技术特征：
1.一种用于制备线形结构侧向电极的定位装置，其特征在于：包括水平台(1)、底部光源(2)、掩模(3)、掩模缝隙(4)、透明载物台(5)、定位挡板(6)、微位移平台(7)、探针(8)、摆臂(9)、线形结构(10)、移线吸口(11)、移线腔体(12)、移线位移平台(13)、显微镜(14)和顶部光源(15)；所述的水平台(1)上方固定有透明载物台(5)；所述的掩模(3)放置在透明载物台(5)，掩模(3)上加工有尺寸可调的掩模缝隙(4)；所述的定位挡板(6)固定在透明载物台(5)上方，对称分布在掩模(3)两侧，起到限位掩模(3)的作用；所述的微位移平台(7)固定在定位挡板(6)上，对称分布在掩模(3)两侧，微位移平台(7)的横梁上安装有摆臂(9)，摆臂(9)下方固定有探针(8)，微位移平台(7)可以结合摆臂(9)的运动，实现探针(8)在空间内的微运动；所述的线形结构(10)在探针(8)的推动下，向掩模缝隙(4)中心处移动；所述的移线位移平台(13)横梁上安装有移线腔体(12)；所述的移线吸口(11)密封连接在移线腔体(12)最下方，利用外部气体控制系统，调节移线腔体(12)内气压，使其小于标准大气压；所述的线形结构(10)材质、直径影响移线吸口(11)的尺寸及移线腔体(12)内的气压；所述的移线吸口(11)具有吸附功能，借助移线吸口(11)的负压吸附力，将线形结构(10)吸起，并利用移线位移平台(13)的移动将线形结构(10)放置掩模(3)上；所述的掩模(3)两侧的定位挡板(6)阻挡线形结构(10)及掩模(3)的位置移动；所述的移线吸口(11)的尺寸与线形结构(10)的材质、直径匹配；所述的底部光源(2)位于透明载物台(5)的下方，底部光源(2)产生的光线透过透明载物台(5)并穿过掩模缝隙(4)；所述的显微镜(14)位于最上端，用于观测记录观察线形结构(10)在掩模(3)的位置，并观察探针(8)与线形结构(10)的位置；所述的顶部光源(15)位于显微镜(14)的一侧，为显微镜(14)提供光；所述的线形结构(10)的直径大于掩模缝隙(4)的宽度；所述的线形结构(10)在移动时，借助显微镜(14)观察掩模缝隙(4)内光线的强弱，当掩模缝隙(4)无底部光源(2)光线穿过时，线形结构(10)的中心与掩模缝隙(4)的中心完全重合，停止探针(8)移动，并将线形结构(10)与掩模缝隙(4)的位置固定；所述的线形结构(10)的电极材料仅可穿过掩模缝隙(4)沉积到线形结构(10)上，形成一条与掩模缝隙(4)等尺寸的电极，被掩模(3)挡住的电极材料不会到达线形结构(10)上。2.根据权利要求1所述的用于制备线形结构侧向电极的定位装置，其特征在于，所述的移线腔体(12)内气压、移线吸口(11)的尺寸由线形结构(10)的材料、力学特性和尺寸决定；所述的线形结构(10)的直径始终大于掩模缝隙(4)的宽度，线形结构(10)上电极尺寸与掩模缝隙(4)的尺寸相同，且掩模缝隙(4)的宽度可以在线调整；所述的线形结构(10)上电极个数由线形结构(10)直径及掩模缝隙(4)的宽度共同决定。
技术总结
本发明属于先进制造技术领域，涉及一种用于制备线形结构侧向电极的定位装置。利用光沿直线传播原理，借助双光源调整线形结构与掩模的位置，实现线形结构与掩模缝隙中心对称。首先负压吸附转移线形结构至掩模缝隙周围，打开双光源，并借助定位挡板、微位移平台、探针不断移动线形结构，通过底部光线明暗度判断线形结构在掩模上的位置，最终实现线形结构在掩模缝隙上的定位。此用于制备线形结构侧向电极的定位装置，通过光线明暗度，控制线形结构在掩模上的位置，实现线形结构制备侧向电极时在掩模上位置的定位，实现不同尺寸、不同数量线形结构侧向电极的制备，该定位装置结构简单、易于操作。操作。操作。
技术研发人员：李凯 王晓英
受保护的技术使用者：宁波大学
技术研发日：2022.02.26
技术公布日：2022/5/6