技术特征：
1.一种基板处理装置，其特征在于，具备：处理槽，其具有贮存处理液的贮存空间，通过在贮存于所述贮存空间的所述处理液中浸渍基板来处理所述基板；基板保持部，其将所述基板以竖立姿势保持在所述贮存空间内；处理液排出部，其设置于由所述基板保持部保持的所述基板的下方侧，向所述贮存空间排出所述处理液，在所述贮存空间内形成所述处理液的流动；以及气泡供给部，其具有在所述贮存空间内配置于由所述基板保持部保持的所述基板的下方侧的配管、和在所述处理液的流动方向从所述配管突出设置的中空状的突出设置部位，且将经由所述配管送往所述突出设置部位的气体从设置于所述突出设置部位的前端的气泡排出口排出，向贮存于所述贮存空间的所述处理液内供给气泡。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，所述突出设置部位具有柱状形状、或越靠前端则外径尺寸越小的前端渐细形状。3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，所述突出设置部位由树脂材料构成。4.根据权利要求3所述的基板处理装置，所述突出设置部位由选自由聚醚醚酮(peek)、全氟烷氧基烷烃(pfa)和聚四氟乙烯(ptfe)组成的组中的至少一者构成。5.根据权利要求3或4所述的基板处理装置，所述突出设置部位的前端经等离子体处理。6.根据权利要求1至5中任一项所述的基板处理装置，所述基板保持部将多个所述基板在水平方向上互相隔开地保持，所述气泡供给部在延伸设置于所述水平方向的所述配管的侧壁沿所述水平方向排列设置多个所述突出设置部位，所述基板与所述突出设置部交替地位于所述水平方向上，各个所述突出设置部位朝向在所述水平方向上相邻的所述基板之间，从所述气泡排出口供给所述气泡。7.根据权利要求1至6中任一项所述的基板处理装置，所述处理槽在处理所述基板期间，使从所述处理液排出部供给的所述处理液从所述贮存空间的上方开口溢流。
技术总结
本发明的基板处理装置具备：处理液排出部，其设置于由基板保持部保持的基板的下方侧，向贮存空间排出处理液，在贮存空间内形成处理液的流动；以及气泡供给部，其具有在贮存空间内配置于由基板保持部保持的基板的下方侧的配管、和在处理液的流动方向从配管突出设置的中空状的突出设置部位，且将经由配管送往突出设置部位的气体从设置于突出设置部位前端的气泡排出口排出，向贮存于贮存空间的处理液内供给气泡。液内供给气泡。液内供给气泡。
技术研发人员：高桥朋宏 武知圭
受保护的技术使用者：株式会社斯库林集团
技术研发日：2020.12.08
技术公布日：2022/8/5