湿法腐蚀机的晶圆水洗装置的制作方法

1.本实用新型涉及一种晶圆水洗装置，用于单片湿法刻蚀机上使用。


背景技术：

2.单片湿法腐蚀机在刻蚀完成后需要进行水洗，从而将晶圆表面残留的刻蚀液进行水洗，而目前的水洗装置主要是晶圆进入到水洗室后，水洗室内的喷淋头对晶圆的表面进行喷淋，晶圆在输送的过程中完成水洗，然后晶圆上表面由于刻蚀之后就会形成一些沟槽，这些沟槽内部残留的刻蚀液是难以通过喷淋的方式水洗彻底的，因此，目前的水洗装置的水洗效果并不理想，一般解决的方式是增加水洗室的长度，以增加清洗时间，但是这样导致水洗室尺寸增加，同时也影响了效率，同时还不能确保晶圆上表面的图形沟槽内的刻蚀液彻底清除。


技术实现要素：

3.本实用新型所要解决的技术问题是：提供湿法腐蚀机的晶圆水洗装置，该晶圆水洗装置能够更彻底的清除晶圆表面残留的刻蚀液。
4.为解决上述技术问题，本实用新型的技术方案是：湿法腐蚀机的晶圆水洗装置，包括相互衔接的第一输送组件和第二输送组件，所述第一输送组件包括第一机架和转动安装于第一机架上的一对第一输送轮组，所述第一输送轮组之间缠绕有若干条间隔设置的第一输送条，所述第二输送组件设置于水洗腔室内，水洗腔室上设置有进料口和出料口，所述第二输送组件包括第二机架和转动安装于第二机架上的一对第二输送轮组，所述第一输送轮组之间缠绕有若干条间隔设置的第二输送条，所述第一输送条和第二输送条的上表面衔接并平齐形成用于输送晶圆的输送面，所述水洗腔室的顶部安装有对晶圆上表面进行喷射超纯水的喷射水洗机构，所述水洗腔室在喷射水洗机构的输送下游安装有对晶圆上下表面进行喷淋超纯水的喷淋机构，所述喷射水洗机构和喷淋机构均与超纯水供应系统连通，所述第二机架上设置有检测晶圆定位于喷射水洗机构下方的检测传感器，该检测传感器与控制所述第二输送轮组运转的输送动力装置电连接。
5.作为一种优选的方案，所述喷射水洗机构包括固定于所述水洗腔室的顶部上的喷射供应水管，该喷射供应水管的底部设置有雾化喷射喷头，该雾化喷射喷头的位置与检测传感器之间的水平距离等于晶圆的半径，所述雾化喷射喷头的喷淋范围覆盖整个晶圆。
6.作为一种优选的方案，所述喷淋机构包括固定于水洗腔室顶部的上喷淋管和固定于所述第二机架上的下喷淋管，所述上喷淋管和下喷淋管均水平设置且沿输送方向延伸，所述上喷淋管的底部和下喷淋管的顶部均设置有若干个喷淋头，所述上喷淋管和下喷淋管均与超纯水供应系统管道连通。
7.作为一种优选的方案，所述上喷淋管和下喷淋管的数量为多根且平行设置。
8.作为一种优选的方案，所述第一机架上位于第一输送条的上方设置有两块导向板，所述两块导向板的上游端的间距大于下游端的间距，两块导向板的下游端的间距与晶
圆的直径适配，且导向板的下游端与检测传感器位置对应。
9.作为一种优选的方案，所述水洗腔室的底部设置有排液收集口。
10.采用了上述技术方案后，本实用新型的效果是：由于晶圆水洗装置，包括相互衔接的第一输送组件和第二输送组件，所述第一输送组件包括第一机架和转动安装于第一机架上的一对第一输送轮组，所述第一输送轮组之间缠绕有若干条间隔设置的第一输送条，所述第二输送组件设置于水洗腔室内，水洗腔室上设置有进料口和出料口，所述第二输送组件包括第二机架和转动安装于第二机架上的一对第二输送轮组，所述第一输送轮组之间缠绕有若干条间隔设置的第二输送条，所述第一输送条和第二输送条的上表面衔接并平齐形成用于输送晶圆的输送面，所述水洗腔室的顶部安装有对晶圆上表面进行喷射超纯水的喷射水洗机构，所述水洗腔室在喷射水洗机构的输送下游安装有对晶圆上下表面进行喷淋超纯水的喷淋机构，所述喷射水洗机构和喷淋机构均与超纯水供应系统连通，所述第二机架上设置有检测晶圆定位于喷射水洗机构下方的检测传感器，该检测传感器与控制所述第二输送轮组运转的输送动力装置电连接，该晶圆水洗装置在正常使用时，晶圆由第一输送组件输送后送入到水洗腔室内的第二输送组件上，由于第二输送组件上是间隔设置的第二输送条，因此可以很好的支撑晶圆的同时底部还有足够大的面积水洗，然后检测传感器检测到晶圆处于喷射水洗机构的下方时，第二输送组件停止输送，此时喷射水洗机构对晶圆上表面喷射超纯水，这样可以喷射的超纯水可以对晶圆上表面的图形凹槽进行冲刷，水洗更彻底，同时晶圆停止输送可以避免晶圆在输送过程中因喷射压力过大而导致晶圆翻转，而后喷射水洗完成后，晶圆继续运行，此时在运行的过程中由喷淋机构对晶圆的上下表面喷淋超纯水，从而有效的完成晶圆上下表面的水洗，该晶圆水洗装置结构合理，能够水洗更彻底。
11.又由于所述喷射水洗机构包括固定于所述水洗腔室的顶部上的喷射供应水管，该喷射供应水管的底部设置有雾化喷射喷头，该雾化喷射喷头的位置与检测传感器之间的水平距离等于晶圆的半径，所述雾化喷射喷头的喷淋范围覆盖整个晶圆，该雾化喷射喷头的位置刚好处于停留的晶圆中心，这样晶圆整个受力都比较均匀，不会出现受力不均而发生翻转或翘起的情况。
12.又由于所述上喷淋管和下喷淋管的数量为多根且平行设置，多根平行设置的上喷淋管和下喷淋管能够更好的覆盖晶圆，这样就可以减少喷淋时的水流压力，从而可以保证晶圆在平稳的输送过程中喷淋水洗。
13.又由于所述第一机架上位于第一输送条的上方设置有两块导向板，所述两块导向板的上游端的间距大于下游端的间距，两块导向板的下游端的间距与晶圆的直径适配，且导向板的下游端与检测传感器位置对应，这样利用两块导向板可以对晶圆的输送路线进行导向，使其准确的进入到第二输送条上，并且能准确的被检测传感器所检测，保证水洗动作的可靠性。
附图说明
14.下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
15.图1是本实用新型实施例的结构示意图；
16.图2是本实用新型实施例的第一输送组件、第二输送组件的俯视示意图；
17.附图中：1.第一输送组件；2.第一输送轮组；3.第二输送组件；4. 第二输送轮组；5.第一输送条；6.第二输送条；7.检测传感器；8.水洗腔室；9.导向板；10.喷射供应水管；11.雾化喷射喷头；12.上喷淋管； 13.下喷淋管；14.排液收集口；15.喷淋头；16.晶圆。
具体实施方式
18.下面通过具体实施例对本实用新型作进一步的详细描述。
19.如图1和图2所示，一种单片湿法腐蚀机晶圆16水洗装置，包括相互衔接的第一输送组件1和第二输送组件3，所述第一输送组件1包括第一机架和转动安装于第一机架上的一对第一输送轮组2，所述第一输送轮组2之间缠绕有若干条间隔设置的第一输送条5，所述第二输送组件3设置于水洗腔室8内，水洗腔室8上设置有进料口和出料口，所述水洗腔室8的底部设置有排液收集口14。所述第二输送组件3包括第二机架和转动安装于第二机架上的一对第二输送轮组4，所述第一输送轮组2之间缠绕有若干条间隔设置的第二输送条6，所述第一输送条5 和第二输送条6的上表面衔接并平齐形成用于输送晶圆16的输送面，第一输送轮组2和第二输送轮组4分别由对应的输送动力装置驱动，从而实现输送。
20.所述水洗腔室8的顶部安装有对晶圆16上表面进行喷射超纯水的喷射水洗机构，所述水洗腔室8在喷射水洗机构的输送下游安装有对晶圆16上下表面进行喷淋超纯水的喷淋机构，所述喷射水洗机构和喷淋机构均与超纯水供应系统连通，所述第二机架上设置有检测晶圆16定位于喷射水洗机构下方的检测传感器7，该检测传感器7与控制所述第二输送轮组4运转的输送动力装置电连接，而该输送动力装置一般采用伺服电机，可以准确控制输送的位置和输送的速度。
21.如图1所示，所述喷射水洗机构包括固定于所述水洗腔室8的顶部上的喷射供应水管10，该喷射供应水管10的底部设置有雾化喷射喷头 11，该雾化喷射喷头11的位置与检测传感器7之间的水平距离等于晶圆 16的半径，所述雾化喷射喷头11的喷淋范围覆盖整个晶圆16，该喷射水洗机构的进水压力较大，压力较大的超纯水会经过雾化喷射喷头11 形成流速较大压力较高的喷射水流，从而可以更好的清除晶圆16上表面的图形凹槽内的刻蚀液。
22.而所述喷淋机构包括固定于水洗腔室8顶部的上喷淋管12和固定于所述第二机架上的下喷淋管13，所述上喷淋管12和下喷淋管13均水平设置且沿输送方向延伸，所述上喷淋管12的底部和下喷淋管13的顶部均设置有若干个喷淋头15，所述上喷淋管12和下喷淋管13均与超纯水供应系统管道连通。
23.所述上喷淋管12和下喷淋管13的数量为多根且平行设置。这样可以更好的覆盖整个晶圆16，并且本实施例中，上喷淋管12上的喷淋头 15喷出的压力大于下喷淋管13上的喷淋头15喷出的压力，这样可以避免晶圆16跳动。
24.如图2所示，所述第一机架上位于第一输送条5的上方设置有两块导向板9，所述两块导向板9的上游端的间距大于下游端的间距，两块导向板9的下游端的间距与晶圆16的直径适配，且导向板9的下游端与检测传感器7位置对应。该导向板9可以约束晶圆16的输送路线，使检测传感器7能准确的检测到晶圆16，也确保每次晶圆16的输送路线都是唯一且准确的。检测传感器7可以采用光反射的传感器。
25.本实施例中提到的超纯水供应系统为水洗装置的现有系统，伺服电机、检测传感器7的控制和检测原理也均为目前的常规结构，在此不详细描述。以上所述实施例仅是对本
发明的优选实施方式的描述，不作为对本发明范围的限定，在不脱离本发明设计精神的基础上，对本发明技术方案作出的各种变形和改造，均应落入本发明的权利要求书确定的保护范围内。