本申请涉及x射线源。
背景技术:
1、x射线有许多用途,包括成像、x射线荧光分析、x射线衍射分析和静电耗散。x射线管的阴极和阳极之间的大电压,有时已被加热的灯丝,可导致电子从阴极发射到阳极。阳极可以包括靶材。靶材可响应于来自阴极的撞击电子产生x射线。
技术实现思路
1、x射线管可以包括互相电绝缘的阴极和阳极。所述阴极可以包括配置成朝向所述阳极发射电子的灯丝。所述阳极可以被配置成响应于来自所述灯丝的撞击电子从所述x射线管发射x射线。
2、所述灯丝可以包括在一对电极之间的平面中非线性地延伸的细长导线。由于所述一对电极之间的电压差,所述灯丝可以被流经所述细长导线的电流加热。
3、所述灯丝可以包括盘旋段,其中所述导线围绕所述灯丝中心处的轴形成至少一整圈。所述灯丝可以形成平行于平面定向的双盘旋形状。所述灯丝可以包括一对低区域、一对外高区域和一个中央高区域。每个低区域可以在一端电耦合到所述一对外高区域之一,并在相对的端电耦合到所述中央高区域。所述低区域和所述中央高区域可以电耦合在所述一对外高区域之间。基于所述低区域中的导线横截面积较大,每个低区域可以被配置为具有比所述中央高区域的所述外高区域较低的电流密度。
1.一种x射线管,包括:
2.根据权利要求1所述的x射线管,其特征在于:a12/a11≥1.1,a12/a13≥1.1,其中a12是每个低区域的导线横截面积,a11是与所述低区域相邻的所述外高区域的导线横截面积,和a13是所述中央高区域的导线横截面积。
3.根据权利要求1所述的x射线管,其特征在于:每个低区域具有在操作期间比与所述低区域相邻的所述外高区域和所述中央高区域低至少15%的电流密度。
4.根据权利要求1所述的x射线管,其特征在于:
5.根据权利要求1所述的x射线管,其特征在于:w12/w11≥1.1,w12/w13≥1.1,其中w12是每个低区域的导线宽度,w11是与所述低区域相邻的所述外高区域的导线宽度,以及w13是所述中央高区域的导线宽度。
6.根据权利要求1所述的x射线管,其特征在于:
7.根据权利要求1所述的x射线管,其特征在于:t12/t11≥1.1,t12/t13≥1.1,其中t12是每个低区域的导线厚度,t11是与所述低区域相邻的所述外高区域的导线厚度,和t13是所述中央高区域的导线厚度。
8.根据权利要求1所述的x射线管,其特征在于:
9.根据权利要求8所述的x射线管,其特征在于:每个中央高区域在操作期间具有比与所述中央高区域相邻的所述中心区域≥1.1倍的电流密度。
10.根据权利要求8所述的x射线管,其特征在于:每个中央高区域中的导线厚度小于所述中心区域的导线厚度。