一种直线式半片硅片传输线的制作方法

本技术涉及电池制造，具体涉及一种直线式半片硅片传输线。

背景技术：

1、现有技术当中，在太阳能电池(例如topcon电池)的生产过程中，有激光开槽的工序。在该工序中，利用激光在硅片的表面进行打孔或者开槽，将部分薄膜层(例如al2o3层、sinx层)打穿露出硅基体，从而使背电场通过薄膜上的孔或槽与硅基体接触。

2、由于激光加工生产节拍较慢，为了提高产能，通常需要配置多条生产线来执行硅片的激光开槽的工序。然而这样增加了设备成本，且占用面积较大。为了解决上述问题，现有在一条生产线的激光加工工位增加多个激光器，这样能够同时对多片硅片进行加工，也能提升产能，但是现有采用传输带结构将硅片一片一片地转移加工工位的旋转治具台上，这样效率较低。且由于根据客户需要，生产线需要进行两张半片硅片的同时输送，然而现有的生产线无法完成两张半片硅片的输送。

技术实现思路

1、为了克服现有技术的不足，本实用新型提供一种直线式半片硅片传输线，通过同时对多张半片的硅片进行输送，提高了生产效率。

2、本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：

3、一种直线式半片硅片传输线，包括并排设置的上料传输线和下料传输线，所述上料传输线、下料传输线均包括多条输送线；还包括：

4、加工传输平台,所述加工传输平台包括吸附平台和第一滑动模组，所述第一滑动模组用于驱动所述吸附平台移动；

5、转运机构,所述转运机构包括抓取组件和第二滑动模组，所述第二滑动模组用于驱动所述抓取组件移动，所述抓取组件用于将上料传输线上的硅片转移到吸附平台上或将吸附平台上的硅片转移到下料传输线上；所述抓取组件包括若干真空吸盘，若干真空吸盘用于同时吸取多条输送线上的硅片。

6、作为上述技术方案的进一步改进，所述上料传输线与下料传输线对应设置有多组，所述加工传输平台上以及转运机构对应设置有多组。

7、作为上述技术方案的进一步改进，所述加工传输平台上的吸附平台对应设置有多组。

8、作为上述技术方案的进一步改进，所述抓取组件包括上料抓取组件和下料抓取组件，所述上料抓取组件用于将上料传输线上的硅片转移到吸附平台上，所述下料抓取组件用于将吸附平台的硅片转移到下料传输线上。

9、作为上述技术方案的进一步改进，所述上料抓取组件和下料抓取组件结构相同，均包括一固定支架以及安装在固定支架上的多个真空吸盘，多个所述真空吸盘呈矩形阵列设置，且相邻两排真空吸盘的间距等于相邻两排输送线的间距。

10、作为上述技术方案的进一步改进，所述吸附平台包括滑动支架以及安装在滑动支架上的真空吸附板，所述滑动支架与第一滑动模组连接。

11、作为上述技术方案的进一步改进，所述直线式半片硅片加工传输线还包括对夹校正机构，所述对夹校正机构至少包括两个，其中，至少一个所述对夹校正机构设置在所述上料传输线的一侧，用于对所述上料传输线上的硅片进行位置校正；且至少一个所述对夹校正机构设置在所述下料传输线的一侧，用于对所述下料传输线上的硅片进行位置校正。

12、作为上述技术方案的进一步改进，所述直线式半片硅片加工传输线还包括缓存机构，所述缓存机构至少包括两个；其中至少一个所述缓存机构设置在所述上料传输线的一侧，以缓存从所述上料传输线待转移至激光加工工位的硅片；且至少一个所述缓存机构设置在所述下料传输线的一侧，以缓存从所述下料传输线待转移至后续工位的硅片。

13、作为上述技术方案的进一步改进，所述直线式半片硅片加工传输线还包括隐裂检测机构和aoi检测机构，所述隐裂检测机构设置在所述上料传输线的一侧，用于对硅片进行检测；所述aoi检测机构设置在所述下料传输线的一侧，用于对硅片的表面进行检测。

14、作为上述技术方案的进一步改进，所述直线式半片硅片加工传输线还包括ng排料机构，所述ng排料机构设置在所述下料传输线的一侧，用于将aoi检测机构检测到的不合格硅片从下料传输线上取下。

15、本实用新型的有益效果是：通过转运机构和加工传输平台进行半片硅片的直线式搬运，并可以同时进行多张半片硅片的搬运，提高了生产效率。

技术特征：

1.一种直线式半片硅片传输线，包括并排设置的上料传输线和下料传输线，所述上料传输线、下料传输线均包括多条输送线；其特征在于，还包括：

2.根据权利要求1所述的一种直线式半片硅片传输线，其特征在于，所述上料传输线与下料传输线对应设置有多组，所述加工传输平台以及转运机构对应设置有多组。

3.根据权利要求2所述的一种直线式半片硅片传输线，其特征在于，所述加工传输平台上的吸附平台对应设置有多组。

4.根据权利要求3所述的一种直线式半片硅片传输线，其特征在于，所述抓取组件包括上料抓取组件和下料抓取组件，所述上料抓取组件用于将上料传输线上的硅片转移到吸附平台上，所述下料抓取组件用于将吸附平台的硅片转移到下料传输线上。

5.根据权利要求4所述的一种直线式半片硅片传输线，其特征在于，所述上料抓取组件和下料抓取组件均包括一固定支架以及安装在固定支架上的多个真空吸盘，多个所述真空吸盘呈矩形阵列设置，且相邻两排真空吸盘的间距等于相邻两排输送线的间距。

6.根据权利要求5所述的一种直线式半片硅片传输线，其特征在于，所述吸附平台包括滑动支架以及安装在滑动支架上的真空吸附板，所述滑动支架与第一滑动模组连接。

7.根据权利要求1所述的一种直线式半片硅片传输线，其特征在于，还包括对夹校正机构，所述对夹校正机构至少包括两个，其中，至少一个所述对夹校正机构设置在所述上料传输线的一侧，用于对所述上料传输线上的硅片进行位置校正；且至少一个所述对夹校正机构设置在所述下料传输线的一侧，用于对所述下料传输线上的硅片进行位置校正。

8.根据权利要求1所述的一种直线式半片硅片传输线，其特征在于，还包括缓存机构，所述缓存机构至少包括两个；其中至少一个所述缓存机构设置在所述上料传输线的一侧，以缓存从所述上料传输线待转移至激光加工工位的硅片；且至少一个所述缓存机构设置在所述下料传输线的一侧，以缓存从所述下料传输线待转移至后续工位的硅片。

9.根据权利要求1所述的一种直线式半片硅片传输线，其特征在于，还包括隐裂检测机构和aoi检测机构，所述隐裂检测机构设置在所述上料传输线的一侧，用于对硅片进行检测；所述aoi检测机构设置在所述下料传输线的一侧，用于对硅片的表面进行检测。

10.根据权利要求9所述的一种直线式半片硅片传输线，其特征在于，还包括ng排料机构，所述ng排料机构设置在所述下料传输线的一侧，用于将aoi检测机构检测到的不合格硅片从下料传输线上取下。

技术总结
本技术公开了一种直线式半片硅片传输线，包括加工传输平台、转运机构以及并排设置的上料传输线和下料传输线，所述上料传输线、下料传输线均包括多条输送线；所述加工传输平台包括吸附平台和第一滑动模组，所述第一滑动模组用于驱动所述吸附平台移动；所述转运机构包括抓取组件和第二滑动模组，所述第二滑动模组用于驱动所述抓取组件移动，所述抓取组件用于将上料传输线上的硅片转移到吸附平台上或将吸附平台上的硅片转移到下料传输线上；所述抓取组件包括若干真空吸盘，若干真空吸盘用于同时吸取多条输送线上的硅片。本技术通过上料传输线、下料传输线及转运机构的设置，能够同时进行多张半片硅片的上下料，提高了生产效率。

技术研发人员：谢敏,周宇超,何颖波,毛俊波,谭淼,张日明
受保护的技术使用者：海目星激光科技集团股份有限公司
技术研发日：20230810
技术公布日：2024/3/21