一维铁磁体的构建方法及一维铁磁体和应用与流程

文档序号:37208101发布日期:2024-03-05 14:46阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种一维铁磁体,其特征在于,包括二维石墨烯边缘碳和二维石墨烯边缘碳键合的非铁磁性金属原子。

2.根据权利要求1所述的一种一维铁磁体,其特征在于,所述非铁磁性金属原子为钼原子、铜原子、铝原子、镁原子或锌原子。

3.根据权利要求1或2所述的一种一维铁磁体,其特征在于,与所述非铁磁性金属原子键合的石墨烯为单层石墨烯、双层石墨烯或双层以上的二维石墨烯。

4.根据权利要求1-3任一项所述的一种一维铁磁体,其特征在于,所述石墨烯覆盖在基底上,非铁磁性金属薄膜覆盖部分所述石墨烯表面,所述非铁磁性金属薄膜覆盖的所述石墨烯至少被部分破坏。

5.根据权利要求1~3任一项所述的一种一维铁磁体,其特征在于,所述石墨烯为单层石墨烯,所述非铁磁性金属薄膜覆盖的所述石墨烯的拉曼光谱中的特征峰g峰和2d峰消失。

6.一种一维铁磁体的构建方法,其特征在于,包括步骤:

7.根据权利要求6所述的一种一维铁磁体的构建方法,其特征在于,所述构建方法还包括:去除所述掩蔽层。

8.根据权利要求6所述的一种一维铁磁体的构建方法,其特征在于,步骤s2具体包括:用磁控溅射产生的非铁磁性金属原子流轰击破坏所述掩蔽层外的石墨烯表面;

9.根据权利要求6所述的一种一维铁磁体的构建方法,其特征在于,所述磁控溅射的功率为150w~200w。

10.根据权利要求6所述的一种一维铁磁体的构建方法,其特征在于,步骤s1具体包括:

11.根据权利要求10所述的一种一维铁磁体的构建方法,其特征在于,

12.权利要求1-5所述的一维铁磁体或权利要求6-11任一项所述的构建方法制备得到的一维铁磁体在制备自旋器件中的应用。


技术总结
本申请属于磁性材料技术领域,尤其涉及一维铁磁体的构建方法及一维铁磁体和应用。本申请提供的一维铁磁体的构建方法包括先在石墨烯表面设置掩蔽层,然后用高能量非铁磁性金属原子流轰击破坏石墨烯表面未被掩蔽的位置结构,非铁磁性金属原子与石墨烯边缘的碳键合,从而在石墨烯边缘反应生成了一维铁磁体,从而解决现有技术中人们认为无法构建一维铁磁体的技术问题。

技术研发人员:李勇军,孙连峰,刘辉,彭志盛,任红轩,魏浩男
受保护的技术使用者:国家纳米科学中心
技术研发日:
技术公布日:2024/3/4
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