X射线产生装置的制作方法

本发明涉及一种x射线产生装置。

背景技术：

1、在专利文献1中记载有一种透过型x射线管装置。该装置具备：真空外围器，其构成x射线管；x射线透过窗，其设置于真空外围器的一端部；金属薄膜，其形成设置于x射线透过窗的真空侧的x射线靶；及电子枪，其产生照射x射线靶的电子束。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1：日本特开2001-126650号公报

技术实现思路

1、发明所要解决的问题

2、在上述专利文献1所记载的装置中，金属薄膜的膜厚因场所而不同，且设置有使电子束偏向的偏向电极。偏向电极由以互相相对的方式配置于靶与聚焦电极之间的一对电极板构成。由此，在该装置中，根据自电子枪产生的电子束的加速电压的变化，使施加于偏向电极的偏向电压变化，谋求使电子束入射至靶的适当的膜厚的场所。

3、这样，在上述技术领域中，要求使电子束根据其加速电压入射至靶的适当的厚度的位置。

4、因此，本发明的目的在于提供一种可使电子束入射至靶的适当的位置的x射线产生装置。

5、解决问题的技术手段

6、本发明的x射线产生装置，具备：壳体；电子枪，其具有在壳体内出射电子的电子出射部、及用于引出自电子出射部出射的电子的引出电极；靶，其在壳体内通过电子的入射而产生x射线；窗构件，其将壳体的开口密封，且使x射线透过；及管电压施加部，其对电子出射部与靶之间施加管电压；靶的厚度具有分布，靶配置成，相对于与电子枪的轴线正交的假想面倾斜，且相较于施加于引出电压的引出电压相对高时的电子的入射位置，在上述引出电压相对低时的电子的入射位置上，靶的厚度变薄。

7、在该装置中，通过管电压施加部，对电子枪的电子出射部与靶之间施加管电压，且靶相对于与电子枪的轴线正交的假想面倾斜配置。因此，电子出射部与靶之间的管电压的等电位面相对于该假想面倾斜。因此，通过电子通过该等电位面倾斜的区域，电子偏向。此时的电子的偏向量为，电子初速度越大而越小，电子初速度越小而越大。因此，根据引出电极的引出电压的大小(电子初速度的大小)，调整电子的偏向量。因此，通过靶的厚度具有分布，且靶以相较于引出电压相对高时的电子的入射位置，在引出电压相对低时的电子的入射位置上，靶的厚度变薄的方式具有分布，可使电子入射至靶的适当的位置。另外，引出电压高(及低)，是指引出电极与电子出射部之间的电位差大(及小)。

8、在本发明的x射线产生装置中，也可为靶的厚度自中央部向周缘部变薄，靶以随着引出电压相对变低，电子入射至周缘部侧的方式配置。在该情况下，容易以靶的厚度具有上述那样的分布的方式形成靶。

9、在本发明的x射线产生装置中，也可为具备磁场形成部，其用于通过在电子出射部与靶之间形成磁场，而使电子偏向。在该情况下，可利用磁场使电子进一步偏向。

10、在本发明的x射线产生装置中，也可为磁场形成部包含永久磁铁。这样，在该装置中，若通过永久磁铁形成固定的磁场，则利用该磁场自动调整电子的偏向量。因此，可靠地避免控制的复杂化。

11、在本发明的x射线产生装置中，也可为窗构件具有与壳体的内部相反侧的第1表面、及壳体的内部侧的第2表面，靶形成于第2表面。在该情况下，构成所谓透过型的x射线产生装置。

12、在本发明的x射线产生装置中，也可为靶在以与电子枪及窗构件两者相对的方式倾斜的状态下被支撑。在该情况下，构成所谓反射型的x射线产生装置。

13、发明的效果

14、根据本发明，可提供一种能够使电子束入射至靶的适当的位置的x射线产生装置。

技术特征：

1.一种x射线产生装置，其中，

2.如权利要求1所述的x射线产生装置，其中，

3.如权利要求1或2所述的x射线产生装置，其中，

4.如权利要求3所述的x射线产生装置，其中，

5.如权利要求1～4中任一项所述的x射线产生装置，其中，

6.如权利要求1～4中任一项所述的x射线产生装置，其中，

技术总结
一种X射线产生装置，具备：壳体；电子枪，其具有在上述壳体内出射电子的电子出射部、及用于引出自上述电子出射部出射的上述电子的引出电极；靶，其在上述壳体内通过上述电子的入射而产生X射线；窗构件，其将上述壳体的开口密封，且使上述X射线透过；及管电压施加部，其对上述电子出射部与上述靶之间施加管电压；上述靶的厚度具有分布，上述靶配置成，相对于与上述电子枪的轴线正交的假想面倾斜，且相较于施加于上述引出电极的引出电压相对高时的上述电子的入射位置，在上述引出电压相对低时的上述电子的入射位置上，该靶的厚度变薄。

技术研发人员：铃木直伸,石井淳,薮下绫介,清水亮迪,小杉尚史,杉浦银治
受保护的技术使用者：浜松光子学株式会社
技术研发日：
技术公布日：2024/3/17