气体激光装置、气体激光装置的维护方法和电子器件的制造方法与流程

本公开涉及气体激光装置、气体激光装置的维护方法和电子器件的制造方法。

背景技术：

1、近年来，在半导体曝光装置中，随着半导体集成电路的微细化和高集成化，要求分辨率的提高。因此，从曝光用光源发射的光的短波长化得以发展。例如，作为曝光用的气体激光装置，使用输出波长大约为248.0nm的激光的krf准分子激光装置、以及输出波长大约为193.4nm的激光的arf准分子激光装置。

2、krf准分子激光装置和arf准分子激光装置的自然振荡光的谱线宽度较宽，大约为350pm～400pm。因此，在利用使krf和arf激光这种紫外线透过的材料构成投影透镜时，有时产生色差。其结果，分辨率可能降低。因此，需要将从气体激光装置输出的激光的谱线宽度窄带化到能够无视色差的程度。因此，在气体激光装置的激光谐振器内，为了使谱线宽度窄带化，有时具有包含窄带化元件(标准具、光栅等)的窄带化模块(line narrowing module：lnm)。下面，将谱线宽度被窄带化的气体激光装置称为窄带化气体激光装置。

3、现有技术文献

4、专利文献

5、专利文献1：日本特开平8-56035号公报

技术实现思路

1、本公开的一个方式的气体激光装置也可以具有：电压施加电路；腔装置，其在内部具有电极，射出通过从电压施加电路对电极施加电压而产生的光；第1托盘，其包含载置面，腔装置和电压施加电路彼此并列地配置于该载置面；以及收纳部，第1托盘通过在载置面的面内方向上的移动而相对于该收纳部进出自如。

2、在本公开的一个方式的气体激光装置的维护方法中，也可以是，气体激光装置具有：电压施加电路；腔装置，其在内部具有电极，射出通过从电压施加电路对电极施加电压而产生的光；第1托盘，其包含载置面，腔装置和电压施加电路彼此并列地配置于该载置面；以及收纳部，第1托盘通过在载置面的面内方向上的移动而相对于该收纳部进出自如，在对气体激光装置中的腔装置和电压施加电路进行更换的情况下，按照每个第1托盘进行更换。

3、本公开的一个方式的电子器件的制造方法也可以包含以下步骤：通过气体激光装置生成激光，将激光输出到曝光装置，在曝光装置内在感光基板上曝光激光，以制造电子器件，气体激光装置具有：电压施加电路；腔装置，其在内部具有电极，射出通过从电压施加电路对电极施加电压而产生的光；第1托盘，其包含载置面，腔装置和电压施加电路彼此并列地配置于该载置面；以及收纳部，第1托盘通过在载置面的面内方向上的移动而相对于该收纳部进出自如。

技术特征：

1.一种气体激光装置，其具有：

2.根据权利要求1所述的气体激光装置，其中，

3.根据权利要求1所述的气体激光装置，其中，

4.根据权利要求3所述的气体激光装置，其中，

5.根据权利要求4所述的气体激光装置，其中，

6.根据权利要求3所述的气体激光装置，其中，

7.根据权利要求6所述的气体激光装置，其中，

8.根据权利要求7所述的气体激光装置，其中，

9.根据权利要求8所述的气体激光装置，其中，

10.根据权利要求1所述的气体激光装置，其中，

11.根据权利要求1所述的气体激光装置，其中，

12.根据权利要求1所述的气体激光装置，其中，

13.一种气体激光装置的维护方法，其中，

14.根据权利要求13所述的气体激光装置的维护方法，其中，

15.根据权利要求13所述的气体激光装置的维护方法，其中，

16.根据权利要求13所述的气体激光装置的维护方法，其中，

17.根据权利要求16所述的气体激光装置的维护方法，其中，

18.根据权利要求16所述的气体激光装置的维护方法，其中，

19.一种电子器件的制造方法，其包含以下步骤：

技术总结
气体激光装置具有：电压施加电路；腔装置，其在内部具有电极，射出通过从电压施加电路对电极施加电压而产生的光；第1托盘，其包含载置面，腔装置和电压施加电路彼此并列地配置于该载置面；以及收纳部，第1托盘通过在载置面的面内方向上的移动而相对于该收纳部进出自如。

技术研发人员：藤本准一,诹访辉
受保护的技术使用者：极光先进雷射株式会社
技术研发日：
技术公布日：2024/3/4