技术特征：
1.一种晶圆水平清洗装置，其特征在于，包括：夹持盘，其水平夹持晶圆；背喷组件，其同轴、间隙设置于所述夹持盘的中间位置；支撑轴，其设置于所述背喷组件下部；驱动电机，其转动部件与夹持盘连接，以带动夹持盘及其上的晶圆旋转；所述背喷组件包括喷射体，所述喷射体包括朝向晶圆喷射流体的喷射头；所述喷射头的外周侧配置有集液结构，以汇聚滴落至喷射体的液滴；所述喷射体还包括抽吸结构，其设置于所述喷射体与夹持盘的交接处，以朝向喷射体与夹持盘之间的间隙抽吸流体。2.如权利要求1所述的晶圆水平清洗装置，其特征在于，所述集液结构包括集液槽、进液孔道和内侧汇流孔道，所述集液槽设置于所述喷射头的外周侧，所述进液孔道自所述集液槽的底面向下延伸并与所述内侧汇流孔道相连通；所述喷射体还配置有排液孔道，所述排液孔道与所述内侧汇流孔道相连通，以将汇集的液体向外排放。3.如权利要求2所述的晶圆水平清洗装置，其特征在于，所述集液槽为环形槽，其同心设置于所述喷射头的外周侧。4.如权利要求2所述的晶圆水平清洗装置，其特征在于，所述进液孔道的数量为多个，其沿所述喷射体的长度方向延伸设置。5.如权利要求1所述的晶圆水平清洗装置，其特征在于，所述喷射体还包括第一环形凸起，其同心设置于所述喷射头的外周侧；所述喷射体还包括第二环形凸起，其设置于所述第一环形凸起的外周侧，所述第一环形凸起与第二环形凸起之间形成流体槽。6.如权利要求5所述的晶圆水平清洗装置，其特征在于，所述抽吸结构设置于所述流体槽，其包括抽气孔道、外侧汇流孔道和排气孔道，所述抽气孔道自所述流体槽的底面向下延伸并与所述外侧汇流孔道相连通，所述排气孔道与所述外侧汇流孔道连通并设置于其下方。7.如权利要求1所述的晶圆水平清洗装置，其特征在于，还包括压盖，其同心套设于所述喷射体的上方；所述压盖的下部配置有压盖凸起，所述压盖凸起朝向所述集液结构设置。8.如权利要求7所述的晶圆水平清洗装置，其特征在于，所述压盖凸起的外周侧配置有压盖凹槽，所述压盖凹槽与所述喷射体之间设置有间隙。9.如权利要求5所述的晶圆水平清洗装置，其特征在于，所述夹持盘的中间位置配置有安装孔，夹持盘的底部配置有夹盘凸起，所述夹盘凸起沿所述安装孔的内侧壁向下延伸设置并罩设于所述流体槽的内部。10.如权利要求9所述的晶圆水平清洗装置，其特征在于，所述安装孔的内侧壁配置有内部螺旋凹槽，所述内部螺旋凹槽的设置位置与所述第一环形凸起的位置相对应。11.如权利要求5所述的晶圆水平清洗装置，其特征在于，所述第一环形凸起的内侧设置有倾斜面，所述倾斜面设置于所述第一环形凸起的上部。12.如权利要求1所述的晶圆水平清洗装置，其特征在于，所述支撑轴为中空结构，其卡接于所述背喷组件的下方；所述支撑轴的外周侧配置有外部螺旋槽。
技术总结
本发明公开了一种晶圆水平清洗装置，其包括：夹持盘，其水平夹持晶圆；背喷组件，其同轴、间隙设置于所述夹持盘的中间位置；支撑轴，其设置于所述背喷组件下部；驱动电机，其转动部件与夹持盘连接，以带动夹持盘及其上的晶圆旋转；所述背喷组件包括喷射体，所述喷射体包括朝向晶圆喷射流体的喷射头；所述喷射头的外周侧配置有集液结构，以汇聚滴落至喷射体的；所述喷射体还包括抽吸结构，其设置于所述喷射体与夹持盘的交接处，以朝向喷射体与夹持盘之间的间隙抽吸流体。的间隙抽吸流体。的间隙抽吸流体。
技术研发人员：徐俊成 刘效岩 刘豫东 王鹏 郭辰
受保护的技术使用者：华海清科股份有限公司
技术研发日：2022.11.02
技术公布日：2022/11/29