显示面板及其制备方法与流程

1.本技术涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板及其制备方法。


背景技术：

2.有机发光二极管(organic light emitting diode，简称oled)为主动发光显示器件，具有自发光、广视角、高对比度、低耗电、极高反应速度、轻薄、可弯曲和成本低等优点。随着显示技术的不断发展，以oled为发光结构层和由薄膜晶体管(thin film transistor，简称tft)进行信号控制的显示面板已成为目前显示领域的主流产品。
3.但是，经研究发现，现有oled显示面板存在不同颜色子像素之间出现串色和漏光等问题，且采用喷墨打印形成发光结构层中的发光部，会导致发光部出现不良的问题，从而降低了显示品质。


技术实现要素：

4.本技术实施例提供一种显示面板，以提高显示面板的显示效果。
5.本技术提供一种显示面板，包括：
6.阵列基板；
7.黑色遮光层，所述黑色遮光层设置于所述阵列基板上，所述黑色遮光层具有开孔，所述开孔贯穿所述黑色遮光层，所述黑色遮光层的材料具有疏水性；以及
8.发光结构，所述发光结构设置于所述开孔中，所述发光结构包括发光部。
9.可选的，在本技术的一些实施例中，所述黑色遮光层在波长为380-780nm内的光透过率小于50％。
10.可选的，在本技术的一些实施例中，所述显示面板还包括彩膜基板，所述彩膜基板包括衬底和色阻部，所述色阻部位于所述衬底靠近所述阵列基板的一面，所述色阻部设置于所述开孔中。
11.可选的，在本技术的一些实施例中，所述黑色遮光层在波长为380-780nm内的光透过率小于20％。
12.可选的，在本技术的一些实施例中，所述黑色遮光层包括多个连接的黑色部，所述开孔开设于所述黑色部中，每一所述黑色部包括连接的第一分部和第二分部，所述第一分部位于所述第二分部靠近所述发光结构的一侧，所述第一分部的厚度小于所述第二分部的厚度。
13.可选的，在本技术的一些实施例中，所述显示面板还包括封装层，所述封装层覆盖所述黑色遮光层以及所述发光结构。
14.本技术还提供一种显示面板的制备方法，包括：
15.提供一阵列基板；
16.在所述阵列基板上设置黑色遮光层的材料，并进行图案化处理形成具有开孔的黑色遮光层，所述开孔贯穿所述黑色遮光层，所述黑色遮光层的材料具有疏水性；以及
17.采用喷墨打印方法在所述开孔中形成具有发光部的发光结构。
18.可选的，在本技术的一些实施例中，采用半色调掩膜工艺进行图案化处理形成所述具有开孔的黑色遮光层，所述黑色遮光层包括多个连接的黑色部，所述开孔开设于所述黑色部中，每一所述黑色部包括连接的第一分部和第二分部，所述第一分部位于所述第二分部靠近所述发光结构的一侧，所述第一分部的厚度小于所述第二分部的厚度。
19.可选的，在本技术的一些实施例中，在采用喷墨打印方法在所述开孔中形成具有发光部的发光结构之后，还包括：
20.在所述发光结构以及所述黑色遮光层远离所述阵列基板的一侧上形成彩膜基板，所述彩膜基板包括衬底和色阻部，所述色阻部位于所述衬底靠近所述阵列基板的一面，所述色阻部形成于所述开孔内。
21.可选的，在本技术的一些实施例中，在采用喷墨打印方法在所述开孔中形成具有发光部的发光结构之后，在所述发光结构远离所述阵列基板的一侧上形成彩膜基板之前，还包括：
22.在所述发光结构以及所述黑色遮光层远离所述阵列基板的一侧上形成封装层。
23.本技术公开了一种显示面板及其制备方法，显示面板包括阵列基板、黑色遮光层以及发光部，黑色遮光层设置于阵列基板上，黑色遮光层具有开孔，开孔贯穿黑色遮光层，黑色遮光层的材料具有疏水性，发光结构设置于开孔中。在本技术中，采用具有疏水性的材料制备形成黑色的黑色遮光层，因黑色遮光层的黑色，可以避免子像素出现漏光的问题，同时，因黑色遮光层的疏水性，使得发光部采用喷墨打印方式形成时，发光部的溶液不会残留在黑色遮光层上，从而使得其在开孔中自动铺展开，从而在开孔中形成膜厚均匀且稳定的发光部。
附图说明
24.为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
25.图1是本技术实施例提供的显示面板的第一种结构示意图。
26.图2是图1中的黑色部与发光结构的结构示意图。
27.图3是本技术实施例提供的显示面板的第二种结构示意图。
28.图4是本技术实施例提供的显示面板的制备方法的步骤流程图。
29.附图标记：
30.显示面板10；阵列基板100；基底110；遮光部115；缓冲层120；第一有源部125；第二有源部130；栅绝缘部135；栅极140；层间介质层145；源极150；漏极155；钝化层160；平坦层165；黑色遮光层200；开孔201(附图中补充)；黑色部210；第一分部211；第二分部212；发光结构300；第一电极310；空穴注入层320；空穴传输层330；发光部340；电子传输层350；第二电极360；彩膜基板400；衬底410；色阻部420。
具体实施方式
31.下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。此外，应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本技术，并不用于限制本技术。在本技术中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上”和“下”通常是指装置实际使用或工作状态下的上和下，具体为附图中的图面方向；而“内”和“外”则是针对装置的轮廓而言的。在本技术中，“反应”可以为化学反应或物理反应。
32.本技术公开了一种显示面板及其制备方法，显示面板包括阵列基板、黑色遮光层、发光结构以及彩膜基板，黑色遮光层设置于阵列基板上，黑色遮光层具有开孔，开孔贯穿黑色遮光层，黑色遮光层的材料具有疏水性。
33.在本技术中，采用具有疏水性的材料制备形成黑色的黑色遮光层，因黑色遮光层的遮挡，可以避免相邻的不同颜色的子像素出现漏光的问题，同时，因黑色遮光层具有疏水性，使得发光结构中的发光部采用喷墨打印方式形成时，发光部的溶液不会残留在黑色遮光层上，从而使得发光部的溶液在开孔中自动铺展开，从而在开孔中形成膜厚均匀且稳定的发光部。
34.请参阅图1、图2和图3，本技术提供一种显示面板10，显示面板10包括阵列基板100、黑色遮光层200、发光结构300以及彩膜基板400。详细说明如下。
35.阵列基板100包括连接的发光区和非发光区。阵列基板100包括基底110、晶体管、缓冲层120、层间介质层145、钝化层160以及平坦层165。晶体管包括遮光部115、第一有源部125、第二有源部130、栅绝缘部135、栅极140、源极150和漏极155。遮光部115设置于基底110上。缓冲层120覆盖基底110以及遮光部115。第一有源部125和第二有源部130同层且间隔设置于缓冲层120上，且第一有源部125和第二有源部130位于遮光部115之上。第一有源部125和第二有源部130的材料为金属氧化物，如氧化铟镓锌等。第一有源部125包括半导体部和设置于半导体部两侧的导体部。栅绝缘部135设置于第一有源部125上，且与半导体部对应设置。栅极140设置于栅绝缘部135上。层间介质层145覆盖缓冲层120、第一有源部125、第二有源部130、栅绝缘部135和栅极140。
36.接着，层间介质层145具有过孔、连接孔以及通孔。连接孔位于过孔与通孔之间。过孔和连接孔位于第一有源部125的同一侧。通孔位于第一有源部125的两一侧。过孔贯穿层间介质层145以及缓冲层120以暴露遮光部115。连接孔贯穿层间介质层145以暴露一导体部。通孔贯穿层间介质层145以暴露另一导体部。源极150和漏极155同层且间隔设置于层间介质层145上，且源极150填充于过孔中与遮光部115连接以及填充于连接孔中与一导体部连接，漏极155填充于通孔中与另一导体部连接。
37.接着，钝化层160覆盖层间介质层145、源极150和漏极155。平坦层165设置于钝化层160上。平坦层165具有接触孔。接触孔贯穿平坦层165以及钝化层160以暴露源极150。
38.发光结构300包括第一电极310。第一电极310设置于平坦层165，并填充于接触孔中与源极150连接。第一电极310为阳极。第一电极310的材料包括氧化铟锡。可以选的，第一电极310的材料也可以为其他，此处不限制。
39.黑色遮光层200设置于阵列基板100上。黑色遮光层200具有开孔201。开孔201贯穿黑色遮光层200。黑色遮光层200的材料包括具有疏水性的黑色材料。具体的，黑色遮光层200设置于所述第一电极310上，且位于非发光区。黑色遮光层200具有开孔201。开孔201贯穿黑色遮光层200以暴露第一电极310，并使黑色遮光层200形成多个黑色部210。黑色遮光层200的材料具有疏水性。
40.在本技术中，因黑色遮光效果好，将黑色遮光层200制备成黑色，可以降低相邻子像素之间发生光学串扰，同时，因黑色遮光层200具有疏水性，使得发光部340采用喷墨打印方式形成时，发光部340的溶液不会残留在黑色遮光层200上，从而在开孔201中自动铺展开，从而在开孔201中形成膜厚均匀且稳定的发光部340，此外，采用喷墨打印制备发光部340，可以提高发光部340因采用蒸镀方式形成而导致发光部340出现不良的问题。
41.在一实施例中，开孔201的平面形状为圆形或等腰梯形等，开孔201的平面形状设置成规则的图形，可以简化黑色遮光层的形成。
42.在一实施例中，黑色遮光层200在为380-780nm内的光透过率小于50％。具体的，波长在380-780nm内，黑色遮光层200在为380-780nm内的光透过率可以为10％、20％、30％、45％或50％等。
43.在本技术中，采用具有疏水性的材料制备成黑色的黑色遮光层200，可以降低可见光的光透过率，也即可以降低相邻子像素之间发生光学串扰的问题，同时，因黑色遮光层200的材料具有疏水性，使得发光部340采用喷墨打印方式形成时，发光部340的溶液不会残留在黑色遮光层200上，且在开孔201中自动铺展开，从而在开孔201中形成膜厚均匀且稳定的发光部340，从而提高了显示面板10的显示效果。此外，采用喷墨打印制备发光部340，可以提高发光部340因采用蒸镀方式形成而导致发光部340出现不良的问题。
44.在一实施例中，黑色遮光层200的材料为半色调掩膜材料，使得黑色遮光层200可以采用半色调掩膜工艺形成，缩短了黑色遮光层200的制备周期。
45.在一实施例中，黑色遮光层200包括多个连接的黑色部210。开孔201开设于黑色部210中。每一黑色部210包括连接的第一分部211和第二分部212。第一分部211位于第二分部212靠近发光部340的一侧。第一分部211的厚度r小于第二分部212的厚度d。具体的，每一黑色部210包括连接且同层设置的第一分部211、第二分部212和第三分部。第一分部211位于第二分部212靠近发光部340的一侧。第三分部位于第二部分远离发光部340的一侧。第一分部211的厚度r小于第二分部212的厚度d。第三分部远离基底110的一面与第一分部211远离基底110的一面平齐，也即黑色部210形成类似台座的形状，也即黑色部210垂直于阵列基板靠近发光结构300的一面的截面形状为台阶状。
46.在本技术中，将第一分部211的厚度r设置为小于第二分部212的厚度d，因第一分部211的厚度r位于黑色部210靠近发光部340的一侧，使得开孔201的侧壁形成台阶状，使得发光部340采用喷墨打印方式形成时，发光部340的溶液不会残留在黑色遮光层200上，使得发光部340的溶液可以在开孔201中自动铺展开，从而在开孔201中形成膜厚均匀且稳定的发光部340，此外，采用喷墨打印制备发光部340，可以提高发光部340因采用蒸镀方式形成而导致发光部340出现不良的问题。
47.发光结构300设置于开孔201中。具体的，发光部340为发光结构300中的结构。发光结构300包括发光部340、空穴注入层320、空穴传输层330、电子传输层350和第二电极360。
空穴注入层320和空穴传输层330依次层叠设置于开孔201中，并与第一电极310连接。发光部340设置于开孔201中，并与空穴传输层330连接，且发光部340、空穴注入层320以及空穴传输层330位于发光区。电子传输层350覆盖黑色遮光层200以及发光部340。第二电极360覆盖电子传输层350。第二电极360为阴极。发光结构300为顶发射器件。发光结构300为白色发光器件。
48.在一实施例中，显示面板10还包括封装层。封装层覆盖黑色遮光层200以及发光部340。具体的，封装层设置于第二电极360上。封装层包括有机层和无机层交替堆叠形成。
49.在本技术中，在发光部340上设置封装层，避免发光结构300受到水氧的侵蚀，尤其是发光部340。
50.在一实施例中，彩膜基板400包括色阻部420和衬底410。色阻部420设置于衬底410靠近阵列基板100的一面。色阻部420位于开孔201中，也即黑色部210的端部延长至衬底410上，也即色阻部420周围设置有黑色部210。因黑色部210的端部延长至衬底410，使得黑色部210可以作为设置在色阻部420周围的矩阵部，无需在色阻部420周围制备另外设置一矩阵部，节省了一道光罩，从而节约了成本。同时，使得黑色部210可以进一步降低相邻子像素之间出现漏光的问题，从而降低光串扰的问题。
51.在一实施例中，色阻部420位于开孔201中，黑色遮光层200在为380-780nm内的光透过率小于20％。具体的，色阻部420设置于黑色部210围设的区域内，波长在380-780nm内，黑色遮光层200在为380-780nm内的光透过率可以为5％、8％、15％或20％等。
52.在本技术中，将色阻部420设置于开孔201中使得进一步降低相邻子像素之间出现漏光的问题，从而降低光串扰的问题。
53.本技术提供一种显示面板的制备方法，用于制备本技术所提供的显示面板，包括：
54.b11、提供一阵列基板。
55.b12、在阵列基板上设置黑色遮光层的材料，并进行图案化处理形成具有开孔的黑色遮光层，开孔贯穿黑色遮光层，黑色遮光层的材料具有疏水性。
56.b13、采用喷墨打印方法在开孔中形成具有发光部的发光结构。
57.在本技术中，因黑色遮光效果好，将黑色遮光层制备成黑色，可以降低相邻子像素之间发生光学串扰，同时，因黑色遮光层的材料具有疏水性，使得发光部采用喷墨打印方式形成时，使得发光部的溶液不会残留在黑色遮光层200上，使得发光部的溶液可以在开孔201中自动铺展开，从而在开孔201中形成膜厚均匀且稳定的发光部，此外，采用喷墨打印制备发光部，可以提高发光部因采用蒸镀方式形成而导致发光部出现不良的问题。
58.请参阅图4，本技术提供一种显示面板10的制备方法，用于制备本技术所提供的显示面板10，包括：
59.b11、提供一阵列基板。
60.请继续参阅图1和图2，具体的，提供一基底110；然后，在基底110上形成依次形成遮光部115和缓冲层120。然后，在缓冲层120上形成同层且间隔设置的第一有源部125和第二有源部130。然后，在第一有源部125上依次层叠形成栅绝缘部135和栅极140；然后，在栅极140以及缓冲层120上形成层间介质层145，并蚀刻形成过孔、连接孔以及通孔。连接孔位于过孔与通孔之间。过孔和连接孔位于第一有源部125的同一侧。通孔位于第一有源部125的两一侧。过孔贯穿层间介质层145以及缓冲层120以暴露遮光部115。连接孔贯穿层间介质
层145以暴露一导体部。通孔贯穿层间介质层145以暴露另一导体部。
61.然后，在层间介质层145上形成同层且间隔设置的源极150和漏极155。源极150填充于过孔中与遮光部115连接以及填充于连接孔中与一导体部连接。漏极155填充于通孔中与另一导体部连接。
62.然后，在层间介质层145、源极150以及漏极155上形成层叠设置的钝化层160以及平坦层165。平坦层165具有接触孔。接触孔贯穿平坦层165以及钝化层160以暴露源极150。
63.然后，在平坦层165上形成第一电极310。第一电极310填充于接触孔中与源极150连接。第一电极310为阳极。第一电极310的材料包括氧化铟锡。可以选的，第一电极310的材料也可以为其他，此处不限制。
64.b12、在阵列基板上设置黑色遮光层的材料，并进行图案化处理形成具有开孔的黑色遮光层，开孔贯穿黑色遮光层，黑色遮光层的材料具有疏水性。
65.具体的，在第一电极310上设置黑色遮光层200的材料，并采用半色调掩膜工艺形成黑色遮光层200。黑色遮光层200具有开孔201。开孔201贯穿黑色遮光层200以暴露第一电极310。黑色遮光层200具有多个连接的黑色部210。每一黑色部210包括连接且同层设置的第一分部211、第二分部212和第三分部。第一分部211位于第二分部212靠近发光部340的一侧。第三分部位于第二部分远离发光部340的一侧。第一分部211的厚度r小于第二分部212的厚度d。第三分部远离基底110的一面与第一分部211远离基底110的一面平齐，也即黑色部210形成类似台座的形状，也即黑色部210垂直于阵列基板靠近发光结构300的一面的截面形状为台阶状。黑色遮光层200的材料具有疏水性。
66.在本技术中，采用半色调掩膜工艺制备黑色遮光层200，使得黑色部210的台阶状可以一步形成，简化了黑色遮光层200的制备工艺，且避免低温烘烤导致黑色遮光层200的表面出现缺陷的问题，避免发光部340的溶液遗留在黑色遮光层200上，从而提高了黑色遮光层200的良率。
67.然后，在开孔201中形成空穴传输层。
68.b13、采用喷墨打印方法在开孔中形成发光部。
69.具体的，在空穴传输层上采用喷墨打印方式形成发光部340。发光部340位于开孔201中。
70.然后，在发光部340以及黑色遮光层200上形成电子传输层350。然后，在电子传输层350上形成第二电极360。
71.在一实施例中，在步骤b13之后，还包括：
72.在发光部340远离阵列基板100的一侧形成彩膜基板400，彩膜基板400包括色阻部420和衬底410。色阻部420设置于衬底410靠近阵列基板100的一面。色阻部420位于开孔201中，也即色阻部420周围有黑色部210。
73.在本技术中，色阻部420位于开孔201中，也即黑色部210设置在色阻部420周围，使得黑色部210可以作为设置在色阻部420周围的矩阵部，无需在色阻部420周围制备另外设置一矩阵部，节省了一道光罩，从而节约了成本。同时，使得黑色部210可以进一步降低相邻子像素之间出现漏光的问题，从而降低光串扰的问题。
74.在本技术中，因黑色遮光效果好，将黑色遮光层200制备成黑色，可以降低相邻子像素之间发生光学串扰，同时，因黑色遮光层200的材料具有疏水性，使得发光部340采用喷
墨打印方式形成时，使得发光部340的溶液不会残留在黑色遮光层200上，使得发光部340的溶液可以在开孔201中自动铺展开，从而在开孔201中形成膜厚均匀且稳定的发光部340，此外，采用喷墨打印制备发光部340，可以提高发光部340因采用蒸镀方式形成而导致发光部340出现不良的问题。
75.本技术公开了一种显示面板10及其制备方法，采用具有疏水性的材料制备形成黑色的黑色遮光层200，因黑色遮光层200的遮挡，可以对位于开孔201中的发光部340发出的光进行遮挡，从而避免子像素漏光，同时，因黑色遮光层200具有疏水性，将黑色遮光层200应用在喷墨打印的发光器件中，使得发光部340的溶液不会残留在黑色遮光层200上，发光部340的溶液可以在开孔201中自动铺展开，从而在开孔201中形成膜厚均匀且稳定的发光部340。
76.以上对本技术实施例所提供的一种显示面板及其制备方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本技术的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本技术的方法及其核心思想；同时，对于本领域的技术人员，依据本技术的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本技术的限制。