专利名称：双永磁磁悬浮定位装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种无接触定位技术，具体指一种磁悬浮定位装置。
技术背景随着微米、纳米技术的不断发展，在集成电路芯片光刻、微型机械制造、 精密测量和超精密加工等领域都需要超洁净或真空的工作环境。传统的机械支撑定位方式由于运动过程中产生的摩擦和磨粒对工作环境 造成了严重的污染，因此已经完全不能适应超洁净工作环境的需求。为使上述问题得到彻底解决，近年来，出现了用气悬浮作支撑的定位方 式。气悬浮虽然避免了摩擦、磨损和润滑油污染，并且结构简单，但是气悬 浮定位机构释放的高压气体会使被悬浮部件产生高频振动，影响运动的稳定 性，因此不适宜应用于真空和超洁净环境中。另外，气悬浮定位方式，虽然 消除了摩擦，但支撑刚度小，承载能力和抗冲击能力弱，这也限制了定位精 度的提高。实用新型内容针对现有技术存在的上述不足，本实用新型的目的是提供一种可适用于 超洁净和真空环境的磁悬浮定位装置。本实用新型的技术方案是这样实现的双永磁磁悬浮定位装置，它包括 底板和被悬浮平台，底板上设有若干电磁线圈，每一个电磁线圈内均设有永 磁体，被悬浮平台位于底板上方，在被悬浮平台下表面设有若干永磁体；被 悬浮平台上永磁体的磁化方向与底板上永磁体的磁化方向相反，两者形成将 被悬浮平台悬浮起来的排斥力。进一步地，所述电磁线圈按阵列方式均匀布置在底板上，被悬浮平台上
的永磁体分成若干相同的组、每组以阵列方式均匀布置于被悬浮平台下表面。 相比现有技术，本磁悬浮定位装置具有无接触、无润滑、无磨损、运行 费用和维修费用低，工作寿命长等优点，适合于微电子封装及光刻设备等需 要真空、超洁净环境的需求。
图1—本实用新型结构示意图；图2—本实用新型悬浮部件结构示意图；图3—电磁线圈结构示意图；图4—本实用新型被悬浮部件结构示意图(仰视图)。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型作进一步说明。参见图1，从图上可以看出，本实用新型包括两部分悬浮部件l和被悬浮部件2。见图2、图3，悬浮部件1包括底板3，在底板3上固定有圆筒状 骨架8，骨架8上绕制有电磁线圈5，每一个电磁线圈5内均设有永磁体4， 所有电磁线圈5以阵列方式排列形成电磁线圈阵列，所有永磁体4的磁化方 向相同。见图4，被悬浮部件2包括被悬浮平台6和设置在被悬浮平台下表面 的永磁体7，被悬浮平台6位于底板3上方，所有永磁体7的磁化方向相同。 被悬浮平台上的永磁体7分成若干相同的组、每组以阵列方式均匀布置于被 悬浮平台6下表面。被悬浮平台上永磁体7的磁化方向与底板上永磁体4的 磁化方向相反，两者形成将被悬浮平台6悬浮起来的排斥力。底板3作为安 装悬浮部件1的基座，电磁线圈5阵列的上表面与被悬浮平台6的下表面相 互平行。当电磁线圈5通电时，通过电磁线圈5与被悬浮平台6下表面的永磁体7 阵列之间的排斥力，将被悬浮部件悬浮起来。通过调整电磁线圈5中电流的 大小，可以改变悬浮高度并实现被悬浮部件在空间的悬浮定位。
权利要求1、双永磁磁悬浮定位装置，其特征在于它包括底板(3)和被悬浮平台(6)，底板(3)上设有若干电磁线圈(5)，每一个电磁线圈(5)内均设有永磁体(4)，被悬浮平台(6)位于底板(3)上方，在被悬浮平台(6)下表面设有若干永磁体(7)；被悬浮平台上永磁体(7)的磁化方向与底板上永磁体(4)的磁化方向相反，两者形成将被悬浮平台悬浮起来的排斥力。
2、 根据权利要求1所述的双永磁磁悬浮定位装置，其特征在于所述电 磁线圈(5)按阵列方式均匀布置在底板(3)上，被悬浮平台上的永磁体(7) 分成若干相同的组、每组以阵列方式均匀布置于被悬浮平台(6)下表面。
3、 根据权利要求1或2所述的双永磁磁悬浮定位装置，其特征在于所 述底板上所有永磁体(4)的磁化方向相同。
专利摘要本实用新型公开了一种双永磁磁悬浮定位装置，它包括底板和被悬浮平台，底板上设有若干电磁线圈，每个电磁线圈均带有永磁体。被悬浮平台位于底板上方，在被悬浮平台下表面设有若干永磁体。被悬浮平台上永磁体的磁化方向与底板上永磁体的磁化方向相反，两者形成将被悬浮平台悬浮起来的排斥力。所述电磁线圈按阵列方式均匀布置在底板上，被悬浮平台上的永磁体分成若干相同的组、每组以阵列方式均匀布置于被悬浮平台下表面。本磁悬浮定位装置具有无接触、无润滑、无磨损、运行费用和维修费用低，工作寿命长等优点，适合于微电子封装及光刻设备等需要真空、超洁净环境的需求。
文档编号H02N15/00GK201048360SQ20072012411
公开日2008年4月16日 申请日期2007年4月24日 优先权日2007年4月24日
发明者(请求不公布姓名) 申请人:何培祥;鲜继凯