1.一种晶圆清洗装置，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述喷射体包括引流孔，其设置于第一凹槽与第二凹槽之间，以连通积液腔和排液腔。
3.如权利要求2所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述引流孔自第一凹槽的底部倾斜向下、朝向所述第二凹槽延伸设置。
4.如权利要求1所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述喷射体配置有中间凸起部，其位于所述第一凹槽的内侧；设置于喷射体的流体管路经由所述中间凸起部朝向晶圆设置。
5.如权利要求4所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述中间凸起部的顶面不高于所述盖体的顶面。
6.如权利要求4所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述中间凸起部的外侧面与盖体之间的间隙由上至下逐渐变小。
7.如权利要求4所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述喷射体还配置有第一周壁和第二周壁；所述第一周壁位于第一凹槽外侧，其与所述中间凸起部形成第一凹槽；所述第二周壁位于第二凹槽外侧，其与所述第一周壁形成第二凹槽；所述第一周壁的顶面位于所述第二周壁的下侧。
8.如权利要求1所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述旋转驱动件的内部竖向设置有中空的导向轴，所述喷射体竖向设置于所述导向轴的上端；所述喷射体间隙设置于转盘的中心孔。
9.如权利要求7所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述盖体的下部配置有凹凸结构，其与喷射体的上端结构匹配设置，使得第一周壁及第二周壁与盖体之间的间隙小于中间凸起部的外侧面与盖体之间的间隙。
10.如权利要求2所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述盖体的内侧配置有第一凸起部，所述第一凸起部设置于第一凹槽的内部；所述第一凸起部将引流孔的截面局部封堵。
11.一种晶圆清洗装置，其特征在于，包括：
12.如权利要求11所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述凹槽结构的底面具有坡度，所述排液管路的端口位于所述凹槽结构的最低处。
13.如权利要求11所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述排液管路沿所述喷射体的长度方向设置，所述排液管路偏离所述流体管路设置。
14.如权利要求11所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述旋转驱动件的内部竖向设置有中空的导向轴，所述喷射体竖向设置于所述导向轴的上端；所述喷射体间隙设置于转盘的中心孔。
15.如权利要求11所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述凹槽结构的内部配置有凸台，所述流体管路的端口位于所述凸台并朝向晶圆的背面设置；所述凸台的顶面位于所述排液管路端口的上方。
16.如权利要求15所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述喷射体的顶部配置有外周壁，以在喷射体顶部形成所述凹槽结构；所述盖体的下部配置有凹凸结构，其与喷射体的上端结构匹配设置，使得所述外周壁与盖体之间的间隙小于所述凸台与盖体之间的间隙。
17.如权利要求15所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述凸台的顶面位于盖体顶面的下侧。
18.如权利要求11所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述流体管路的端口朝向晶圆的中心处倾斜延伸设置。
19.如权利要求15所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述盖体的中部配置有内部凸起，所述内部凸起自盖体的顶部朝下向内延伸设置。
20.如权利要求19所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述内部凸起的下端低于所述凸台的顶面。