等离子体处理装置和等离子体处理方法与流程

本发明涉及等离子体处理装置和等离子体处理方法。

背景技术：

1、已知有使用电感耦合等离子体对基片进行处理的等离子体处理装置(例如，参照专利文献1)。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1：日本特开2020-17646号公报

技术实现思路

1、发明要解决的技术问题

2、本发明提供能够不使用稀有气体而提高等离子体点火性的技术。

3、用于解决技术问题的手段

4、本发明的一个方式的等离子体处理装置包括：处理容器，能够在该处理容器的内部利用等离子体对基片实施等离子体处理；配置在所述处理容器的内部的载置台，其能够载置所述基片并且兼作下部电极；金属窗，其保持与所述处理容器电绝缘地形成所述处理容器的顶部，并且被接地；隔着所述金属窗与所述载置台相对的电感耦合天线，其保持与所述金属窗电绝缘地配置；和用于对所述等离子体处理进行控制的控制部，所述控制部能够执行：以第一电功率向所述载置台供给第一高频，在所述金属窗与所述载置台之间通过电容耦合使所述等离子体点火的第一控制；以第二电功率向所述电感耦合天线供给第二高频，经由所述金属窗通过电感耦合来维持所述等离子体的第二控制；和将所述第一高频的电功率改变为比所述第一电功率大的第三电功率，对被载置在所述载置台上的所述基片实施所述等离子体处理的第三控制。

5、发明效果

6、采用本发明，能够不使用稀有气体而提高等离子体点火性。

技术特征：

1.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

3.如权利要求1或2所述的等离子体处理装置，其特征在于：

4.如权利要求3所述的等离子体处理装置，其特征在于：

5.如权利要求1至4中任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于：

6.如权利要求1至5中任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于：

7.一种等离子体处理方法，其为在等离子体处理装置中实施的等离子体处理方法，所述等离子体处理装置包括：

技术总结
本发明提供能够不使用稀有气体而提高等离子体点火性的等离子体处理装置和等离子体处理方法。等离子体处理装置包括：处理容器；载置台；金属窗，其保持与处理容器电绝缘地形成处理容器的顶部，并且被接地；隔着金属窗与载置台相对的电感耦合天线，其保持与金属窗电绝缘地配置；和用于对等离子体处理进行控制的控制部，控制部能够执行：以第一电功率向载置台供给第一高频，在金属窗与载置台之间通过电容耦合使等离子体点火的第一控制；以第二电功率向电感耦合天线供给第二高频，经由金属窗通过电感耦合来维持等离子体的第二控制；和将第一高频的电功率改变为比第一电功率大的第三电功率，对被载置在载置台上的基片实施等离子体处理的第三控制。

技术研发人员：齐藤均,佐佐木和男,植松治志
受保护的技术使用者：东京毅力科创株式会社
技术研发日：
技术公布日：2024/1/12