反应腔室的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及微电子技术领域，具体地，涉及一种反应腔室。
【背景技术】
[0002]常压化学气相沉积(AtmosphericPressure Chemical Vapor Deposit1n,APCVD)是指在大气压下进行的一种化学气相沉积的方法。APCVD设备主要由以下子系统组成:(I)反应室子系统；(2)气体输运子系统；(3)尾气处理子系统。其中，反应室子系统是APCVD设备的核心组件，其设计方案对于外延层质量和设备产率具有决定性的影响。例如，在反应室子系统内，通常设置有用于承载被加工工件的托盘、用于驱动该托盘旋转的旋转机构以及用于加热该被加工工件的加热装置。为了保证反应室子系统内的温度场和气流的均匀性，提高工艺均勻性，就对旋转机构驱动托盘旋转的稳定性具有一定的要求。
[0003]图1为现有的一种基座旋转机构的剖视图。图2为沿图1中B-B线的剖视图。请一并参阅图1和图2，在反应腔室I内设置有基座，该基座为可承载多个被加工工件的托盘
2;基座旋转机构用于驱动托盘2旋转，该基座旋转机构包括旋转轴3、上法兰6、下法兰7、焊接波纹管8、磁流体轴承5和伺服电机4。其中，旋转轴3的上端与托盘2连接，下端竖直向下延伸至反应腔室I的外部，并与磁流体轴承5连接；焊接波纹管8套设在旋转轴3上，用以密封反应腔室I，并且焊接波纹管8的上端与反应腔室I的底部连接，下端与上法兰6连接；上法兰6和下法兰7通过螺栓对接，且二者可相对于反应腔室I作升降运动；磁流体轴承5固定在下法兰7上，且通过联轴器41与伺服电机4的驱动轴连接。在伺服电机4的驱动下，磁流体轴承5通过旋转轴3带动托盘2围绕旋转轴3旋转。此外,为了提高劳动生产率，保证被加工工件无污染，通常采用机械手自托盘2进行取放片操作，由于该机械手是水平地将被加工工件放置于托盘2的上端面，因而对托盘2上端面的水平度具有一定的要求，以保证机械手与托盘上端面用于承载各个被加工工件的位置之间的竖直间距一致，从而保证机械手取放片的成功率，通常要求该距离误差小于0.5mm。为此，如图2所示，在上法兰6上还分别设置有拧紧螺丝9和止动螺丝10，通过调节二者的松紧程度可以调节上法兰6上端面的水平度，从而可以间接调节固定在该上法兰6上的托盘2上端面的水平度，以实现上述距离误差维持在允许的范围内。
[0004]上述基座旋转机构在实际应用中不可避免地存在以下问题，即:
[0005]上述托盘2在旋转时会产生端面跳动的现象，该现象会影响托盘上端面的水平度，而上述基座旋转机构不具备减小或消除端面跳动公差的功能，从而仍然存在托盘2上端面的水平度无法满足机械手成功取放片的要求的问题。
【发明内容】
[0006]本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种反应腔室，其旋转机构可以消除基座的端面跳动公差，从而可以提高基座上端面的水平度，以使其满足机械手成功取放片的要求。
[0007]为实现本发明的目的而提供一种反应腔室，包括基座和旋转机构，所述基座设置在所述反应腔室内，用以承载被加工工件；所述旋转机构通过旋转轴与所述基座连接，用以驱动所述基座围绕所述旋转轴旋转；所述旋转机构包括:端面跳动检测装置，设置在所述基座上方，用于检测其分别与在所述基座上端面的同一圆周上的各个检测点之间的高度差值；调平装置，用于调节所述基座上端面在调节位置处的高度，直至各个高度差值一致；所述调节位置为所述基座上端面上与所有的所述高度差值中的最大值或者最小值相对应的位置。
[0008]其中，所述旋转驱动机构还包括环形中心轴，所述环形中心轴的上部分套设在所述旋转轴上；所述环形中心轴的下部分自所述旋转轴的下端伸出；所述调平装置位于所述环形中心轴的内侧，且与所述旋转轴可围绕其旋转的连接，并且所述调平装置通过调节所述环形中心轴在所述调节位置处的高度，来间接调节所述旋转轴的倾斜角度，从而实现调整所述基座上端面在调节位置处的高度。
[0009]优选的，在所述环形中心轴下部分的内周壁上环绕设置有环形的水平凸缘，所述水平凸缘的上端面和下端面均与所述旋转轴的径向相互平行；所述调平装置包括调平本体、中心螺钉和多个调节螺钉，其中，所述调平本体的上端面与所述水平凸缘的下端面相接触，且在所述调平本体的上端面上设置有中心通孔和均匀分布在其周围的多个调节通孔；所述中心螺钉穿过所述中心通孔并与所述旋转轴连接；各个调节螺钉一一对应地穿过各个调节通孔，且与该调节通孔螺纹连接；并且，每个所述调节螺钉的前端呈圆锥状，且在每个所述调节通孔的孔壁上还设置有可径向移动的球体，所述球体的一部分位于所述调节通孔的孔壁内侧，所述球体的另一部分位于所述调平本体的外周壁外侧，并与所述环形中心轴的内周壁相接触。
[0010]优选的，在所述旋转轴的下端设置有连接孔，所述连接孔的轴线与所述旋转轴的轴线相重合；在所述旋转轴的下端面与所述水平凸缘的上端面之间还设置有滑动套，在所述滑动套的上端面设置有连接轴，所述连接轴位于所述连接孔内，且二者相互配合；在所述滑动套的下端面设置有螺纹孔，所述中心螺钉穿过所述中心通孔并与所述螺纹孔螺纹配入口 O
[0011]优选的，在所述水平凸缘的上端面和所述滑动套与该上端面相接触的表面之间设置有旋转密封件，用以对所述环形中心轴和所述旋转轴之间的间隙进行密封。
[0012]优选的，在所述环形中心轴上还套设有轴套，且在所述轴套与所述环形中心轴之间设置有双密封圈，用以对二者之间的间隙进行密封。
[0013]优选的，所述反应腔室还包括上法兰和下法兰，二者采用螺纹连接的方式对接，且可相对于所述反应腔室作升降运动；并且，所述上法兰和下法兰用于支撑所述旋转机构。
[0014]优选的，所述反应腔室还包括波纹管，所述波纹管套设在所述旋转轴上，并且所述波纹管的上端与所述反应腔室的底部密封连接；所述波纹管的下端与所述上法兰连接；所述波纹管的下端与所述旋转机构采用泛塞密封圈实现二者之间的密封。
[0015]优选的，所述反应腔室还包括水平度调节装置，其包括拧紧螺钉和止动螺钉，其中，所述拧紧螺钉和止动螺钉分别安装在所述上法兰的上端面和所述下法兰的下端面上；通过分别调节所述拧紧螺钉和止动螺钉分别相对于所述上法兰和下法兰在其轴向上的相对位置，来调节所述上法兰上端面的水平度，从而间接调节所述基座上端面的水平度。
[0016]优选的，所述端面跳动检测装置包括距离传感器。
[0017]本发明具有以下有益效果:
[0018]本发明提供的反应腔室，其通过在基座上方设置端面跳动检测装置，可以检测该端面跳动检测装置分别与在所述基座上端面的同一圆周上的各个检测点之间的高度差值；并通过调平装置调节基座上端面在调节位置(与所有的高度差值中的最大值或者最小值相对应的位置)处的高度，直至各个高度差值一致，可以消除基座的端面跳动公差，从而可以提高基座上端面的水平度，以使其满足机械手成功取放片的要求。
【附图说明】
[0019]图1为现有的一种基座旋转机构的剖视图；
[0020]图2为沿图1中B-B线的剖视图；
[0021]图3A为本发明实施例提供的反应腔室的内部结构示意图；
[0022]图3B为图3A