本发明的实施例涉及一种装置以及方法，更详细而言涉及一种显示装置的制造装置以及显示装置的制造方法。
背景技术：
基于移动性的显示装置被广泛使用。作为移动用显示装置，除了移动电话之类的小型电子设备之外，平板pc也被广泛使用。
这样的移动型显示装置支持各种功能。另一方面，显示装置为了向用户提供图像或视频之类的视觉信息而包括显示区域。最近，趋势是随着用于驱动显示装置的其它配件小型化而显示区域在显示装置中所占的比重逐渐增加，也在开发可以从平坦的状态弯曲成具有预定角度的结构。
另一方面，在制造这种显示装置的过程中可能执行研磨母材表面的工艺。
技术实现要素：
本发明的实施例提供一种在研磨工艺中使用的可靠性高的显示装置的制造装置以及显示装置的制造方法。
本发明的一实施例公开一种显示装置的制造装置，所述显示装置的制造装置包括：移动部，包括循环的带、使所述带循环的辊以及能够沿与所述辊的旋转轴方向平行的第一方向移动并防止所述带的偏移的防偏移部；以及研磨头，配置成与所述移动部对应而研磨安放在所述带的第一面的母材的表面，所述防偏移部配置成与所述带的侧面即第二面至少一部分面对。
在一实施例中，可以是，所述防偏移部包括：第一防偏移部以及第二防偏移部，所述第一防偏移部和所述第二防偏移部将所述带置于之间配置。
在一实施例中，可以是，所述防偏移部包括：第一辊，在所述第一方向上与所述第二面至少一部分重叠；第一间距调节部，使所述第一辊移动。
在一实施例中，可以是，所述防偏移部还包括：第一驱动部，使所述第一辊旋转。
在一实施例中，可以是，所述防偏移部配置在所述带的移动方向转换的区域。
在一实施例中，可以是，所述移动部还包括：清洗部，清洗所述带的表面。
在一实施例中，可以是，所述移动部还包括：调节部，配置成与和所述第一面相反的所述带的第三面面对并加压所述带。
在一实施例中，可以是，所述显示装置的制造装置还包括：测量部，观察配置在所述第一面上的对准标记。
在一实施例中，可以是，所述显示装置的制造装置还包括：喷射部，去除配置在所述对准标记上的研磨部件。
在一实施例中，可以是，所述带包括：开口部，被安放所述母材。
本发明的另一实施例公开一种显示装置的制造方法，其特征在于，包括：观察配置在循环的带的第一面的对准标记的步骤；比较所述对准标记的位置和已设定的位置的步骤；如果所述对准标记的位置与已设定的位置不同则用防偏移部调节所述带的位置的步骤，所述防偏移部配置成与所述带的侧面即第二面至少一部分面对。
在一实施例中，可以是，调节所述带的位置的步骤包括：使所述防偏移部向第一方向移动以与所述带接触的步骤。
在一实施例中，可以是，所述防偏移部使所述带向所述第一方向线性移动。
在一实施例中，可以是，所述防偏移部配置在所述带的移动方向转换的区域。
在一实施例中，可以是，所述防偏移部包括：第一辊，与所述第二面至少一部分面对，第一间距调节部，使所述第一辊移动。
在一实施例中，可以是，观察所述对准标记的步骤还包括：去除配置在所述对准标记上的研磨部件的步骤。
在一实施例中，可以是，所述显示装置的制造方法还包括：清洗所述带的表面的步骤。
在一实施例中，可以是，所述显示装置的制造方法还包括：加压与所述第一面相反的所述带的第三面来保持所述带的张力的步骤。
在一实施例中，可以是，所述显示装置的制造方法还包括：在所述第一面安放母材的步骤；以及用研磨头研磨所述母材的一面的步骤。
在一实施例中，可以是，所述带包括：开口部，被安放母材。
(发明效果)
如上所述，本发明的实施例可以通过所述防偏移部精确地调节安放有母材的带。因此，可以提供可靠性高的显示装置的制造装置。
另外，可以提供在利用所述显示装置的制造装置制造显示装置时执行可靠性高的研磨工艺的显示装置的制造方法。
附图说明
图1是示出根据本发明的一实施例的显示装置的制造装置的主视图。
图2是概要示出显示装置的制造装置中的一部分的主视图。
图3是概要示出显示装置的制造装置中的移动部的俯视图。
图4是放大图2的ⅳ部分的放大图。
图5a以及图5b是示出根据本发明的另一实施例的移动部的一部分的俯视图。
图6a是示出图1中所示的显示装置的制造装置的运转方法的主视图。
图6b是示出图1中所示的显示装置的制造装置的运转方法的俯视图。
图7以及图8是示出图1中所示的显示装置的制造装置的运转方法的主视图。
图9是概要示出通过根据本发明的一实施例的显示装置的制造装置来制造的显示装置的俯视图。
图10是概要示出通过根据本发明的一实施例的显示装置的制造装置来制造的显示装置的截面图。
(附图标记说明)
s1、s2、s3：第一面、第二面、第三面
100：显示装置的制造装置
120、120-1、120-2：移动部
121op：开口部
121：带
122：辊
122x：旋转轴
123：驱动部
124：防偏移部
124a、124b、124c：第一辊，第一驱动部、第一间距调节部
126、126-1、126-2：清洗部
125：调节部
126：清洗部
140：研磨头
160：测量部
170：喷射部
具体实施方式
本发明可以进行各种变换并可以具有各种实施例，特定实施例例示在附图中，在详细的说明中进行详细说明。本发明的效果和特征以及实现它们的方法参照与附图一起详细后述的实施例而会得到明确。但是，本发明不限于以下公开的实施例，可以以各种形式实现。
以下，参照所附的图，详细说明本发明的实施例，在参照附图说明时，相同或对应的构成要件赋予相同的附图标记，省略对其的重复说明。
在以下的实施例中，第一、第二等用语不是限定性的含义，用于将一个构成要件区分于其它构成要件的目的。
在以下的实施例中，单数的表达只要在文脉上没有明确表示为不同，包含多个的表达。
在以下的实施例中，包括或具有等用语意指存在说明书中记载的特征或构成要件，并不预先排除附加一个以上的其它特征或构成要件的可能性。
在以下的实施例中，当表述为膜、区域、构成要件等部分在其它部分之上或上时，不仅包括直接在其它部分之上的情况，还包括其它膜、区域、构成要件等介于其中间的情况。
在附图中，为了便于说明，可能放大或缩小构成要件其尺寸。例如，由于在附图中出现的各构成的尺寸和厚度是为了便于说明而任意呈现，因此本发明并不是必须限于如图所示的。
在某实施例能够不同地实现的情况下，特定的工艺顺序可以与说明的顺序不同地执行。例如，连续说明的两个工艺也可以实质上同时执行，可以以与说明的顺序相反的顺序进行。
在以下的实施例中，当表述为膜、区域、构成要件等被连接时，不仅包括膜、区域、构成要件被直接连接的情况，还包括膜、区域、构成要件中间介入有其它膜、区域、构成要件而间接连接的情况。例如，当在本说明书中表述为膜、区域、构成要件等被电连接时，不仅包括膜、区域、构成要件等被直接电连接的情况，还包括其中间介入有其它膜、区域、构成要件等而间接电连接的情况。
图1是示出根据本发明的一实施例的显示装置的制造装置100的主视图。图2是概要示出显示装置的制造装置100中的一部分的主视图。图3是概要示出显示装置的制造装置100中的移动部120的俯视图。图4是放大图2的ⅳ部分的放大图。
参照图1至图4，显示装置的制造装置100可以包括：投入部110、移动部120、研磨头140、输送部150。
在一实施例中，母材m可以从外部供应并安放在投入部110。在另一实施例中，可以省略投入部110而将母材m直接安放在移动部120。然而，以下将母材m从外部供应并安放在投入部110的情况作为中心进行详细说明。
投入部110可以包括投入支承部111、投入辊112以及投入驱动部113。
投入支承部111可以包括彼此连接的多个框架。所述多个框架中的至少一个可以固定到地面、建筑物内面等而固定投入支承部111。
投入辊112可以可旋转地配置在投入支承部111。投入辊112可以具备多个，多个投入辊112可以彼此隔开地配置在投入支承部111。
投入驱动部113可以与投入辊112连接而使投入辊112旋转。投入驱动部113可以与多个投入辊112中的至少一个连接。在一实施例中，投入驱动部113可以包括马达，投入驱动部113可以具备多个并分别配置在各投入辊112。在另一实施例中，投入驱动部113可以包括与多个投入辊112连接的链条、与链条连接而使链条旋转的链轮、与链轮连接的马达。在又另一实施例中，投入驱动部113可以包括与多个投入辊112单独连接而使各投入辊112旋转或者与多个投入辊112中的一部分或者全部连接而使多个投入辊112同时旋转的所有装置及结构。然而，以下，为了便于说明，将投入驱动部113配置在各投入辊112而使各投入辊112旋转的情况作为中心进行详细说明。
移动部120可以提供用于研磨从投入部110供应的母材m的区域。移动部120可以包括循环的带121、使带121循环的辊122、驱动辊122的驱动部123、防止带121的偏移的防偏移部124、加压带121的调节部125以及清洗带121的表面的清洗部126。
带121可以通过辊122来旋转，可以根据辊122的旋转来改变位置。在一实施例中，带121可以包括被安放母材m的开口部121op。此时，开口部121op可以与带121的第一面s1相对应地配置，开口部121op的形状可以对应于母材m的形状。在另一实施例中，可以在带121的表面包括防护部。此时，所述防护部可以配置在带121的第一面s1上，母材m可以插入所述防护部中。但是，为了便于说明，将带121包括开口部121op的情况作为中心进行详细说明。
开口部121op的深度d1可以小于或相似于母材m的厚度d2。优选的是，开口部121op的深度d1可以相同于母材m的厚度d2。因此，当研磨头140研磨母材m的边缘部分时，利用带121和母材m之间的台阶，可以防止研磨头140的压力集中到母材m的边缘部分的现象。
当母材m安放在带121上时，开口部121op可以指定母材m的位置。在此，指定位置的含义意指，由于母材m插入开口部121op中，即使在进行研磨的期间，母材m的位置也不由于研磨工艺而相对于带121相对改变。因此，母材m的表面可以进行均匀的研磨。
带121可以在被安放母材m的第一面s1包括对准标记am。在一实施例中，对准标记am可以将激光照射到带121的第一面s1来形成。在另一实施例中，对准标记am可以附着在带121的第一面s1上来形成。
对准标记am可以在第一面s1配置为多个。在此情况下，在一实施例中，对准标记am可以以一定的间距配置。可以由要后述的测量部160观察具备在带121中的对准标记am来判断带121的偏移与否，可以掌握对准标记am的位置而将母材m投入到移动部120。另外，测量部160可以观察对准标记am之间的间距来判断带121的拉长程度。
对准标记am可以具备各种形状。例如，对准标记am可以是十字架形状。作为另一例，对准标记am可以是四边形、多边形、圆形形状。此时，对准标记am的宽度可以是50μm。在另一实施例中，对准标记am的宽度既可以是50μm以下，或者也可以是50μm以上。
在一实施例中，带121可以包括多个层。例如，带121可以包括第一层121a以及第二层121b。第一层121a可以是与辊122接触的层，第二层121b可以是被配置母材m的层。此时，开口部121op的深度d1可以小于第二层121b的厚度t1。
第一层121a可以包含纤维(fiber)材质。例如，可以包含聚氨酯纤维等。第二层121b可以包含耐化学性优异的材质。例如，第二层121b可以包含不饱和聚酯(upe)以及特氟龙(teflon)中的至少一个。第二层121b的上表面可以通过研磨头140进行研磨工艺，优选以耐化学性、耐磨性优异的材质具备。
在另一实施例中，带121可以是单层。在这种情况下，带121可以包含耐化学性优异的材质。例如，带121可以包含不饱和聚酯(upe)以及特氟龙(teflon)中的至少一个。
辊122可以旋转而使带121循环。例如，辊122可以以旋转轴122x为中心旋转。辊122可以具备为多个，多个辊122可以配置成彼此隔开而使带121的张力保持为一定。
驱动部123可以包括马达等，并可以配置在辊122而使辊122以旋转轴122x为中心旋转。此时，驱动部123可以配置在多个辊122中的至少一个上。
防偏移部124可以防止带121的偏移。防偏移部124可以将带121置于之间而配置。例如，第一防偏移部124a和第二防偏移部124b可以将带121置于之间而配置。具体地，第一防偏移部124a以及第二防偏移部124b可以沿着第一方向(例如，y方向或者-y方向)配置。
防偏移部124可以配置在带121的移动方向转换的区域r。此时，带121的移动方向转换的区域r可以被定义为带121向第二方向(例如，x方向或者-x方向)循环之后改变成与第二方向相反的方向(例如，-x方向或者x方向)的区域。或者，带121的移动方向转换的区域r可以被定义为带121向与第二方向相反的方向循环之后改变成第二方向的区域。此时，防偏移部124可以配置成与辊122相邻。例如，第一防偏移部124a和第三防偏移部124c可以沿着与第一方向交叉的第二方向(例如，x方向或者-x方向)配置。由于防偏移部124配置在带121的两端，可以防止带121的偏移。
防偏移部124可以配置成与带121的侧面即第二面s2至少一部分面对。此时，第二面s2可以被定义为除了第一面s1以及与第一面s1相反的第三面s3之外的带121的面。因此，防偏移部124可以引导带121能够以一定的路径循环。另外，由于防偏移部124可以与并非第一面s1的第二面s2接触，可以防止第一面s1的损伤。
防偏移部124可以向与辊122的旋转轴122x平行的第一方向(例如，y方向或者-y方向)移动。特别是，防偏移部124可以向第一方向线性移动。另一方面，第一防偏移部124a以及第二防偏移部124b可以独立地移动。例如，第一防偏移部124a以及第二防偏移部124b可以向相同的方向移动。作为另一例，第一防偏移部124a以及第二防偏移部124b可以向彼此相反的方向移动。
防偏移部124可以包括第一辊124a、第一驱动部124b以及第一间距调节部124c。
第一辊124a可以在第一方向(例如，y方向或者-y方向)上与带121的第二面s2至少一部分重叠。另外，第一辊124a可以可旋转地配置。在一实施例中，第一辊124a可以与辊122接触。在另一实施例中，第一辊124a可以与辊122隔开配置。在一实施例中，第一辊124a可以向与辊122相反方向旋转。例如，可以是，当辊122在图2中向顺时针方向旋转时，第一辊124a在图2中向逆时针方向旋转。
第一驱动部124b可以使第一辊124a旋转。与驱动部123类似地，第一驱动部124b可以包括马达等，并可以配置在第一辊124a。
第一间距调节部124c可以使第一辊124a移动。第一间距调节部124c可以与第一辊124a连接而使第一辊124a线性移动。例如，第一间距调节部124c可以使第一辊124a向第一方向(例如，y方向或者-y方向)移动。第一间距调节部124c可以以各种形式具备。例如，第一间距调节部124c可以包括气缸。作为另一例，第一间距调节部124c可以包括滚珠丝杠和与滚珠丝杠连接的马达。作为又另一例，第一间距调节部124c也可以包括直线马达。如上所述，第一间距调节部124c可以包括能够使第一辊124a线性移动的所有装置以及所有结构。
调节部125可以加压带121的第三面s3。此时，调节部125可以配置成与第三面s3面对。即，调节部125可以配置在多个辊122之间。调节部125可以与第三面s3接触，并可以加压带121而保持带121的张力。此时，由于调节部125不加压带121的第一面s1，可以防止第一面s1的损伤。在一实施例中，调节部125可以具备至少一个。调节部125可以包括第二辊125a、第二驱动部125b以及第二间距调节部125c1、125c2。
第二辊125a可以可旋转地配置，第二驱动部125b可以与第二辊125a连接而使第二辊125a旋转。与第一驱动部124b类似地，第二驱动部125b可以包括马达等。
第二间距调节部125c1、125c2可以使第二辊125a移动。第二间距调节部125c1、125c2可以与第二辊125a连接而使第二辊125a线性移动。与第一间距调节部124c类似地，第二间距调节部125c1、125c2可以包括能够使第二辊125a线性移动的所有装置以及所有结构。
在一实施例中，第二间距调节部125c1、125c2可以包括第一部分125c1以及第二部分125c2。此时，第一部分125c1使第二辊125a线性移动的方向和第二部分125c2使第二辊125a线性移动的方向可以不同。例如，第一部分125c1可以使第二辊125a向与第一方向和/或第二方向交叉的第三方向(例如，z方向或者-z方向)移动。第二部分125c2可以使第二辊125a向第二方向(例如，x方向或者-x方向)移动。
清洗部126可以清洗带121的表面。在一实施例中，清洗部126可以包括第三辊126a、第三驱动部126b、第三间距调节部126c、第一清洗辊126d、第二清洗辊126e。
第三辊126a、第三驱动部126b、第三间距调节部126c与第二辊125a、第二驱动部125b、第二间距调节部125c1、125c2类似，因此省略详细的说明。另一方面，第三辊126a可以在第一清洗辊126d清洗带121的表面的期间支承带121以及第一清洗辊126d。
在本实施例中，第一清洗辊126d以及第二清洗辊126e可以分别旋转。第一清洗辊126d以及第二清洗辊126e可以分别与驱动部连接并旋转。
第一清洗辊126d的表面以及第二清洗辊126e的表面可以彼此接触。此时，第一清洗辊126d以及第二清洗辊126e可以向彼此不同的方向旋转。例如，可以是，第一清洗辊126d在图2中向逆时针方向旋转时，第二清洗辊126e在图2中向顺时针方向旋转。
第一清洗辊126d可以清洗带121的表面。具体地，第一清洗辊126d可以与带121接触而吸附残留在带121表面的研磨部件。另外，第二清洗辊126e可以吸附吸附在第一清洗辊126d的研磨部件。此时，第二清洗辊126e的吸附力可以大于第一清洗辊126d的吸附力。因此，由于即使研磨部件被第一清洗辊126d的表面吸附，第二清洗辊126e也可以同时吸附吸附在第一清洗辊126d的表面的研磨部件，可以保持第一清洗辊126d的吸附力。
在一实施例中，清洗部126可以包括第三清洗辊126f以及第四清洗辊126g。此时，第三清洗辊126f以及第四清洗辊126g可以分别与第一清洗辊126d以及第二清洗辊126e类似地配置。
第三清洗辊126f以及第四清洗辊126g可以配置在带121的移动方向转换的区域r。在此情况下，辊122可以在第三清洗辊126f清洗带121的表面的期间支承第三清洗辊126f。因此，可以不需要具备用于支承第三清洗辊126f的单独的第三辊126a、第三驱动部126b以及第三间距调节部126c。
在一实施例中，可以是，清洗部126包括第三辊126a、第三驱动部126b、第三间距调节部126c、第一清洗辊126d至第四清洗辊126g的全部。在一部分实施例中，可以包括第三辊126a、第三驱动部126b、第三间距调节部126c、第一清洗辊126d以及第二清洗辊126e，而不包括第三清洗辊126f以及第四清洗辊126g。在一部分实施例中，可以是，可以包括第三清洗辊126f以及第四清洗辊126g，而不包括第三辊126a、第三驱动部126b、第三间距调节部126c、第一清洗辊126d以及第二清洗辊126e。以下，为了便于说明，将包括第三辊126a、第三驱动部126b、第三间距调节部126c、第一清洗辊126d以及第二清洗辊126e且不包括第三清洗辊126f以及第四清洗辊126g的情况作为中心进行详细说明。
移动部120可以还包括配置在带121的母材支承部127。母材支承部127可以在母材m的表面研磨时支承母材m。此时，母材支承部127可以配置在多个辊122之间以与研磨头140对应。这种母材支承部127可以以板形式具备。
研磨头140可以配置成与移动部120对应。例如，研磨头140可以配置在带121的第一面s1上。此时，研磨头140可以向各种方向移动。例如，研磨头140可以向图1的x方向、y方向以及z方向中的至少一个方向移动。
研磨头140可以包括研磨头主体部141、研磨头旋转部142、研磨垫143以及研磨驱动部144。
在一实施例中，研磨头主体部141可以与研磨驱动部144连接而进行线性运动。在另一实施例中，研磨头主体部141可以与研磨驱动部144连接而进行往复振动运动。以下，将研磨头主体部141与研磨驱动部144连接而进行线性运动的情况作为中心进行详细说明。
研磨头旋转部142可以可旋转地连接于研磨头主体部141。此时，在研磨头旋转部142可以连接研磨垫143。
研磨垫143可以配置在研磨头旋转部142上，并具备板形式而研磨母材m的表面。
研磨驱动部144可以包括配置在研磨头主体部141内部而使研磨头旋转部142旋转的第一研磨驱动部144a以及与研磨头主体部141连接而使研磨头主体部141线性运动的第二研磨驱动部144b。
在一实施例中，第一研磨驱动部144a可以包括与研磨头旋转部142连接而使研磨头旋转部142旋转的马达。在另一实施例中，第一研磨驱动部144a可以包括配置在与研磨头旋转部142连接而使研磨头旋转部142旋转的马达和研磨头旋转部142之间的减速器。
第二研磨驱动部144b可以使研磨头主体部141线性运动。此时，第二研磨驱动部144b可以具备至少一个。例如，第二研磨驱动部144b可以具备为多个，各第二研磨驱动部144b可以使图1的x方向、y方向、z方向中的一个研磨头主体部141线性运动。在这种情况下，第二研磨驱动部144b可以以各种形式具备。例如，第二研磨驱动部144b可以包括气缸。作为另一例，第二研磨驱动部144b也可以还包括滚珠丝杠和与滚珠丝杠连接的马达。作为又另一例，第二研磨驱动部144b也可以还包括直线马达。如上所述，第二研磨驱动部144b可以包括与研磨头主体部141连接而能够使研磨头主体部141向各种方向线性运动的所有装置以及所有结构。
在一实施例中，输送部150可以传送母材m而向外部送出。在另一实施例中，可以是，省略输送部150，母材m在移动部120中直接向外部送出。然而，以下，将母材m从输送部150向外部送出的情况作为中心进行详细说明。
输送部150可以配置成与移动部120隔开来传送研磨后的母材m。输送部150可以包括输送支承部151、输送辊152以及输送驱动部153。此时，输送支承部151、输送辊152以及输送驱动部153可以与投入支承部111、投入辊112以及投入驱动部113相同或类似地具备。
显示装置的制造装置100可以还包括测量部160以及喷射部170。
测量部160可以观察配置在第一面s1上的对准标记am。另外，测量部160可以观察配置在第一面s1上的母材m。在一实施例中，测量部160可以具备为多个。此时，测量部160可以分别观察多个对准标记am以及母材m。由此，可以观察带121的偏移程度、带121的表面状态以及母材m是否与开口部121op对应地配置。测量部160可以是相机之类的摄像装置。
喷射部170可以去除配置在对准标记am上的研磨部件。例如，在测量部160观察对准标记am之前，在对准标记am上可以配置研磨部件。研磨部件可能妨碍测量部160观察对准标记am。此时，喷射部170可以喷射气体来去除配置在对准标记am上的研磨部件。喷射部170可以是鼓风机(airblower)。
图5a以及图5b是示出根据本发明的另一实施例的移动部的一部分的俯视图。在图5a以及图5b中，与图2相同的附图标记是指相同部件，因此省略重复的说明。
参照图5a，移动部120-1可以包括带121、辊122、驱动部123、清洗部126-1、母材支承部127。
清洗部126-1可以清洗带121。清洗部126-1可以包括固定辊126a-1、清洗容器126b-1、清洗调节部126c-1以及洗涤液去除部126d-1。
固定辊126a-1可以将带121向清洗容器126b-1引导。由此，带121可以在清洗容器126b-1中与洗涤液接触。固定辊126a-1可以旋转。另外，在固定辊126a-1可以连接驱动部。
清洗容器126b-1可以贮存清洗液。清洗容器126b-1可以与清洗调节部126c-1连接而调节清洗液。例如，清洗调节部126c-1可以调节清洗容器126b-1内部的清洗液的量。另外，清洗调节部126c-1可以更换清洗液。
洗涤液去除部126d-1可以去除残留在带121的洗涤液。例如，洗涤液去除部126d-1可以是处于与带121接触的刀。作为另一例，洗涤液去除部126d-1可以是使洗涤液蒸发的蒸发器或者吸收洗涤液的吸收器。
参照图5b，移动部120-2可以包括带121、辊122、驱动部123、清洗部126-2、母材支承部127。
清洗部126-2可以清洗带121。此时，带121可以具备成贯通清洗部126-2。在一实施例中，清洗部126-2可以包括刷子。此时，可以利用所述刷子去除研磨部件。在另一实施例中，清洗部126-2可以朝向带121喷射洗涤液。此时，洗涤液可以是水(water)。在一部分实施例中，清洗部126-2可以还包括去除洗涤液的洗涤液去除部(未图示)。
另一方面，以下，详细说明显示装置的制造装置100的运转。
图6a是示出图1中所示的显示装置的制造装置100的运转方法的主视图。图6b是示出图1中所示的显示装置的制造装置100的运转方法的俯视图。图7以及图8是示出图1中所示的显示装置的制造装置100的运转方法的主视图。
参照图6a以及图6b，可以观察在循环的带121的第一面s1配置的对准标记am。此时，测量部160可以观察对准标记am。测量部160可以具备为多个，多个测量部160可以观察多个对准标记am。例如，多个测量部160可以观察第一对准标记am1、第二对准标记am2、第三对准标记am3以及第四对准标记am4。因此，可以掌握循环的带121的偏移与否、带121的表面状态或者带121是否被拉长等。
当测量部160观察对准标记am时，可以去除配置在对准标记am上的研磨部件。具体地，喷射部170可以将喷射部件a喷射到带121的表面而去除所述研磨部件。此时，喷射部件a可以是空气。例如，当所述研磨部件配置在对准标记am上时，喷射部170可以将喷射部件a喷射到带121的第一面s1上而去除所述研磨部件。因此，测量部160可以容易地观察对准标记am。
之后，可以比较对准标记am的位置和已设定的位置。例如，可以将第一对准标记am1的位置以及第二对准标记am2的位置与已设定的第一对准标记am1的位置以及已设定的第二对准标记am2的位置分别进行比较来判断带121的偏移与否。另外，可以将第三对准标记am3的位置以及第四对准标记am4的位置与已设定的第三对准标记am3的位置以及已设定的第四对准标记am4的位置分别进行比较来判断带121的偏移与否。作为另一例，可以将第一对准标记am1的位置以及第三对准标记am3的位置与已设定的第一对准标记am1的位置以及已设定的第三对准标记am3的位置分别进行比较来判断带121是否被拉长。
之后，如果对准标记am的位置与所述已设定的位置不同，则可以用防偏移部124调节带121的位置。具体地，防偏移部124可以向第一方向(例如，y方向或者-y方向)移动以与带121接触。此时，第一防偏移部124a以及第二防偏移部124b可以独立地移动。例如，在图6b中，在第一防偏移部124a停止的状态下，第二防偏移部124b可以向y方向或者-y方向移动。作为另一例，在第二防偏移部124b停止的状态下，第一防偏移部124a可以向y方向或者-y方向移动。作为又另一例，第一防偏移部124a以及第二防偏移部124b可以向相同的方向或相反方向移动。
防偏移部124可以使带121向第一方向(例如，y方向或者-y方向)移动。此时，使带121向第一方向移动的含义意指使得配置在带121的移动方向转换的区域中的带121的一部分向第一方向移动。或者，也可以意指使带121整体地向第一方向移动。由此，当带121的循环路径因外部因素而改变了时，防偏移部124可以恢复带121的循环路径。
另外，可以加压带121的第三面s3来保持带121的张力。具体地，调节部125可以加压带121的第三面s3。因此，可以保持带121的张力。在本实施例中，带121可以通过辊122循环，并与研磨头140接触。因此，带121的长度在执行研磨工艺的期间可能被拉长。此时，调节部125可以加压带121的第三面s3来保持带121的张力。由于调节部125与带121的第一面s1不接触，可以防止第一面s1的损伤。
母材m可以以各种方式从外部配置到投入部110。例如，母材m可以通过机械臂向投入部110传送。作为另一例，也可以是用户通过额外的器具将母材m手动供应到投入部110。
母材m也可以直接配置在投入部110或者以安放在额外的承载部件(未图示)的状态配置在投入部110。在这种情况下，所述承载部件可以是包括玻璃等的板形式。以下，为了便于说明，将母材m直接配置在投入部110的情况作为中心进行详细说明。
母材m可以是各种形式。例如，母材m可以在制造单个显示装置(未图示)时使用。作为另一例，母材m可以在制造多个显示装置时使用。在这种情况下，可以是，在母材m形成多个显示区域(未图示)后，分离成多个以与各显示区域对应。
母材m可以包含各种材质。母材m可以包含玻璃，或聚醚砜(polyethersulfone)、聚芳酯(polyarylate)、聚醚酰亚胺(polyetherimide)、聚萘二甲酸乙二醇酯(polyethylenenaphthalate)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(polyethyleneterephthalate)、聚苯硫醚(polyphenylenesulfide)、聚酰亚胺(polyimide)、聚碳酸酯(pc)、三醋酸纤维素(tac)、醋酸丙酸纤维素(celluloseacetatepropionate)等之类的高分子树脂。
测量部160可以观察母材m而引导投入驱动部113和驱动部123彼此联动。若驱动部123运转，则辊122可以旋转的同时使带121旋转。
母材m可以从投入部110向移动部120传送。母材m可以安放在带121上，特别是，母材m可以配置成与开口部121op对应。此时，测量部160可以观察母材m而引导母材m安放在开口部121op。因此，母材m的位置可以相对于带121相对不变。
参照图7，驱动部123可以运转成使母材m排列在已设定的位置。在这种情况下，母材m可以配置在研磨头140的下面。
在一实施例中，可以中止驱动部123的运转来固定母材m的位置。之后，第一研磨驱动部144a以及第二研磨驱动部144b可以运转而使研磨头140线性运动的同时研磨母材m的一面。在另一实施例中，在保持驱动部123的运转的状态下，可以研磨母材m的一面。在此情况下，母材m可以沿着规定的路径(例如，x方向)移动的同时研磨母材m的一面。
在执行研磨的期间或执行研磨之前，可以将研磨部件p向母材m的一面供应。此时，研磨部件p可以以各种方式供应。例如，研磨部件p可以通过研磨头140供应到母材m。具体地，研磨部件p可以通过在研磨头140内部形成的流道从外部供应。此时，在研磨垫143可以具备供应研磨部件p的孔。作为另一例，研磨部件p也可以通过按照研磨头140单独具备的研磨部件供应部180供应到母材m的一面。此时，研磨部件供应部180可以以喷嘴形式具备。以下，为了便于说明，将研磨部件供应部180相对于研磨头140单独具备而在研磨头140的运转之前将研磨部件p供应到母材m的情况作为中心进行详细说明。
研磨部件p可以包含去离子水(diw，de-lonizedwater)、表面活性剂(surfactant)以及浆料(slurry)。
参照图8，母材m的一面完成研磨，可以将母材m向输送部150传送。此时，测量部160可以掌握母材m的位置来引导驱动部123以及输送驱动部153彼此联动。
另外，可以清洗带121的表面。具体地，可以去除残留在带121的表面的研磨部件p。在一实施例中，清洗部126可以包括第三辊126a、第三驱动部126b、第三间距调节部126c、第一清洗辊126d以及第二清洗辊126e。此时，第一清洗辊126d可以清洗带121的表面。第二清洗辊126e可以与第一清洗辊126d连接而吸附吸附在第一清洗辊126d的研磨部件。在这种情况下，第一清洗辊126d以及第二清洗辊126e可以向彼此不同的方向旋转。在另一实施例中，清洗部126可以包括图5a中所示的固定辊126a-1、清洗容器126b-1、清洗调节部126c-1以及洗涤液去除部126d-1而清洗带121。在又另一实施例中，如图5b所示，可以是，带121具备成贯通清洗部126-2，清洗部126-2清洗带121。
在本实施例中，显示装置的制造装置100可以具备防偏移部124而精密地调节被安放母材m的带121。因此，可以使母材m的一面均匀地平坦化。
图9是概要示出通过根据本发明的一实施例的显示装置的制造装置来制造的显示装置的俯视图。
参照图9，显示装置1包括实现图像的显示区域da和不实现图像的非显示区域nda。显示装置1可以利用从配置在显示区域da中的多个像素px发射的光来提供图像。各像素px可以分别发射红色、绿色、蓝色或白色的光。
显示装置1作为显示图象的装置，可以是游戏机、多媒体设备、超小型pc之类可携带的移动设备。要后述的显示装置1可以包括液晶显示装置(liquidcrystaldisplay)、电泳显示装置(electrophoreticdisplay)、有机发光显示装置(organiclightemittingdisplay)、无机el显示装置(inorganiclightemittingdisplay)、场致发射显示装置(fieldemissiondisplay)、表面传导电子发射显示装置(surface-conductionelectron-emitterdisplay)、量子点显示装置(quantumdotdisplay)，等离子显示装置(plasmadisplay)、阴极射线显示装置(cathoderaydisplay)等。以下，作为通过根据本发明的一实施例的显示装置的制造装置来制造的显示装置1，将有机发光显示装置作为例子进行说明，但是本发明的实施例可以用于制造如前面所述那样的各种方式的显示装置。
像素px可以分别与扫描线sl以及数据线dln电连接。可以是，扫描线sl可以向x方向延伸，数据线dln向y方向延伸。
图10是概要示出通过根据本发明的一实施例的显示装置的制造装置来制造的显示装置的截面图。
参照图10，在基板10上可以配置显示层dl、薄膜封装层tfe。显示层dl可以包括像素电路层pcl以及显示要件层del。
基板10可以包含玻璃，或聚醚砜(polyethersulfone)、聚芳酯(polyarylate)、聚醚酰亚胺(polyetherimide)、聚萘二甲酸乙二醇酯(polyethylenenaphthalate)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(polyethyleneterephthalate)、聚苯硫醚(polyphenylenesulfide)、聚酰亚胺(polyimide)、聚碳酸酯(pc)、三醋酸纤维素(tac)、醋酸丙酸纤维素(celluloseacetatepropionate)等之类的高分子树脂。
在显示层dl和基板10之间可以还包括阻挡层(未图示)。阻挡层作为防止外部异物渗透的阻挡层，可以是包含氮化硅(sinx，x>0)、氧化硅(siox，x>0)之类的无机物的单层或多层。
在基板10上配置像素电路层pcl。图10示出像素电路层pcl包括薄膜晶体管tft以及配置在薄膜晶体管tft的构成要件之下和/或之上的缓冲层11、第一栅极绝缘层13a、第二栅极绝缘层13b、层间绝缘层15以及平坦化绝缘层17。
缓冲层11可以包含氮化硅、氮氧化硅以及氧化硅之类的无机绝缘物，可以是包含前述的无机绝缘物的单层或多层。
可以是，薄膜晶体管tft包括半导体层12，半导体层12包含多晶硅。或者，半导体层12可以包含非晶(amorphous)硅，或包含氧化物半导体，或包含有机半导体等。半导体层12可以包括沟道区域12c、分别配置在沟道区域12c的两侧的漏极区域12a以及源极区域12b。栅极电极14可以与沟道区域12c重叠。
栅极电极14可以包含低电阻金属物质。栅极电极14可以包含包括钼(mo)、铝(al)、铜(cu)、钛(ti)等的导电物质，可以形成为包含上述材料的多层或单层。
半导体层12和栅极电极14之间的第一栅极绝缘层13a可以包含氧化硅(sio2)、氮化硅(sinx)、氮氧化硅(sion)、氧化铝(al2o3)、氧化钛(tio2)、氧化钽(ta2o5)、氧化铪(hfo2)或者氧化锌(zno)等之类的无机绝缘物。
第二栅极绝缘层13b可以具备成覆盖所述栅极电极14。与所述第一栅极绝缘层13a类似地，第二栅极绝缘层13b可以包含氧化硅(sio2)、氮化硅(sinx)、氮氧化硅(sion)、氧化铝(al2o3)、氧化钛(tio2)、氧化钽(ta2o5)、氧化铪(hfo2)或者氧化锌(zno)等之类的无机绝缘物。
在第二栅极绝缘层13b上方可以配置储存电容器cst的上电极cst2。上电极cst2可以与其下方的栅极电极14重叠。此时，将第二栅极绝缘层13b置于之间重叠的栅极电极14以及上电极cst2可以形成储存电容器cst。即，栅极电极14可以作为储存电容器cst的下电极cst1发挥功能。
如此，储存电容器cst和薄膜晶体管tft可以重叠形成。在一部分实施例中，储存电容器cst也可以形成为与薄膜晶体管tft不重叠。
上电极cst2可以包含铝(al)、铂(pt)、钯(pd)、银(ag)、镁(mg)、金(au)、镍(ni)、钕(nd)、铱(ir)、铬(cr)、钙(ca)、钼(mo)、钛(ti)、钨(w)和/或铜(cu)，可以是包含前述物质的单层或多层。
层间绝缘层15可以覆盖所述上电极cst2。层间绝缘层15可以包含氧化硅(sio2)、氮化硅(sinx)、氮氧化硅(sion)、氧化铝(al2o3)、氧化钛(tio2)、氧化钽(ta2o5)、氧化铪(hfo2)或者氧化锌(zno)等。层间绝缘层15可以是包含前述无机绝缘物的单层或多层。
漏极电极16a以及源极电极16b可以分别位于层间绝缘层15上。漏极电极16a以及源极电极16b可以包含导电性好的材料。漏极电极16a以及源极电极16b可以包含包括钼(mo)、铝(al)、铜(cu)、钛(ti)等的导电物质，可以形成为包含上述材料的多层或单层。作为一实施例，漏极电极16a以及源极电极16b可以具有ti/al/ti的多层结构。
平坦化绝缘层17可以由有机物质或者无机物质构成的膜包括单层或多层。当平坦化绝缘层17包含有机物质时，可以包含聚甲基丙烯酸甲酯(polymethylmethacrylate；pmma)或聚苯乙烯(polystyrene；ps)之类的普通广泛应用的高分子、具有酚基的高分子衍生物、丙烯酸类高分子、酰亚胺类高分子、芳基醚类高分子、酰胺类高分子、氟类高分子、对二甲苯类高分子、乙烯醇类高分子以及它们的共混物等。另一方面，当平坦化绝缘层17包含无机物质时，平坦化绝缘层17可以包含氧化硅(sio2)、氮化硅(sinx)、氮氧化硅(sion)、氧化铝(al2o3)、氧化钛(tio2)、氧化钽(ta2o5)、氧化铪(hfo2)或者氧化锌(zno)等。在这种情况下，在形成平坦化绝缘层17后，可以为了提供平坦的上面而执行研磨工艺。
在前述结构的像素电路层pcl上配置显示要件层del。可以是，显示要件层del包括有机发光二极管oled，并且有机发光二极管oled的像素电极21通过平坦化绝缘层17的接触孔与薄膜晶体管tft电连接。
像素px可以包括有机发光二极管oled以及薄膜晶体管tft。各像素px可以通过有机发光二极管oled发射例如红色、绿色或蓝色的光，或者发射红色、绿色、蓝色或白色的光。
像素电极21可以包含氧化铟锡(ito；indiumtinoxide)、氧化铟锌(izo；indiumzincoxide)、氧化锌(zno；zincoxide)、氧化铟(in2o3：indiumoxide)、氧化铟镓(igo；indiumgalliumoxide)或者氧化铝锌(azo；aluminumzincoxide)之类的导电性氧化物。作为另一实施例，像素电极21可以包括包含银(ag)、镁(mg)、铝(al)、铂(pt)、钯(pd)、金(au)、镍(ni)、钕(nd)、铱(ir)、铬(cr)或者它们的化合物的反射膜。作为另一实施例，像素电极21可以还包括在前述的反射膜之上/之下由ito、izo、zno或者in2o3形成的膜。
在像素电极21上配置具有使得像素电极21的中央部暴露的开口19op的像素界定膜19。像素界定膜19可以包含有机绝缘物和/或无机绝缘物。开口19op可以界定从有机发光二极管oled发射的光的发光区域ea(以下，称为发光区域)。例如，开口19op的宽度可以对应于发光区域ea的宽度。
在像素界定膜19的开口19op中可以配置发光层22。发光层22可以包含发射预定颜色的光的高分子或者低分子有机物。
虽然未图示，但是在发光层22之下和之上可以分别配置第一功能层以及第二功能层。第一功能层例如可以包括空穴传输层(htl：holetransportlayer)，或者包括空穴传输层以及空穴注入层(hil：holeinjectionlayer)。第二功能层作为配置在发光层22之上的构成要件，是可选的(optional)。第二功能层可以包括电子传输层(etl：electrontransportlayer)和/或电子注入层(eil：electroninjectionlayer)。与要后述的公共电极23相同，第一功能层和/或第二功能层可以是形成为将基板10整体覆盖的公共层。
公共电极23可以由功函数低的导电性物质构成。例如，公共电极23可以包括包含银(ag)、镁(mg)、铝(al)、铂(pt)、钯(pd)、金(au)、镍(ni)、钕(nd)、铱(ir)、铬(cr)、锂(li)、钙(ca)或者它们的合金等的(半)透明层。或者，公共电极23可以在包含前述的物质的(半)透明层上还包括ito、izo、zno或者in2o3之类的层。
在一实施例中，薄膜封装层tfe包括至少一个无机封装层以及至少一个有机封装层，作为一实施例，图10示出薄膜封装层tfe包括依次层叠的第一无机封装层31、有机封装层32以及第二无机封装层33。
第一无机封装层31以及第二无机封装层33可以包含氧化铝、氧化钛、氧化钽、氧化铪、氧化锌、氧化硅、氮化硅、氮氧化硅中的一个以上的无机物。有机封装层32可以包含聚合物(polymer)系列的物质。作为聚合物系列的材料，可以包括丙烯酸类树脂、环氧类树脂、聚酰亚胺以及聚乙烯等。作为一实施例，有机封装层32可以包含丙烯酸酯(acrylate)。
在另一实施例中，薄膜封装层tfe可以是基板10和作为透明的部件的上基板用密封部件结合而使基板10和上基板之间的内部空间被密封的结构。此时，吸湿剂或填充剂等可以位于内部空间。密封部件可以是密封胶，在另一实施例中，密封部件可以由通过激光硬化的物质构成。例如，密封部件可以是玻璃胶(frit)。具体地，密封部件可以由有机密封胶即聚氨酯类树脂、环氧类树脂、丙烯酸类树脂或者无机密封胶即硅酮(silicone)等构成。作为聚氨酯类树脂，例如，可以使用聚氨酯丙烯酸酯等。作为丙烯酸类树脂，例如，可以使用丙烯酸丁酯、丙烯酸乙基己酯等。另一方面，密封部件可以由通过热硬化的物质构成。
在薄膜封装层tfe上可以配置包括触摸电极的触摸电极层(未图示)，在触摸电极层上可以配置光学功能层(未图示)。触摸电极层可以获取基于外部的输入，例如触摸事件的坐标信息。光学功能层可以降低从外部朝向显示装置1入射的光(外部光)的反射率，和/或可以提高从显示装置1发射的光的色纯度。作为一实施例，光学功能层可以包括延迟器(retarder)以及偏振器(polarizer)。延迟器可以是膜型或液晶涂覆型，可以包括λ/2延迟器和/或λ/4延迟器。偏振器也可以是膜型或者液晶涂覆型。膜型可以包括拉伸型合成树脂膜，液晶涂覆型可以包括以预定的排列配置的液晶。延迟器以及偏振器可以还包括保护膜。
作为另一实施例，光学功能层可以包括黑矩阵和滤色器。滤色器可以考虑从显示装置1的各个像素发射的光的颜色来排列。各个滤色器可以包括红色、绿色或蓝色的颜料或者染料。或者，各个滤色器除了前述的颜料或者染料之外可以还包括量子点。或者，滤色器中的一部分可以不包括前述的颜料或者染料，可以包括氧化钛之类的散射颗粒。
作为另一实施例，光学功能层可以包括相消干涉结构物。相消干涉结构物可以包括配置在彼此不同层上的第一反射层和第二反射层。分别在第一反射层以及第二反射层被反射的第一反射光和第二反射光可以相消干涉，由此可以降低外部光反射率。
在所述触摸电极层和光学功能层之间可以配置粘合部件。所述粘合部件可以没有限制地使用本技术领域中公知的普通部件。所述粘合部件可以是压敏粘合剂(pressuresensitiveadhesive，psa)。
参考附图中示出的一实施例说明了这样的本发明，但这仅是例示性的，在本领域中具有通常知识的人可以理解可以从其进行各种变形及实施例的变形这一点。因此，本发明的真正的技术保护范围应由所附的权利要求书的技术构思来决定。