一种修复tft面板阵列t形缺陷的测试结构及方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及医疗检测领域，特别是涉及一种修复TFT面板阵列T形缺陷的测试结构及方法。
【背景技术】
[0002]从1995年RSNA上推出第一台平板探测器(Flat Panel Detector)设备以来，随着近年平板探测技术取得飞跃性的发展，在平板探测器的研发和生产过程中，平板探测技术可分为直接和间接两类。间接FPD的结构主要是由闪烁体或荧光体层加具有光电二极管作用的非晶娃层(amorphous Silicon，a_Si)再加薄膜半导体阵列(Thin Film Transistorarray, TFT)构成。
[0003]非晶硅X射线平板探测器的成像过程需要经历“X射线”到“可见光”，然后“电荷图像”到“数字图像”的成像转换过程，是一种以非晶硅光电二极管阵列为核心的X射线影像探测器。在X射线照射下探测器的闪烁体或荧光体层将X射线光子转换为可见光，而后由具有光电二极管作用的非晶硅阵列变为图像电信号，通过外围电路积分读出及A/D变换，从而获得数字化图像。非晶硅平板探测器具有成像速度快，良好的空间及密度分辨率，高信噪比，直接数字输出等显著优点。
[0004]但是，在非晶硅TFT面板阵列的生产过程中，会引入一些杂质，导致个别像素点因为短路、击穿、漏电等，造成该像素点的灰度值饱和，并影响周围的像素，最终在整个图像上形成一个大写“T”形的缺陷。针对这种缺陷，当前的修复方式是从非晶硅TFT面板阵列的正面用激光将该像素通道打通，从而隔离该像素，使其不影响其他周围的像素。
[0005]除了在生产非晶硅TFT面板阵列时会引入杂质，在给非晶硅TFT面板阵列的正面附着一层闪烁体的工艺过程中，也会出现“T”型缺陷，由于正面已经覆盖了闪烁体，难以分离，激光被闪烁体挡住，无法从正面无法穿过闪烁体，因此，此时形成的T形缺陷不能从非晶硅TFT面板阵列的正面进行修复。
[0006]因此，提供一种新的修复TFT面板阵列T形缺陷的测试结构及方法是本领域技术人员需要解决的课题。
【发明内容】
[0007]鉴于以上所述现有技术的缺点，本发明的目的在于提供一种修复TFT面板阵列T形缺陷的测试结构及方法，用于解决现有技术中TFT面板阵列正面制作闪烁体后，无法从正面修复T形缺陷的问题。
[0008]为实现上述目的及其他相关目的，本发明提供一种修复TFT面板阵列T形缺陷的测试结构，所述测试结构至少包括:支撑件和连接件；
[0009]所述支撑件包括支撑平台和安装在所述支撑平台上的缓冲层和支撑柱；
[0010]所述缓冲层上承载有待修复的非晶硅TFT面板阵列，所述非晶硅TFT面板阵列具有第一表面和第二表面，所述第一表面形成有闪烁体层，所述闪烁体层与所述缓冲层物理接触；
[0011]所述连接件包括与所述非晶硅TFT面板阵列电连的柔性电路板、和与所述柔性电路板电连的信号处理电路板，所述信号处理电路板由所述支撑柱所支撑。
[0012]作为本发明修复TFT面板阵列T形缺陷的测试结构的一种优化的方案，所述支撑柱焊接在所述支撑平台上或者通过螺纹固定在所述支撑平台上。
[0013]作为本发明修复TFT面板阵列T形缺陷的测试结构的一种优化的方案，所述支撑柱为招金属。
[0014]作为本发明修复TFT面板阵列T形缺陷的测试结构的一种优化的方案，所述信号处理电路板上设置有连接器，所述柔性电路板通过所述连接器与信号处理电路板电连。
[0015]作为本发明修复TFT面板阵列T形缺陷的测试结构的一种优化的方案，所述缓冲层为硅胶垫。
[0016]作为本发明修复TFT面板阵列T形缺陷的测试结构的一种优化的方案，所述非晶硅TFT面板阵列的第二表面朝上，所述第二表面覆盖有透明基板。
[0017]作为本发明修复TFT面板阵列T形缺陷的测试结构的一种优化的方案，所述闪烁体层为GOS或Cs I。
[0018]本发明还提供一种修复TFT面板阵列T形缺陷的方法，所述方法包括:将所述非晶硅TFT面板阵列倒置于支撑平台上的缓冲层表面，用所述支撑柱支撑信号处理电路板，激光从所述非晶硅TFT面板阵列的第二表面入射，隔离缺陷像素点。
[0019]作为本发明修复TFT面板阵列T形缺陷的方法的一种优化的方案，所述信号处理电路板为倒扣式安装，并由所述支撑柱支撑。
[0020]作为本发明修复TFT面板阵列T形缺陷的方法的一种优化的方案，所述激光穿过透明基板，从所述第二表面入射到达非晶硅TFT面板阵列上的缺陷像素点。
[0021]如上所述，本发明修复TFT面板阵列T形缺陷的测试结构及方法，所述测试结构至少包括:支撑件和连接件；所述支撑件包括支撑平台和安装在所述支撑平台上的缓冲层和支撑柱；所述缓冲层上承载有待修复的非晶硅TFT面板阵列，所述非晶硅TFT面板阵列具有第一表面和第二表面，所述第一表面形成有闪烁体层，所述闪烁体层与所述缓冲层物理接触；所述连接件包括与所述非晶硅TFT面板阵列电连的柔性电路板、和与所述柔性电路板电连的信号处理电路板，所述信号处理电路板由所述支撑柱所支撑。本发明通过在支撑平台上设置支撑件，再利用柔性电路板和信号处理电路板，使非晶硅TFT面板阵列能够倒置于支撑平台上，从而将使激光可以从非晶硅TFT面板阵列的背面入射，找到并隔离修复受损像素点。
【附图说明】
[0022]图1为现有技术的测试结构无法修复TFT面板阵列T形缺陷的示意图。
[0023]图2为本发明的修复TFT面板阵列T形缺陷的测试结构示意图。
[0024]元件标号说明
[0025]I支撑平台
[0026]2缓冲层
[0027]3闪烁体
[0028]4非晶硅TFT面板阵列
[0029]41第一表面
[0030]42第二表面
[0031]5支撑柱
[0032]6电路板
[0033]61连接器
[0034]7柔性电路板
【具体实施方式】
[0035]以下通过特定的具体实例说明本发明的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本发明的其他优点与功效。本发明还可以通过另外不同的【具体实施方式】加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本发明的精神下进行各种修饰或改变。
[0036]请参阅附图。需要说明的是，本实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本发明的基本构想，遂图式中仅显示与本发明中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局型态也可能更为复杂。
[0037]现有技术中，一般将非晶硅TFT面板阵列正面朝上放置进行缺陷像素电的修复。如果非晶硅TFT面板阵列正面没有形成闪烁体层，则这种放置方式可以顺利进行像素点的修复操作，但是如果所述非晶硅TFT面板阵列的表面已经形成闪烁体层，则这种放置方式则会由于闪烁体的遮挡而无法进行激光修复。如图1所示，激光从正面入射，被闪烁体3挡住，无法达到非晶硅TFT面板阵列4上的缺陷像素点。
[0038]有鉴于此，本发明提供一种修复TFT面板阵列T形缺陷的测试结构及方法，与现有技术相比，本发明在支撑平台上增加了结构支撑柱，利用专门设计的转接电路板和连接器，使所述非晶硅TFT面板阵列倒扣于支撑平台上，从而使激光入射进入非晶硅TFT面板阵列的背面，能够顺利摘到并隔离受损的像素点。
[0039]以下将详细阐述本发明的修复TFT面板阵列T形缺陷的测试结构及方法的原理及实施方式，使本领域技术人员不需要创造性劳动