射层，且所述电介质层具有自我修复性，该性质如下：
16.将直径0.5mm的针从电波吸收体的与反射层侧相反侧的表面垂直地插入吸收体，贯穿至电波吸收体的背面，贯穿10秒后拔出，在室温下静置7天，静置后，通过keyence公司制造的彩色3d激光显微镜vk8710或其同等品，测定电波吸收体的开孔侧的相互距离5μm的任意1000个点处的孔的深度，从其平均值、即孔的平均深度中减去电波吸收体中除了电介质层以及反射层以外的层的厚度而得到的值小于电介质层的厚度的4/5，当电介质层包含多层时，所述电介质层的厚度为多层的厚度之和。
17.2、如项1所述的λ/4型电波吸收体，其中，
18.所述电介质层的剪切储能模量为8
×
105pa以下。
19.3、如项1或2所述的λ/4型电波吸收体，其中，
20.所述电介质层为粘接剂。
21.4、如项1～3中任一项所述的λ/4型电波吸收体，其中，
22.所述电介质层的玻璃化转变温度为
‑
80～30℃。
23.5、如项1～4中任一项所述的λ/4型电波吸收体，其中，
24.所述电介质层为包含凝胶分数为40～80％的粘接剂的电介质层。
25.6、如项5所述的λ/4型电波吸收体，其中，
26.所述电介质层的相对介电常数为1～10。
27.7、如项5或6所述的λ/4型电波吸收体，其中，
28.所述粘接剂含有共聚物，所述共聚物具有来源于碳原子数为2～14的(甲基)丙烯酸烷基酯的结构单元。
29.8、如项7所述的λ/4型电波吸收体，其中，
30.所述共聚物具有来源于烯烃类聚合物的结构单元。
31.9、如项5～8中任一项所述的λ/4型电波吸收体，其中，
32.所述粘接剂以0.15～15％的重量比例含有平均粒径为5～150μm的微粒。
33.10、一种λ/4型电波吸收体，其包含：
34.电阻膜、包含凝胶分数为40～80％的粘接剂的电介质层、以及反射层。
35.11、一种毫米波雷达，其包含项1～10中任一项的λ/4型电波吸收体。
36.12、一种λ/4型电波吸收体用部件，其具有电阻膜以及电介质层，且所述电介质层具有自我修复性，该性质如下：
37.将直径0.5mm的针从电阻膜的与电介质层侧相反侧的表面垂直地插入电波吸收体用部件，贯穿至电波吸收体用部件的背面，贯穿10秒后拔出，在室温下静置7天，静置后，通过keyence公司制造的彩色3d激光显微镜vk8710或其同等品，测定电波吸收体用部件的开孔侧的相互距离5μm的任意1000个点处的孔的深度，从其平均值、即孔的平均深度中减去电波吸收体用部件中除了电介质层以外的层的厚度而得到的值小于电介质层的厚度的4/5，当电介质层包含多层时，所述电介质层的厚度为多层的厚度之和。
38.13、一种λ/4型电波吸收体用部件，其包含：
39.支撑体、电阻膜以及包含凝胶分数为40～80％的粘接剂的电介质层。
40.发明的效果
41.根据本发明，能够提供一种低温弯折耐性更高的λ/4型电波吸收体。且在优选的方式中，能够提供一种具备温度变化环境中的耐久性的λ/4型电波吸收体。
附图说明
42.[图1]是表示本发明的λ/4型电波吸收体的一个例子的概要截面图。
[0043]
[图2]是表示本发明的λ/4型电波吸收体的一个例子的概要截面图。
[0044]
[图3]上方的图是表示本发明的λ/4型电波吸收体用部件的一个例子的概要截面图。下方是表示以与该部件相接的方式而配置的、能够作为反射层而发挥功能的被粘接体的一个例子的概要截面图。
[0045]
[图4]表示本发明的λ/4型电波吸收体的用途的一个例子(介由粘接剂而配置在壳体上的形态的一个例子)概要截面图。
[0046]
本发明的具体实施方式
[0047]
本说明书中，关于“含有”以及“包含”的表达，包含“含有”、“包含”、“实质上包含”以及“只包含”的概念。
[0048]
本发明在一种方式中，涉及一种λ/4型电波吸收体，其具有电阻膜、电介质层、以及反射层，且所述电介质层具有自我修复性，该性质如下：将直径0.5mm的针从电波吸收体的与反射层侧相反侧的表面垂直地插入吸收体，贯穿至电波吸收体的背面，贯穿10秒后拔出，在室温下静置7天，静置后，通过彩色3d激光显微镜(vk8710，keyence公司制造，或其同等品)，测定电波吸收体的开孔侧的相互距离5μm的任意1000个点处的孔的深度，从其平均值(孔的平均深度)中减去电波吸收体中除了电介质层以及反射层以外的层的厚度而得到的值小于电介质层的厚度(当电介质层包含多层时，所述电介质层的厚度为多层的厚度之和)的4/5。此外，本发明在一种方式中，涉及一种λ/4型电波吸收体，其包含：电阻膜、包含凝胶分数为40～80％的粘接剂的电介质层、以及反射层。在本说明书中，有时将它们统称为“本发明的电波吸收体”。以下将对其进行说明。
[0049]
<1.特性>
[0050]
本发明的电波吸收体在一种方式中，具备以下特性：电介质层具有自我修复性[该性质如下：将直径0.5mm的针从电波吸收体的与反射层侧相反侧的表面垂直地插入吸收体，贯穿至电波吸收体的背面，贯穿10秒后拔出，在室温下静置7天，静置后，通过彩色3d激光显微镜(vk8710，keyence公司制造，或其同等品)，测定电波吸收体的开孔侧的相互距离5μm的任意1000个点处的孔的深度，从其平均值(孔的平均深度)中减去电波吸收体中除了电介质层以及反射层以外的层的厚度而得到的值小于电介质层的厚度(当电介质层包含多层时，所述电介质层的厚度为多层的厚度之和)的4/5]。通过具备该特性，能够发挥充分的低温弯折耐性。更具体而言，例如，在低温条件下长时间弯曲时，能够抑制电介质层中的龟裂的发生，将作为λ/4型电波吸收体的性能维持在较高水平。
[0051]
自我修复性，如下所述，可以通过电介质层的储能模量、凝胶分数、tg、分子量、单体组成等进行调整。
[0052]
<2.构成>
[0053]
本发明的电波吸收体具备以下构成：该吸收体具有包含电阻层的电阻膜、电介质层、以及反射层。以下将对各构成进行说明。
[0054]
<2
‑
1.电阻膜>
[0055]
电阻膜只要包含能够在电波吸收体中作为电阻层而发挥功能的层，就无特别限制。
[0056]
电阻膜的表面电阻值无特别限制。电阻膜的表面电阻值，例如为100～800ω/
□
。在该范围中，优选为150～750ω/
□
，更优选为200～600ω/
□
。此外，该表面电阻值，在某一种方式中，例如为100～1000ω/
□
，优选为200～700ω/
□
，更优选为250～600ω/
□
。
[0057]
在本说明书中，表面电阻值可以使用表面电阻计(mitsubishi chemic alanalytech公司制造，商品名“loresta
‑
ep”)，通过四端法进行测定。也可以使用非破坏式(涡电流法)薄层电阻测定器(ec
‑
80p(napson株式会社制造)，或其同等品)进行测定。
[0058]
电阻膜的厚度无特别限制。电阻膜的厚度，例如为1～200nm，优选为2～100nm，更优选为2～50nm。此外，该厚度，在某一种方式中，例如为5～100nm，优选为7～70nm，更优选为10～50nm。
[0059]
电阻膜的层构成无特别限制。电阻膜可以由1种层单独构成，也可以由2种以上的层多层组合而成。
[0060]
<2
‑1‑
1.电阻层>
[0061]
电阻层的电阻值无特别限制。电阻层的电阻值，例如为100～800ω/
□
。在该范围中，优选为150～750ω/
□
，更优选为200～600ω/
□
。此外，该电阻值，在某一种方式中，例如为100～1000ω/
□
，优选为200～700ω/
□
，更优选为250～600ω/
□
。
[0062]
电阻层的厚度无特别限制。电阻层的厚度，例如为1～200nm，优选为2～100nm，更优选为2～50nm。此外，该厚度，在某一种方式中，例如为2～100nm，优选为3～70nm，更优选为5～50nm。
[0063]
电阻层的层构成无特别限制。电阻层可以由1种电阻层单独构成，也可以由2种以上的电阻层多层组合而成。
[0064]
作为电阻层，典型地，可以举出含ito的电阻层、含钼的电阻层等。以下将对这它们进行说明。
[0065]
<2
‑1‑1‑
1.含ito的电阻层>
[0066]
作为电阻层，例如可以使用氧化铟锡(以下称为“ito”)。其中，从非晶质结构极为稳定，在高温高湿的环境下中也能抑制电阻层的薄层电阻的变动这一点来看，可以优选使用含有ito的电阻层，所述ito含有1～40重量％的sno2，更优选含有2～35重量％的sno2。所述ito的含量在电阻层中，例如为50质量％以上，优选为70质量％以上，更优选为90质量％以上，进一步优选95质量％以上，通常小于100质量％。
[0067]
<2
‑1‑1‑
2.含钼的电阻层>
[0068]
作为电阻层，从易于进行耐久性、薄层电阻的调整的观点出发，优选使用含钼的电阻层。钼的含量的下限无特别限定，从进一步提高耐久性的观点出发，优选为5重量％，更优选7重量％，进一步优选9重量％，更进一步优选11重量％，特别优选13重量％，非常优选15重量％，最优选16重量％。另外，所述钼的含量的上限，从表面电阻值的调整的容易化的观
点出发，优选为30重量％，更优选25重量％，进一步优选20重量％。
[0069]
所述电阻层含有钼时，更优选进一步含有镍以及铬。通过使电阻层中除了钼外还含有镍以及铬，能够制得耐久性更优异的电波吸收体。作为含有镍、铬以及钼的合金，例如，可以举出哈氏合金b
‑
2、b
‑
3、c
‑
4、c
‑
2000、c
‑
22、c
‑
276、g
‑
30、n、w、x等各种牌号。
[0070]
所述电阻层含有钼、镍以及铬时，优选钼的含量为5重量％以上、镍的含量为40重量％以上、铬的含量为1重量％以上。通过使钼、镍以及铬的含量在所述范围内，能够制得耐久性更优异的电波吸收体。所述钼、镍以及铬的含量进一步优选为，钼含量为7重量％以上、镍含量为45重量％以上、铬含量为3重量％以上。所述钼、镍以及铬的含量更优选为，钼含量为9重量％以上、镍含量为47重量％以上、铬含量为5重量％以上。所述钼、镍以及铬的含量更进一步优选为，钼含量为11重量％以上、镍含量为50重量％以上、铬含量为10重量％以上。所述钼、镍以及铬的含量特别优选为，钼含量为13重量％以上、镍含量为53重量％以上、铬含量为12重量％以上。所述钼、镍以及铬的含量非常优选为，钼含量为15重量％以上、镍含量为55重量％以上、铬含量为15重量％以上。所述钼、镍以及铬的含量最优选为，钼含量为16重量％以上、镍含量为57重量％以上、铬含量为16重量％以上。另外，所述镍的含量优选为80重量％以下，更优选70重量％以下，再更优选65重量％以下。所述铬含量的上限，优选为50重量％以下，更优选40重量％以下，再更优选35重量％以下。
[0071]
所述电阻层可以含有所述钼、镍以及铬以外的金属。作为这样的金属，例如可以举出铁、钴、钨、锰、钛等。所述电阻层含有钼、镍以及铬时，所述钼、镍以及铬以外的金属的总含量的上限，从电阻层的耐久性的观点出发，优选为45重量％，更优选40重量％，进一步优选35重量％，更进一步优选30重量％，特别优选25重量％，非常优选23重量％。所述钼、镍以及铬以外的金属的总含量的下限，例如为1重量％以上。
[0072]
所述电阻层含有铁时，从电阻层的耐久性的观点出发，含量的优选的上限为25重量％，进一步优选的上限为20重量％，更优选的上限为15重量％，优选的下限为1重量％。所述电阻层含有钴和/或锰时，从电阻层的耐久性的观点出发，分别独立地，含量的优选的上限为5重量％，进一步优选的上限为4重量％，更优选的上限为3重量％，优选的下限为0.1重量％。所述电阻层含有钨时，从电阻层的耐久性的观点出发，含量的优选的上限为8重量％，进一步优选的上限为6重量％，更优选的上限为4重量％，优选的下限为1重量％。
[0073]
所述电阻层也可以含有硅和/或碳。电阻层含有硅和/或碳时，所述硅和/或碳的含量，分别独立地优选为1重量％以下，进一步优选0.5重量％以下。另外，电阻层含有硅和/或碳时，所述硅和/或碳的含量优选为0.01重量％以上。
[0074]
<2
‑1‑
2.阻隔层>
[0075]
从耐久性的观点出发，优选电阻膜进一步包含阻隔层。阻隔层配置在电阻层的至少一个表面上。阻隔层只配置在一面上时，阻隔层优选配置在与电介质层侧相反侧的表面上。以下将对于阻隔层进行详述。
[0076]
阻隔层只要是能够保护电阻层并抑制其劣化的层，就无特别限制。作为阻隔层的原材料，例如可以举出金属化合物、准金属化合物，优选为金属或准金属的氧化物、氮化物、氮氧化物等。阻隔层，只要不显著损害本发明的效果，也可以包含所述原材料以外的成分。此时，阻隔层中的所述原材料量，例如为80质量％以上，优选90质量％以上，更优选95质量％以上，进一步优选99质量％以上，通常小于100质量％。
[0077]
作为阻隔层所包含的金属元素，例如可以举出钛、铝、铌、钴、镍等。作为阻隔层所包含的准金属元素，例如可以举出硅、锗、锑、铋等。
[0078]
作为所述氧化物，例如可以举出以mo
x
[式中，x是满足式：n/100≤x≤n/2(n为金属或准金属的价数)的数，m为金属元素或准金属元素]表示的化合物。
[0079]
作为所述氮化物，例如可以举出以mn
y
[式中，y是满足式：n/100≤y≤n/3(n是金属或准金属的价数)的数，m为金属元素或准金属元素]表示的化合物。
[0080]
作为所述氮氧化物，例如可以举出以mo
x
n
y
[式中，x和y满足：n/100≤x，n/100≤y，并且，x+y≤n/2(n是金属或准金属的价数)，m为金属元素或准金属元素]表示的化合物。
[0081]
关于所述氧化物或氮氧化物的氧化数x，例如可以通过对包含mo
x
或mo
x
n
y
的层的截面，以fe
‑
tem
‑
edx(例如，日本电子公司制“jem
‑
arm200f”)进行元素分析，根据包含mo
x
或mo
x
n
y
的层的截面的单位面积的m和o的元素比算出x，从而算出氧原子的价数。
[0082]
关于所述氮化物或氮氧化物的氮化数y，例如可以通过对包含mn
y
或mo
x
n
y
的层的截面，以fe
‑
tem
‑
edx(例如，日本电子公司制“jem
‑
arm200f”)进行元素分析，根据包含mn
y
或mo
x
n
y
层的截面的单位面积的m和n的元素比算出y，从而算出氮原子的价数。
[0083]
作为阻隔层的原材料的具体例，可以举出：sio2、sio
x
、al2o3、mgal2o4、cuo、cun、tio2、tin、azo(铝掺杂氧化锌)等。
[0084]
阻隔层的厚度无特别限制。阻隔层的厚度，例如为0.1～40nm，优选为0.5～30nm，更优选为1～20nm。该厚度，在某一种方式中，例如为1～200nm，优选为1～100nm，更优选为1～20nm。从生产性的观点出发，该厚度优选为10nm以下。
[0085]
阻隔层的层构成无特别限制。阻隔层可以是由1种阻隔层单独构成，也可以是2种以上的阻隔层多层组合而成。
[0086]
<2
‑
2.电介质层>
[0087]
电介质层，是能够在电波吸收体中针对目标波长发挥作为电介质的功能的层，在一种方式中，如上所述，只要具有自我修复性，就无特别限制，该性质如下：将直径0.5mm的针从电波吸收体的与反射层侧相反侧的表面垂直地插入吸收体，贯穿至电波吸收体的背面，贯穿10秒后拔出，在室温下静置7天，静置后，通过彩色3d激光显微镜(vk8710，keyence公司制造，或其同等品)，测定电波吸收体的开孔侧的相互距离5μm的任意1000个点处的孔的深度，从其平均值(孔的平均深度)中减去电波吸收体中除了电介质层以及反射层以外的层的厚度而得到的值小于电介质层的厚度(当电介质层包含多层时，所述电介质层的厚度为多层的厚度之和)的4/5。作为电介质层，无特别限制，例如可以举出树脂片、粘接剂等。这些中，从更易于使其发挥自我修复性的观点出发，优选粘接剂。
[0088]
此外，电介质层，在某一种方式中，包含含有凝胶分数为40～80％的粘接剂的电介质层。通过该构成，能够发挥在温度变化环境中的耐久性。该凝胶分数优选为50～80％，更优选为50～75％。
[0089]
电介质层的相对介电常数无特别限制。电介质层的相对介电常数例如为1～20。该相对介电常数，从电波吸收性等观点出发，优选为1以上，更优选为1.5以上，进一步优选2以上，更进一步优选为2.1以上。该相对介电常数，从提高宽频带的电波吸收性的观点出发，优选为20以下，更优选为15以下，进一步优选5以下。该相对介电常数，在某一种方式中，例如为0.5～10，优选为0.8～7，更优选为1～5。
[0090]
就电介质层的相对介电常数而言，可以使用网络分析仪、空腔谐振器等，通过空腔谐振器摄动法测定10ghz处的相对介电常数。
[0091]
电介质层的厚度无特别限制，例如为50～2000μm，优选为100～1000μm，更优选为200～800μm。该厚度，在某一种方式中，例如为200～800μm，从温度变化环境中的耐久性等观点出发，优选为300～700μm，更优选为400～600μm。
[0092]
电介质层的厚度可以使用nikon digimicrostandms
‑
11c+nikon digimicro mfc
‑
101进行测定。
[0093]
电介质层的剪切储能模量，从特别易于使其发挥自我修复性的观点出发，优选为1
×
104～8
×
105pa。该剪切储能模量更优选为2
×
104～7
×
105pa，进一步优选3
×
104～6
×
105pa。
[0094]
剪切储能模量可以通过以下的方法进行测定：
[0095]
使用动态粘弹性测定装置(ares
‑
g2(ta instruments公司制造)，或其同等品)，在频率10hz、温度范围
‑
100℃～250℃、升温速度5℃/min的条件下进行测定而得的值。
[0096]
电介质层的玻璃化转变温度，从在低温区域中也特别易于使其发挥自我修复性的观点出发，优选为
‑
80～0℃。该玻璃化转变温度更优选为
‑
75～
‑
1℃，进一步优选
‑
70～
‑
2℃。
[0097]
玻璃化转变温度可以通过以下的方法进行测定。
[0098]
使用动态粘弹性测定装置(ares
‑
g2(ta instruments公司制造)，或其同等品)，在频率10hz、温度范围
‑
100℃～250℃、升温速度5℃/min的条件下进行测定，算出玻璃化转变温度tg。
[0099]
电介质层的层构成无特别限制。电介质层可以由1种电介质层单独构成，也可以由2种以上的电介质层多层组合而成。例如可以举出：只包含粘接剂的电介质层；不具有粘接性的电介质层和包含粘接剂的电介质层叠层而成的电介质层。如为后者，则从更易于使其发挥自我修复性的观点、温度变化环境中的耐久性的观点等出发，相对于电介质层整体的厚度100％，包含粘接剂的电介质层的厚度例如为70％以上，优选为80％以上，更优选为90％以上，进一步优选95％以上，更进一步优选99％以上，小于100％。
[0100]
<2
‑2‑
1.粘接剂>
[0101]
作为粘接剂，无特别限制，例如可以举出：丙烯酸类粘接剂、氨基甲酸酯类粘接剂、聚烯烃类粘接剂、聚酯类粘接剂、乙烯基烷基醚类粘接剂、聚酰胺类粘接剂、橡胶类粘接剂、聚硅氧烷类粘接剂、氟类粘接剂等。其中，从耐候性优异的观点、温度变化环境中的耐久性的观点等出发，优选丙烯酸类粘接剂。
[0102]
作为丙烯酸类粘接剂，无特别限制，从易于使其发挥自我修复性的观点、能够兼顾适于电波吸收体的相对介电常数和厚度的观点出发，优选以下的丙烯酸类粘接剂：
[0103]
含有具有来源于碳原子数为2～14的(甲基)丙烯酸烷基酯的结构单元的(甲基)丙烯酸酯共聚物的丙烯酸类粘接剂。
[0104]
以下将对该丙烯酸类粘接剂进行详述。
[0105]
作为碳原子数为2～14的(甲基)丙烯酸烷基酯，例如，可以举出：(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲
基)丙烯酸2
‑
乙基己酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷基酯、(十二烷基(甲基))丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸十三烷基酯、(甲基)丙烯酸十四烷基酯等。
[0106]
所述碳原子数为2～14的(甲基)丙烯酸烷基酯之中，从玻璃化转变温度(tg)的调整、相溶性等观点出发，可适宜使用具有碳原子数为4～10的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯。所述碳原子数为2～14的(甲基)丙烯酸烷基酯可以单独使用，也可以2种以上组合使用。
[0107]
需要说明的是，“(甲基)丙烯酸酯”是指“丙烯酸酯”或“甲基丙烯酸酯。”[0108]
所述(甲基)丙烯酸酯共聚物中的、来源于碳原子数为2～14的(甲基)丙烯酸烷基酯的结构单元的含量，优选为60～99.9重量％，更优选为80～99.9重量％。
[0109]
所述(甲基)丙烯酸酯共聚物，优选进一步含有来源于含极性基团的乙烯基单体的结构单元。通过具有来源于含极性基团的乙烯基单体的结构单元，能够调整共聚物的tg、粘接性等，进一步而言，能够提高粘接剂的凝聚力、粗糙表面粘接性。作为所述含极性基团的乙烯基单体，例如，可以举出：苯乙烯、α
‑
甲基苯乙烯、邻甲基苯乙烯、对甲基苯乙烯等苯乙烯类单体；乙酸乙烯酯等羧酸乙烯酯；(甲基)丙烯酸、衣康酸等含有乙烯基的羧酸；具有所述乙烯基的羧酸的酸酐；2
‑
羟基乙基(甲基)丙烯酸酯、2
‑
羟基丙基(甲基)丙烯酸酯、4
‑
羟基丁基(甲基)丙烯酸酯、己内酯改性(甲基)丙烯酸酯、聚氧乙烯(甲基)丙烯酸酯、聚氧丙烯(甲基)丙烯酸酯等具有羟基的乙烯基单体；(甲基)丙烯腈、n
‑
乙烯基吡咯烷酮、n
‑
乙烯基己内酰胺、n
‑
乙烯基月桂酸内酰胺、(甲基)丙烯酰基吗啉、(甲基)丙烯酰胺、二甲基(甲基)丙烯酰胺、n
‑
羟甲基(甲基)丙烯酰胺、n
‑
丁氧基甲基(甲基)丙烯酰胺、二甲基氨基甲基(甲基)丙烯酸酯等含有氮的乙烯基单体等。
[0110]
所述含极性基团的乙烯基单体可以单独使用，也可以2种以上组合使用。
[0111]
所述(甲基)丙烯酸酯共聚物中的来源于含极性基团的乙烯基单体的结构单元的含量，从得到的粘接剂的柔软性的观点、剥离力的观点等出发，优选为0.1～20重量％。
[0112]
所述(甲基)丙烯酸酯共聚物，优选进一步含有来源于具有交联性官能团的单体的结构单元。通过含有来源于具有交联性官能团的单体的结构单元，而变得易于调整丙烯酸类粘接剂的凝胶分数。作为具有交联性官能团的单体，可以举出多官能(甲基)丙烯酸酯、具有多个与含极性基团的乙烯基单体的极性基团反应的官能团的化合物等。作为这样的单体，可以举出：己二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化双酚a二(甲基)丙烯酸酯、三(2
‑
羟基乙基)异氰脲酸酯三丙烯酸酯、乙氧基化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、丙氧基化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、丙氧基化三丙烯酸甘油酯、新戊二醇己二酸酯二丙烯酸酯、氨基甲酸酯丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、液态氢化1,2聚丁二烯丙烯酸酯等。其中，含有分子量为400以上的物质，进一步优选800以上物质，从而使得到的粘接剂的粘接性和凝聚力具有优异的平衡。
[0113]
所述(甲基)丙烯酸酯共聚物中的来源于具有交联性官能团的单体的结构单元的含量优选为0.02～5重量份，更优选为0.05～2重量份。
[0114]
作为丙烯酸类粘接剂，从温度变化环境中的耐久性、能够兼顾适于电波吸收体的相对介电常数和厚度的观点等出发，特别优选地举出具备构成(1)的丙烯酸类粘接剂，更优选地举出在(1)的基础上，还具备(2)～(3)中的1个或2个的丙烯酸类粘接剂：
[0115]
(1)含有具有来源于碳原子数为2～14的(甲基)丙烯酸烷基酯的结构单元的(甲
基)丙烯酸酯共聚物。
[0116]
(2)含有具有来源于烯烃类聚合物的结构单元的(甲基)丙烯酸酯共聚物。
[0117]
(3)以0.15～15％的重量比例含有平均粒径为5～150μm的微粒。
[0118]
这样的丙烯酸类粘接剂，例如，可以通过使聚合性组合物进行光聚合而得到，该聚合性组合物包含：碳原子数为2～14的(甲基)丙烯酸烷基酯、在末端具有聚合性不饱和双键的烯烃类聚合物、平均粒径为5～150μm的微粒等。
[0119]
此外，从同样的观点出发，作为丙烯酸类粘接剂，特别优选地举出(a)包含以下丙烯酸类共聚物的丙烯酸类粘接剂等，所述丙烯酸类共聚物是使聚合性组合物进行光聚合而得到的丙烯酸类共聚物，所述聚合性组合物含有：具有碳原子数为2～14的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯、含有含极性基团的乙烯基单体并且以丙烯酸类单体为主要成分的单体成分、在末端具有聚合性不饱和双键的烯烃类聚合物、以及光聚合引发剂。
[0120]
所述(甲基)丙烯酸酯共聚物优选含有来源于烯烃类聚合物的结构单元。
[0121]
作为所述来源于烯烃类聚合物的结构单元中的，聚烯烃类聚合物的具体例，可以举出乙烯
‑
丁烯共聚物、乙烯
‑
丙烯共聚物、乙烯共聚物、丁烯共聚物等。
[0122]
所述(甲基)丙烯酸酯共聚物中的所述来源于烯烃类聚合物的结构单元的含量，优选为0.01～30重量％，特别优选为0.1～25重量％，进一步优选为0.5～20重量％。通过使所述来源于烯烃类聚合物的结构单元的含量在所述范围内，而进一步提高粘接性。此外，凝胶分数的调整变得容易。
[0123]
所述(甲基)丙烯酸酯共聚物如果含有来源于烯烃类聚合物的结构单元，则可通过使来源于所述结构单元的单体与在末端具有聚合性不饱和双键的烯烃类聚合物聚合而合成。
[0124]
作为在末端具有聚合性不饱和双键的烯烃类聚合物，只要在末端具有能够与其他的聚合性单体共聚的双键，且具有以所述聚烯烃类聚合物为主骨架的聚合物结构，就没有特别限制。
[0125]
作为在末端具有聚合性不饱和双键的烯烃类聚合物的市售品，例如，可以举出：kraton polymer japan公司制造“kraton
·
liquid
·
polymer l
‑
1251”以及“kraton
·
liquid
·
polymer l
‑
1253”(主骨架为乙烯
‑
丁烯共聚物)等。
[0126]
所述(甲基)丙烯酸酯共聚物可以进一步含有来源于丙烯酸苄酯、丙烯酸苯氧基乙酯等的结构单元。
[0127]
为了合成所述(甲基)丙烯酸酯共聚物，使得作为所述结构单元的来源的单体和根据需要的其他成分、例如含有在末端具有聚合性不饱和双键的烯烃类聚合物、添加剂等的聚合性组合物，在聚合引发剂的存在下进行聚合即可。聚合方法无特别限制，可以使用以往公知的方法。例如，可以举出：溶液聚合(沸点聚合或定温聚合)、乳液聚合、悬浮聚合、本体聚合等。其中，从后述的各种添加剂的分散性优异的观点出发，优选光聚合。
[0128]
所述聚合引发剂无特别限制，但可适宜使用光聚合引发剂。作为光聚合引发剂，例如，可以举出：4
‑
(2
‑
羟基乙氧基)苯基(2
‑
羟基
‑2‑
丙基)酮[商品名：darocur
‑
2959，merck公司制造]等酮类；α
‑
羟基
‑
α,α
‑
二甲基
‑
苯乙酮[商品名：darocur 1173，merck公司制造]、甲氧基苯乙酮、2,2
‑
二甲氧基
‑2‑
苯基苯乙酮[商品名：irgacure 651，ciba geigy公司制造]、2
‑
羟基
‑2‑
环己基苯乙酮[商品名：irgacure 184，ciba geigy公司制造]等苯乙酮类；苄基
二甲基缩酮等缩酮类；其它可以举出卤化酮、酰基氧化膦、酰基磷酸酯(acyl phosphate)等。
[0129]
这些光聚合引发剂的添加量，相对于作为所述结构单元的来源的单体成分100重量份，优选为0.01～5重量份，更优选为0.03～1.0重量份。
[0130]
光引发剂的添加量，从抑制聚合转化率的降低、抑制得到的聚合物的单体气味的观点出发，优选为0.01重量份以上。此外，从抑制自由基的产生量、防止丙烯酸类共聚物的分子量的降低、得到良好的凝聚力的观点出发，优选为5重量份以下。
[0131]
作为用于光聚合中的光照射的灯类，无特别限制，使用具有光的波长为400nm以下的发光分布的灯类，具体而言，例如，可以举出：低压水银灯、中压水银灯、高压水银灯、超高压水银灯、化学灯、黑光灯、微波激发汞灯、金卤灯等。其中，由于化学灯高效地发射引发剂的活性波长区域的光，同时聚合性组合物中的引发剂以外的成分的光吸收较少，从而使光透射至内部，因此有效。
[0132]
所述灯对光聚合性组合物的光照射强度可以根据目标制品的性能而适宜控制，如果配合一般使用的具有苯乙酮基的裂解型的引发剂，则对引发剂的光分解有效的波长区域(根据引发剂而不同，通常使用365nm～420nm的光)的光强度优选为0.1～100mw/cm2。
[0133]
含有所述(甲基)丙烯酸酯共聚物的丙烯酸类粘接剂也可以配合增粘树脂。作为将所述增粘树脂添加至丙烯酸类粘接剂中的方法，可以在使聚合性组合物聚合后，与其他添加剂一起添加，但优选在将其预先添加至聚合性组合物中之后，照射光进行聚合。
[0134]
将增粘树脂添加至聚合性组合物中进行聚合时，有时会发生聚合速度的降低、分子量的降低等情况，因此适宜使用氢化萜烯树脂、氢化松香、歧化松香树脂、石油树脂等聚合阻碍性低的增粘树脂。
[0135]
特别是，从粘接力增高的观点出发，优选将氢化石油树脂用作粘接赋予树脂。
[0136]
所述增粘树脂的软化点无特别限制，但从凝聚力的观点出发，优选为120℃以上。
[0137]
增粘树脂的添加量相对于所述(甲基)丙烯酸酯共聚物100重量份优选为3～50重量份，进一步优选5～40重量份。通过使增粘树脂的添加量在所述范围内，能够获得粘接力优异的增粘树脂。且能够使粘接剂的耐热性、柔软性也优异。
[0138]
就含有所述(甲基)丙烯酸酯共聚物的丙烯酸类粘接剂而言，优选为了提高粘接性并提高凝聚力而含有平均粒径为5～150μm的微粒。所述微粒优选均匀地分散在丙烯酸类粘接剂中。
[0139]
作为所述微粒，可以举出：玻璃空心微珠、shirasu空心微珠(shirasu bal loon)、粉煤灰空心微珠等无机质中空粒子；包含聚甲基丙烯酸甲酯、丙烯腈
‑
偏二氯乙烯共聚物、聚苯乙烯、酚醛树脂等的有机质中空粒子；玻璃珠、二氧化硅珠、合成云母等无机质微粒；聚丙烯酸乙酯、聚氨酯、聚乙烯、聚丙烯等有机质微粒。
[0140]
所述微粒，优选以在丙烯酸类粘接剂中的重量比例为0.15％以上且15％以下的比例而含有。通过将所述微粒的含量调整至所述范围内，能够在进一步提高粘接性的同时表现出适宜的凝聚力。更优选容积比例为0.2％以上且小于5％。
[0141]
作为将所述微粒添加至丙烯酸类粘接剂中的方法，可以在使聚合性组合物聚合后，与其他添加剂一起添加，但为了使其更均匀地分散，提高添加效果，优选在预先将其添加至聚合性组合物中后，照射光进行聚合。
[0142]
就含有所述(甲基)丙烯酸酯共聚物的丙烯酸类粘接剂而言，为了提高制造时的聚合性组合物的粘度，保持微粒的分散，优选进一步含有亲水性二氧化硅这样的触变性赋予材料。
[0143]
在含有所述(甲基)丙烯酸酯共聚物的丙烯酸类粘接剂中，根据需要，可以添加有各种添加剂。作为所述添加剂，例如，可以举出增塑剂、软化剂、颜料、染料等。
[0144]
含有所述(甲基)丙烯酸酯共聚物的丙烯酸类粘接剂的凝胶分数优选为40～80％。
[0145]
通过使所述凝胶分数在所述范围内，而提高粘接剂的凝聚力、粘接力。此外，更容易发挥作为本发明的特性的自我修复性。并且，能够发挥温度变化环境中的耐久性。凝胶分数的下限更优选为50％，进一步优选为55％，更进一步优选为60％。凝胶分数的上限更优选为75％，进一步优选为70％。
[0146]
所述凝胶分数可以如下进行测定。首先，测定粘接剂的重量a。将该粘接剂在40℃的四氢呋喃中浸渍48小时后，以200目的金属丝网将不溶解部分滤出，在室温下风干2天，测定不溶解部分的干燥重量b。通过下述的公式算出凝胶分数。
[0147]
凝胶分数(％)＝(b/a)
×
100
…
(1)
[0148]
a：丙烯酸类粘接胶带的重量。
[0149]
b：在40℃的四氢呋喃中浸渍48小时后的丙烯酸类粘接胶带的不溶解部分的干燥重量。
[0150]
<2
‑2‑
2.树脂片>
[0151]
树脂片只要是包含树脂作为原材料的片状物，就无特别限制。只要不显著损害本发明的效果，树脂片也可以包含树脂以外的成分。此时，树脂片中的树脂的总量，例如为50质量％以上，优选70质量％以上，更优选90质量％以上，进一步优选95质量％以上，通常小于100质量％。
[0152]
作为树脂，无特别限制，例如优选将乙烯乙酸乙烯酯共聚物(eva)、氯乙烯、氨基甲酸酯、丙烯酸、丙烯酸氨基甲酸酯、聚烯烃、聚乙烯、聚丙烯、聚硅氧烷、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚酯、聚苯乙烯、聚酰亚胺、聚碳酸酯、聚酰胺、聚砜、聚醚砜、环氧树脂等合成树脂、聚异戊二烯橡胶、聚苯乙烯
·
丁二烯橡胶、聚丁二烯橡胶、氯丁二烯橡胶、丙烯腈
·
丁二烯橡胶、丁基橡胶、丙烯酸橡胶、乙烯
·
丙烯橡胶和硅橡胶等合成橡胶材料作为树脂成分使用。它们可以单独使用1种，也可以组合使用2种以上。
[0153]
<2
‑
3.反射层>
[0154]
反射层只要能够在电波吸收体中作为电波的反射层而发挥功能，就无特别限制。作为反射层，无特别限制，例如可以举出金属膜。
[0155]
金属膜只要是包含金属作为原材料的层就无特别限制。只要不显著损害本发明的效果，金属膜也可以包含金属以外的成分。此时，金属膜中的金属的总量，例如为30质量％以上，优选50质量％以上，更优选75质量％以上，进一步优选80质量％以上，更进一步优选90质量％以上，特别优选95质量％以上，非常优选99质量％以上，通常小于100质量％。
[0156]
作为金属，无特别限制，例如可以举出铝、铜、铁、银、金、铬、镍、钼、镓、锌、锡、铌、铟等。另外，金属化合物，例如ito等，也可以作为金属膜的原材料使用。它们可以是单独的1种，也可以是2种以上的组合。
[0157]
反射层的厚度无特别限制。反射层的厚度，例如为1μm以上500μm以下，优选2μm以
上200μm以下，更优选5μm以上100μm以下。
[0158]
反射层的层构成无特别限制。反射层可以是由1种反射层单独构成，也可以是2种以上的反射层多层组合而成。
[0159]
<2
‑
4.支撑体>
[0160]
本发明的电波吸收体优选进一步具有支撑体。由此，能够保护电阻膜，从而能够提高作为电波吸收体的耐久性。支撑体只要是片状的就无特别限制。作为支撑体，无特别限制，例如可以举出树脂基材。
[0161]
树脂基材只要是包含树脂作为原材料的基材，且是片状的，就无特别限制。只要不显著损害本发明的效果，树脂基材也可以包含树脂以外的成分。例如，从调整相对介电常数的观点出发，也可以包含氧化钛等。
[0162]
此时，树脂基材中的树脂的总量，例如为80质量％以上，优选90质量％以上，更优选95质量％以上，进一步优选99质量％以上，通常小于100质量％。
[0163]
作为树脂，无特别限制，例如可以举出聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)、聚萘二甲酸乙二醇酯、改性聚酯等聚酯类树脂、聚乙烯(pe)树脂、聚丙烯(pp)树脂、聚苯乙烯树脂、环状烯烃类树脂等聚烯烃类树脂、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯等乙烯基类树脂、聚乙烯醇缩丁醛(pvb)等聚乙烯醇缩醛树脂、聚醚醚酮(peek)树脂、聚砜(psf)树脂、聚醚砜(pes)树脂、聚碳酸酯(pc)树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、丙烯酸类树脂、三乙酰纤维素(tac)树脂等。它们可以单独使用1种或组合使用2种以上。
[0164]
其中，从生产性、强度的观点出发，优选聚酯类树脂，更优选举出聚对苯二甲酸乙二醇酯。
[0165]
支撑体的相对介电常数无特别限制。支撑体的相对介电常数，例如为1～20，优选1～15，更优选1～10，进一步优选1～5。
[0166]
支撑体的相对介电常数可以以与电介质层的相对介电常数相同的方式进行测定。
[0167]
支撑体的厚度无特别限制。支撑体的厚度，例如为5μm以上500μm以下，优选10μm以上300μm以下，更优选20μm以上300μm以下。
[0168]
支撑体的层构成无特别限制。支撑体可以是由1种支撑体单独构成，也可以是2种以上的支撑体多层组合而成。
[0169]
<2
‑
5.层构成>
[0170]
本发明的电波吸收体的各层以能够发挥电波吸收性能的顺序而进行配置。作为一个例子，电阻膜、电介质层以及反射层以该顺序配置。
[0171]
进一步而言，本发明的电波吸收体具有支撑体时，作为一个例子，支撑体、电阻膜、电介质层以及反射层以该顺序配置。
[0172]
在本发明的电波吸收体中，除了支撑体、电阻膜、电介质层以及反射层之外，也可以包含其他层。其他层可以配置在支撑体、电阻膜、电介质层以及反射层各个层的任一层的表面上。
[0173]
<3.制造方法>
[0174]
本发明的电波吸收体，根据其构成，能够依照或参照各种方法，例如公知的制造方法而获得。例如，可通过包含将电阻膜、电介质层以及反射层依次叠层在支撑体上的工序的方法而得到。
[0175]
叠层方法无特别限制。
[0176]
电阻膜，例如，可通过溅射法、真空蒸镀法、离子镀法、化学蒸镀法、脉冲激光沉积法等而得到。其中，从膜厚控制性的观点出发，优选溅射法。作为溅射法，无特别限定，例如，可以举出直流磁控溅射、高频磁控溅射和离子束溅射等。另外，溅射装置可以是批次式，也可以是卷对卷式。
[0177]
电介质层、反射层，例如可利用电介质层具有的粘接性进行叠层。
[0178]
<4.λ/4型电波吸收体用部件>
[0179]
本发明在一种方式中，涉及一种λ/4型电波吸收体用部件，其具有电阻膜以及电介质层，且所述电介质层具有自我修复性[该性质如下：将直径0.5mm的针从电阻膜的与电介质层侧相反侧的表面垂直地插入电波吸收体用部件，贯穿至电波吸收体用部件的背面，贯穿10秒后拔出，在室温下静置7天，静置后，通过彩色3d激光显微镜(vk8710，keyence公司制造，或其同等品)，测定电波吸收体用部件的开孔侧的相互距离5μm的任意1000个点处的孔的深度，从其平均值(孔的平均深度)中减去电波吸收体用部件中除了电介质层以外的层的厚度而得到的值小于电介质层的厚度(当电介质层包含多层时，所述电介质层的厚度为多层的厚度之和)的4/5]。此外，本发明在一种方式中，涉及一种λ/4型电波吸收体用部件，其包含：支撑体、电阻膜、以及包含凝胶分数为40～80％的粘接剂的电介质层。λ/4型电波吸收体用部件是通过以与被粘接体相接的方式配置来用于形成λ/4型电波吸收体的部件。关于电阻膜、电介质层、自我修复性、其它的构成，与关于本发明的λ/4型电波吸收体的说明相同。
[0180]
<5.用途>
[0181]
本发明的电波吸收体可以用于车辆、道路、人之间相互进行信息通信的高度道路交通系统(its)或用于车辆冲突防止系统中使用的毫米波雷达中以抑制电波干涉、减低噪声。从该观点出发，本发明在一种方式中，涉及包含本发明的电波吸收体的毫米波雷达。
[0182]
此外，作为其它的用途，例如可作为光端机、下一代移动通信系统(5g)、近距离无线传输技术等中的电波对抗部件而使用。
[0183]
本发明的电波吸收体针对的电波的频率，例如为1～150ghz，优选为10～100ghz，更优选为50～90ghz，进一步优选65～90ghz。
实施例
[0184]
以下将基于实施例对本发明进行详细的说明，但本发明不限于这些实施例。
[0185]
(1)粘接剂的制造
[0186]
(参考例1)
[0187]
将丙烯酸2
‑
乙基己酯85重量份、丙烯酸丁酯15重量份、丙烯酸5重量份、2,2
‑
二甲氧基
‑2‑
苯基苯乙酮(irgacure(注册商标)651，basf)0.15重量份、己二醇二丙烯酸酯0.15重量份均匀地混合而制成聚合性组合物。向该聚合性组合物中吹入氮以除去溶解氧。然后，将该聚合性组合物涂布至进行了脱模处理的50μm厚的pet膜的脱模处理面上，接着以使进行了脱模处理的50μm厚的pet膜的脱模处理面与通过所述涂布而形成的粘接剂层相对，且粘接剂层的厚度为0.5mm的方式，重叠进行了脱模处理的pet膜。调整化学灯的灯强度，以使被覆盖侧的pet膜处的紫外线照射强度为5mw/cm2，进行15分钟的紫外线照射，得到了粘接
剂层的厚度为0.5mm的粘接胶带。
[0188]
(参考例2)
[0189]
将丙烯酸2
‑
乙基己酯85重量份、丙烯酸丁酯15重量份、丙烯酸15重量份、2,2
‑
二甲氧基
‑2‑
苯基苯乙酮(irgacure(注册商标)651，basf)0.15重量份、己二醇二丙烯酸酯0.15重量份均匀地混合而制成聚合性组合物。向该聚合性组合物中吹入氮以除去溶解氧。然后，将该聚合性组合物涂布至进行了脱模处理的50μm厚的pet膜的脱模处理面上，接着以使进行了脱模处理的50μm厚的pet膜的脱模处理面与通过所述涂布而形成的粘接剂层相对，且粘接剂层的厚度为0.5mm的方式，重叠进行了脱模处理的pet膜。调整化学灯的灯强度，以使被覆盖侧的pet膜处的紫外线照射强度为5mw/cm2，进行15分钟的紫外线照射，得到了粘接剂层的厚度为0.5mm的粘接胶带。
[0190]
(参考例3)
[0191]
向具备温度计、搅拌机、冷凝管、紫外线照射装置以及粘度计的反应器中，添加丙烯酸2
‑
乙基己酯45质量部、丙烯酸异冰片酯30质量部、4
‑
羟基丁基丙烯酸酯25质量部、增粘树脂(arucon p
‑
140，荒川化学公司制造)30重量份、二甲基氨基丙基丙烯酰胺0.05质量部、2,2
‑
二甲氧基
‑2‑
苯基苯乙酮(ir gacure(注册商标)651，basf)0.05质量部，吹入氮气以除去溶解氧。向反应器内照射紫外线直至粘度(bh粘度计no.5转子，10rpm，测定温度25℃)为约4pa
·
s，以制备所述单体成分的一部分聚合了的粘接剂组合物。向得到的粘接剂组合物的溶液中添加光聚合引发剂(irgacure(注册商标)651，basf公司制造)0.05质量部并搅拌。将得到的溶液涂布至脱模聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的脱模处理面上，接着以使脱模聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的脱模处理面与通过所述涂布而形成的粘接剂层相对，且粘接剂层的厚度为0.5mm的方式，重叠脱模聚对苯二甲酸乙二醇酯膜，用化学灯照射照度为2mw/cm2的紫外线360秒，以得到粘接剂层的厚度为0.5mm的粘接胶带。
[0192]
(参考例4)
[0193]
向具备温度计、搅拌机、冷凝管、紫外线照射装置以及粘度计的反应器中，添加丙烯酸2
‑
乙基己酯45质量部、丙烯酸异冰片酯30质量部、4
‑
羟基丁基丙烯酸酯25质量部、增粘树脂(arucon p
‑
140，荒川化学公司制造)40重量份、二甲基氨基丙基丙烯酰胺0.05质量部、2,2
‑
二甲氧基
‑2‑
苯基苯乙酮(ir gacure(注册商标)651，basf)0.05质量部，吹入氮气以除去溶解氧。向反应器内照射紫外线直至粘度(bh粘度计no.5转子，10rpm，测定温度25℃)为约4pa
·
s，以制备所述单体成分的一部分聚合了的粘接剂组合物。向得到的粘接剂组合物的溶液中添加光聚合引发剂(irgacure(注册商标)651，basf公司制造)0.05质量部并搅拌。将得到的溶液涂布至脱模聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的脱模处理面上，接着以使脱模聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的脱模处理面与通过所述涂布而形成的粘接剂层相对，且粘接剂层的厚度为0.5mm的方式，重叠脱模聚对苯二甲酸乙二醇酯膜，用化学灯照射照度为2mw/cm2的紫外线360秒，以得到粘接剂层的厚度为0.5mm的粘接胶带。
[0194]
(2)λ/4型电波吸收体的制造1
[0195]
(实施例1)
[0196]
作为支撑体，准备了厚度为125μm的混练有氧化钛的聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)膜(相对介电常数3.4)。
[0197]
在所述pet膜上形成了表面电阻值为331ω/
□
的电阻膜(＝阻隔层1/电阻层/阻隔
层2)，方法如下：在所述pet膜上，使用硅靶材，在功率为1.0kw、导入流量为100sccm的ar气体以及流量为10sccm的氧气、压力为0.12pa的条件进行dc脉冲溅射，以此形成了包含二氧化硅的阻隔层(阻隔层1：厚度3.5nm)。接下来，通过dc脉冲溅射在该阻隔层上形成了表面电阻值为331ω/
□
的电阻层。溅射如下进行：将哈氏合金c276用作靶材，功率为0.4kw，导入流量为100sccm的ar气体，并将压力调整至0.12pa。接下来，使用硅靶材在电阻层上，在功率为1.0kw、导入流量为100sccm的ar气体以及流量为10sccm的氧气、压力为0.12pa的条件下进行dc脉冲溅射，从而形成了包含二氧化硅的阻隔层(阻隔层2：厚度2.2nm)。
[0198]
接下来，在形成的电阻膜上，叠层粘接剂(参考例1)构成的电介质(厚度为0.4mm)，在其上叠层厚度为10μm的铝构成的反射层，从而得到了λ/4型电波吸收体。
[0199]
(实施例2～3以及比较例2)
[0200]
变更电阻膜的表面电阻值，并变更粘接剂(实施例2：参考例2，实施例3：参考例3，比较例2：参考例4)，除此之外，以与实施例1相同的方式得到了λ/4型电波吸收体。
[0201]
(比较例1)
[0202]
以与实施例1相同的方式，在pet膜上形成了表面电阻值为340ω/
□
的电阻膜(＝电阻层)。接下来，在形成的电阻膜上介由粘接胶带(丙烯酸双面粘接胶带，厚度30μm，相对介电常数2.6)叠层厚度为0.4mm且相对介电常数的聚碳酸酯构成的电介质，进一步在电介质上介由同样的粘接胶带叠层厚度为10μm的铝构成的反射层，从而得到了λ/4型电波吸收体。
[0203]
(3)λ/4型电波吸收体的制造2
[0204]
(实施例4～12，比较例3)
[0205]
(3
‑
1)电介质层材料的调制
[0206]
依照下述表1所述的配比(a～i)，并以溶解器均匀地混合，从而制作了聚合性组合物。向该聚合性组合物中吹入氮以除去溶解氧。接着，在进行了脱模处理的50μm厚的pet膜上设置厚度为0.5mm的隔膜，将所述聚合性组合物在脱模处理pet上展开之后，弯折该pet膜，脱模处理面以与聚合性组合物相接的方式被覆盖。
[0207]
在该状态下，调整化学灯的灯强度，以使得被覆盖侧的pet膜处的紫外线照射强度为5mw/cm2，进行15分钟的紫外线照射，从而得到了粘接剂层的厚度为500μm的粘接胶带a～i。
[0208]
使用所述得到的粘接胶带，如下所述地测定凝胶分数。结果如表1所示。
[0209]
首先，测定了剥离了聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)制脱模膜的粘接胶带的重量a。将该粘接胶带在40℃的四氢呋喃中浸渍48小时后，用200目的金属丝网滤出不溶解部分，在室温下风干2天，测定了不溶解部分的干燥重量b。通过下述的公式算出凝胶分数。
[0210]
凝胶分数(％)＝(b/a)
×
100
…
(1)
[0211]
a：丙烯酸类粘接胶带的重量。
[0212]
b：在40℃的四氢呋喃中浸渍48小时后的丙烯酸类粘接胶带的不溶解部分的干燥重量。
[0213]
[表1]
[0214][0215]
乙氧基化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯：日本化药公司制造，商品名“sr502”数均分子量692
[0216]
液态氢化1,2聚丁二烯丙烯酸酯：日本曹达公司制造，商品名“teai
‑
1000，”数均分子量2250
[0217]
在末端具有聚合性键的烯烃聚合物：kraton polymer japan公司制造，商品名“hpvm
‑
l1253”[0218]
玻璃空心微珠：东海工业公司制造，商品名“cel
‑
star
·
z
‑
20，”平均粒径67μm，真密度0.17～0.23g/m2[0219]
2,2
‑
二甲氧基
‑2‑
苯基苯乙酮：ciba geigy公司制造，商品名“irgacure 651”[0220]
亲水性二氧化硅：日本aerosil公司制造，商品名“aerosil a
‑
200”[0221]
增粘树脂：氢化石油树脂，软化点100℃品，荒川化学公司制造，商品名“arucon p
‑
100。”[0222]
(3
‑
2)λ/4型电波吸收体的制造
[0223]
(实施例4)
[0224]
作为支撑体，准备了厚度为125μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯(白色pet)膜(相对介电常数3.4)(teijin film solution公司制造，u2l92w)。
[0225]
在所述pet膜上形成了电阻膜(阻隔层1/电阻层/阻隔层2)，方法如下：首先，通过dc脉冲溅射，导入ar和o2的比例调整为1:1的气体，调整至0.2pa，对sio2层(阻隔层1：厚度1nm)进行了成膜。接着，通过dc脉冲溅射，在阻隔层1上形成了厚度为10nm且表面电阻值为340ω/
□
的电阻层。溅射如下进行：使用哈氏合金c
‑
276作为靶材，功率为0.4kw，导入流量为100sccm的ar气体，并将压力调整至0.12pa。最后，以与阻隔层1相同的方法形成了阻隔层2(厚度1nm)。
[0226]
接下来，在形成的电阻膜上叠层厚度为500μm的粘接胶带a(介电常数2.5)构成的电介质，并在电介质上叠层厚度为30μm的铜构成的反射层，得到了λ/4型电波吸收体。
[0227]
(实施例5～12)
[0228]
除了如表1所述地对电介质层的种类进行了变更之外，以与实施例4相同的方式得到了λ/4型电波吸收体。
[0229]
(比较例3)
[0230]
在电阻膜上介由粘接胶带(丙烯酸双面粘接胶带，厚度30μm，相对介电常数3.0)叠层了厚度为400μm且相对介电常数为2.6的聚碳酸酯构成的电介质，并在电介质上介由所述粘接胶带叠层了厚度为30μm的铜构成的反射层，除此之外，以与实施例4相同的方式得到了λ/4型电波吸收体。
[0231]
(4)电介质层的剪切储能模量的测定
[0232]
参考例和聚碳酸酯的剪切储能模量是使用动态粘弹性测定装置(ares
‑
g 2(ta instruments公司制造)，或其同等品)，在频率10hz、温度范围
‑
100℃～250℃、升温速度5℃/min的条件下测定的。
[0233]
(5)电介质层的玻璃化转变温度的测定
[0234]
使用动态粘弹性测定装置(ares
‑
g2(ta instruments公司制造)，或其同等品)，在频率10hz、温度范围
‑
100℃～250℃、升温速度5℃/min的条件下进行测定，算出了玻璃化转变温度tg。
[0235]
(6)电介质层的自我修复性的测定
[0236]
将直径0.5mm的针，从电波吸收体的支撑体的与面对电介质的一侧相反的表面垂直地插入吸收体，贯穿至电波吸收体的背面。贯穿10秒后拔出，在室温下静置7天。静置后，通过彩色3d激光显微镜(vk8710，keyence公司制造，或其同等品)，测定电波吸收体的开孔侧的相互距离5μm的任意1000个点处的孔的深度，以其平均值作为孔的平均深度。从孔的平均深度中减去支撑体的厚度和电阻膜的厚度而得到的值，如果比电介质层的厚度(当电介质层包含多层时，所述电介质层的厚度为多层的厚度之和)的4/5小，则判断为“具有自我修复性。”[0237]
(7)电波吸收性的评价以及低温弯折耐性试验后的电波吸收性
[0238]
使用网络分析仪ms4647b(anritsu公司制造)、自由空间材料测定装置bd1
‑
26.a(keycom公司制造)构成了电波吸收测定装置。使用该电波吸收测定装置，基于jis r1679对得到的λ/4型电波吸收体的55～90ghz频段处的电波吸收量进行测定，对低温弯折耐性试验前的电波吸收性进行了评价。需要说明的是，λ/4型电波吸收体是以电波的入射方向为垂直入射且是从基材侧入射的方式设置的。
[0239]
然后，使电波吸收体在弯折至曲率半径为2mm的状态下，在
‑
18℃下保持24小时。解除弯折后，在25℃下静置1小时，之后，以与低温弯折耐性试验前的电波吸收性评价相同的方式，对电波吸收性进行了评价。
[0240]
根据得到的吸收量，以以下的评价基准对电波吸收性能进行了评价。
[0241]
◎
：测定范围(55～90ghz)中的电波吸收量的最大值为25db以上
[0242]
○
：测定范围中的电波吸收量的最大值小于25db且在20db以上
[0243]
×
：测定范围中的电波吸收量的最大值小于20db。
[0244]
(8)热循环(hc)试验，以及该试验前后的电波吸收性能以及表面电阻的测定
[0245]
对于实施例4～12以及比较例3，还进行了热循环(hc)试验。热循环试验(hc试验)的条件为在
‑
40℃下放置30分钟，接下来升温至125℃放置30分钟，以此作为1次，实施了1000次。
[0246]
(8
‑
1)hc试验前后的表面电阻的测定
[0247]
表面电阻的测定是使用表面电阻计(mitsubishi chemical analytech公司制造，商品名“loresta
‑
ep”)，通过四端法进行的。
[0248]
(8
‑
2)hc试验前后的电波吸收性能的测定
[0249]
电波吸收性能是使用网络分析仪ms4647b(anritsu公司制造)、自由空间材料测定装置bd1
‑
26.a(keycom公司制造)构成电波吸收测定装置来测定的。使用该电波吸收测定装置，基于jis r1679，对λ/4型电波吸收体的55～90ghz频段处的电波吸收量进行了测定，对79ghz处的电波吸收量(db)和显示最大电波吸收量的频率(峰位置)进行了测定。需要说明的是，λ/4型电波吸收体是以电波的入射方向为垂直且是从基材侧入射的方式设置的。
[0250]
对于hc试验后的电波吸收性能和峰位置的偏移，以以下的基准进行评价。
[0251]
[hc试验后的电波吸收性能]
[0252]
○
：hc试验后的79ghz处的电波吸收量为20db以上
[0253]
×
：hc试验后的79ghz处的电波吸收量小于20db。
[0254]
[峰位置的偏移]
[0255]
◎
：hc试验前后的峰位置的偏移小于2ghz
[0256]
○
：hc试验前后的峰位置的偏移为2ghz以上～小于5ghz
[0257]
×
：hc试验前后的峰位置的偏移为5ghz以上。
[0258]
(8
‑
3)有无叠层的剥离
[0259]
通过肉眼观察而确认热循环试验后的电波吸收体，如果叠层体未发生浮起或剥离则评价为“无，”如果发生了则评价为“有。”[0260]
(9)结果
[0261]
结果如表2及表3所示。
[0262]
[表2]
[0263][0264]
[表3]
[0265][0266]
符号的说明
[0267]1ꢀꢀ
支撑体
[0268]2ꢀꢀ
电阻膜
[0269]3ꢀꢀ
电介质层
[0270]4ꢀꢀ
反射层
[0271]5ꢀꢀ
粘接剂层
[0272]6ꢀꢀ
壳体