基板处理装置、半导体装置的制造方法及记录介质与流程

本公开涉及基板处理装置、半导体装置的制造方法及记录介质。

背景技术：

1、在基板处理装置中，在装置故障产生后，为了提高装置的生产率，从确定原因到解决故障所花费的时间的缩短是重要的课题。在现有技术中，有时在故障产生时将该时刻的装置数据保存为故障信息，提供给使用者，由此能够进行原因的确定。

2、例如，在专利文献1中记载了如下技术：如果检测到故障，则取得与解析项目对应的监视数据，显示分别具有显示警报的产生历史的区域和显示与解析项目对应的监视数据的区域的显示画面。

3、在现有技术中，在产生了装置故障的情况下，使用者能够确认的信息有时仅是故障产生时刻的装置数据。因此，存在与产生故障相关的信息不充分，故障产生的原因的确定花费时间这样的课题。

4、专利文献1：日本特开2021-150540号公报

技术实现思路

1、本公开提供一种能够辅助尽快确定故障产生的原因并恢复的结构。

2、根据本公开的一方式，提供一种结构，包含：存储部，其存储定义了基板的处理条件的制程、从装置报告的装置信息以及在所述装置的故障产生时生成的故障信息；处理容器，其能够根据指定的所述制程来进行所述基板的处理；以及控制部，其能够进行以下控制：在所述装置的故障产生时，将在所述故障产生前的预先定义的第一期间报告的第一装置信息和所述制程作为故障数据，与所述故障信息所包含的故障产生时刻一起存储到所述存储部，并且将从所述故障产生时起在预先定义的第二期间报告的第二装置信息追加到所述故障数据中。

3、根据本公开，能够辅助尽快确定故障产生的原因并恢复。

技术特征：

1.一种基板处理装置，其特征在于，包含：

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

4.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

5.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

6.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

7.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

8.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

9.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

10.根据权利要求9所述的基板处理装置，其特征在于，

11.根据权利要求9所述的基板处理装置，其特征在于，

12.根据权利要求9所述的基板处理装置，其特征在于，

13.根据权利要求9所述的基板处理装置，其特征在于，

14.根据权利要求9所述的基板处理装置，其特征在于，

15.根据权利要求9所述的基板处理装置，其特征在于，

16.根据权利要求9所述的基板处理装置，其特征在于，

17.根据权利要求16所述的基板处理装置，其特征在于，

18.一种半导体装置的制造方法，其特征在于，具有：

19.一种计算机可读取的记录介质，其特征在于，

技术总结
本发明提供一种基板处理装置、半导体装置的制造方法及记录介质，提供一种辅助尽快确定故障产生的原因并恢复的技术。基板处理装置包含：存储部，其存储定义了基板的处理条件的制程、由装置报告的装置信息和在所述装置的故障产生时生成的故障信息；处理容器，其能够根据指定的所述制程进行所述基板的处理；以及控制部，其能够进行以下控制：在所述装置的故障产生时，将在所述故障产生前的预先定义的第一期间报告的第一装置信息和所述制程作为故障数据，与所述故障信息所包含的故障产生时刻一起存储到所述存储部，并且将从所述故障产生时起在预先定义的第二期间报告的第二装置信息追加到所述故障数据中。

技术研发人员：竹林由梨,森真一朗,川崎润一
受保护的技术使用者：株式会社国际电气
技术研发日：
技术公布日：2024/3/24