本实用新型涉及一种气体辐照保护装置。更具体地说，本实用新型涉及一种用在自屏蔽加速器上的气体保护装置。
背景技术：
电子加速器作为一种高分子材料改性设备广泛地应用于薄膜改性、印刷、橡胶预硫化等领域中，在现有的设备中，真空系统装置和电子加速装置都安装在自屏蔽加速器装置内，增加了屏蔽室的空间以及占地面积，同时增加了成本，当没有气体保护情况下辐照，会使处于辐照加工的材料被氧化或阻聚问题，氧气会阻止聚合反应，从而降低了辐照改性的效率，甚至可能影响漆膜的硬度、光泽度和抗划伤性等性能。
技术实现要素：
本实用新型的一个目的是解决至少上述问题和/或缺陷，并提供至少后面将说明的优点。
本实用新型还有一个目的是提供一种自屏蔽加速器气体保护辐照装置，其能够减小屏蔽室面积从而减小其占地空间，同时通入的惰性气体也避免了辐照改性过程中的氧阻聚、氧化以及产生臭氧等问题。
为了实现根据本实用新型的这些目的和其它优点，提供了一种自屏蔽加速器气体保护辐照装置，包括：
一自屏蔽加速器本体，其包括电子束产生结构和束下传输结构；
气体保护装置，其上设置有一进入电子束产生结构内的气体输送管道，所述电子束产生结构内还设置有，一与气体传输管道相配合的气体排气管道，以实现气体在电子束产生结构内的交换。
优选的是，所述电子束产生结构设置有第一外部屏蔽罩，其上通过第一开口固定连接一外设的真空系统装置和电子加速装置，所述第一外部屏蔽罩上还设置有一用于安装气体喷嘴的第二开口，所述喷嘴通过一连接管与气体输送管道可拆卸式连接，所述喷嘴内设置有一用于气体流量检测的流量传感器。
优选的是，所自屏蔽加速器上还设置有，一用于对电子产生装置内的气体浓度进行检测和报警的在线检测装置和气体报警装置。
优选的是，所述束下传输机构包括一与第一外部屏蔽罩相配合，以使整个装置处于与外部环境隔绝状态的第二外部屏蔽罩，其上设置有进、出料口，所述进、出料口处设置有一刀口气密装置。
优选的是，所述束下传输机构还包括，一对物料进、出口的位置进行限定的内侧导向辊和外侧导向辊，与所述内侧导向辊相配合，以对物料在辐照传输过程中的位置进行限定的内挡板以及一水冷式辐照棍。
优选的是，在所述束下传输装置上物料进口处的外侧导向辊上方，还设置有一在设备外部对材料进行清洗和空气阻隔的风浴。
优选的是，所述气体输送管道上还设置有，实现对通入自启动屏蔽加速器内的气体浓度、速度进行控制第一控制阀门和第二控制阀门。
优选的是，所述电子束产生结构以及束下传输结构的其中一个，被设置为底部安装有滚轮的可移动式结构，所述滚轮通过电机驱动以沿一预定轨道平移，且
所述另一个结构被固定设置在固定基座上。
优选的是，所述气体为惰性气体。
本实用新型至少包括以下有益效果：
其一，安装在自屏蔽加速器上的气体保护装置，主要对屏蔽体内充惰性气体,从而避免辐照加工材料氧化或解决氧阻聚问题。因为在空气时，氧分子还可以把已经与单体聚合的自由基氧化成过氧化物，阻止单体的聚合；氧阻聚作用常常导致涂层底层固化、表面未固化而发黏的情况。氧阻聚最终可导致涂层表层出现大量羟基、羰基、过氧基等氧化性结构，从而影响涂层的长期稳定性，甚至可能影响固化后漆膜的硬度、光泽度和抗划伤性等性能。同时设置的气体在线检测系统和传感器能够对屏蔽体内的气体进行实时监控，从而保证辐照材料在辐照的过程中处于与空气隔绝的状态，以使辐照材料内部结构不被破坏。
其二，将电子加速装置和真空系统装置设置在屏蔽室外，减小了屏蔽室的空间大小从而使占地空间大小，节约了成本。
其三，设置在物料进口处的风浴能够实现物料在进入时对其表面的清洁以及阻绝空气从物料入口的进入，以保证屏蔽室内的惰性气体纯度。
本实用新型的其它优点、目标和特征将部分通过下面的说明体现，部分还将通过对本实用新型的研究和实践而为本领域的技术人员所理解。
附图说明
图1为本实用新型的一种自屏蔽器的气体保护装置的结构示意图；
图2为本实用新型的一种自屏蔽器的气体保护装置的电子束产生结构的结构示意图；
图3为本实用新型的一种自屏蔽器的气体保护装置的束下传输结构的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型/实用新型做进一步的详细说明，以令本领域技术人员参照说明书文字能够据以实施。
应当理解，本文所使用的诸如“具有”、“包含”以及“包括”术语并不配出一个或多个其它元件或其组合的存在或添加。
图1示出了根据本实用新型的一种实现形式，其中包括：
一种自屏蔽加速器气体保护辐照装置，其特征在于，包括：
一自屏蔽加速器本体(未示出)，其包括电子束产生结构1和束下传输结构2；
气体保护装置(未示出)，其上设置有一进入电子束产生结构内的气体输送管道3，所述电子束产生结构内还设置有，一与气体传输管道相配合的气体排气管道4，以实现气体在电子束产生结构内的交换。采用这种方案具有安装的气体保护装置，主要对屏蔽体内充惰性气体,从而避免辐照加工材料氧化或解决氧阻聚问题。因为在空气时，氧分子还可以把已经与单体聚合的自由基氧化成过氧化物，阻止单体的聚合；氧阻聚作用常常导致涂层底层固化、表面未固化而发黏的情况。氧阻聚最终可导致涂层表层出现大量羟基、羰基、过氧基等氧化性结构，从而影响涂层的长期稳定性，甚至可能影响固化后漆膜的硬度、光泽度和抗划伤性等性能有利之处。并且，这种方式只是一种较佳实例的说明，但并不局限于此。在实施本实用新型时，可以根据使用者需求进行适当的替换和/或修改。
如图2所示，在另一种实例中，所述电子束产生结构设置有第一外部屏蔽罩5，其上通过第一开口(未示出)固定连接一外设的真空系统装置6和电子加速装置7，当真空系统装置和电子加速装置被外设时，能够使屏蔽室的空间面积大大减小，不仅使构造屏蔽室的成本减小，所述第一外部屏蔽罩上还设置有一用于安装气体喷嘴8的第二开口(未示出)，所述喷嘴通过一连接管9与气体输送管道可拆卸式连接，以实现当电子束产生结构和束下传输结构在工作完成之后，能够通过可拆卸的方式将导管和喷嘴与气体保护装置分开，从而使电子束产生结构和束下传输结构能够在预定轨道上分离开。所述喷嘴内设置有一用于气体流量检测的流量传感器10，能够实现对通过喷嘴的惰性气体实时监测，从而对气体流量和流速进行精确控制。采用这种方案具有使屏蔽室的面积较小，节约成本和减小占地面积，同时安装的流量检测传感器能够对惰性气体的流速进行精确控制的有利之处。并且，这种方式只是一种较佳实例的说明，但并不局限于此。在实施本实用新型时，可以根据使用者需求进行适当的替换和/或修改。
如图2所示，在另一种实例中，所自屏蔽加速器上还设置有，一用于对电子产生装置内的气体浓度进行检测和报警的在线检测装置11和气体报警装置12。采用这种方案具有能够对屏蔽室内的气体浓度进行实时监测，当室内的惰性气体浓度过高或者过低时均会发出报警信号，然后通过操作使室内的气体浓度在一定的合理区间内，保证材料在辐照时的稳定性的有利之处。并且，这种方式只是一种较佳实例的说明，但并不局限于此。在实施本实用新型时，可以根据使用者需求进行适当的替换和/或修改。
如图3所示，在另一种实例中，所述束下传输机构包括一与第一外部屏蔽罩相配合，以使整个装置处于与外部环境隔绝状态的第二外部屏蔽罩13，其上设置有进、出料口(未示出)，所述进、出料口处设置有一刀口气密装置 14。采用这种方案具有使物料在进出屏蔽室时，能够对物料的位置进行限定，从而方便传输和封装的有利之处。并且，这种方式只是一种较佳实例的说明，但并不局限于此。在实施本实用新型时，可以根据使用者需求进行适当的替换和/或修改。
如图3所示，在另一种实例中，所述束下传输机构还包括，一对物料进、出口的位置进行限定的内侧导向辊15和外侧导向辊16，与所述内侧导向辊相配合，以对物料在辐照传输过程中的位置进行限定的内挡板17以及一水冷式辐照棍18。采用这种方案具有使物料在辐照作用的过程中，能够对物料位置的精确固定，方便传输的有利之处。并且，这种方式只是一种较佳实例的说明，但并不局限于此。在实施本实用新型时，可以根据使用者需求进行适当的替换和/或修改。
如图3所示，在另一种实例中，在所述束下传输装置上物料进口处的外侧导向辊上方，还设置有一在设备外部对材料进行清洗和空气阻隔的风浴19。采用这种方案具有当物料在从外部环境进入屏蔽室内时，通过风浴的作用，对物料的表面清洗，同时还能够在物料进口隔绝外部空气进入屏蔽室内的有利之处。并且，这种方式只是一种较佳实例的说明，但并不局限于此。在实施本实用新型时，可以根据使用者需求进行适当的替换和/或修改。
如图1所示，在另一种实例中，所述气体输送管道上还设置有，实现对通入自启动屏蔽加速器内的气体浓度、速度进行控制第一控制阀门20和第二控制阀门21。采用这种方案具有设置的第一控制阀门实现屏蔽室内的气体浓度和流速的控制，设置的第二控制阀门实现对风浴的气体流速的控制的有利之处。并且，这种方式只是一种较佳实例的说明，但并不局限于此。在实施本实用新型时，可以根据使用者需求进行适当的替换和/或修改。
如图1所示，在另一种实例中，所述电子束产生结构以及束下传输结构的其中一个，被设置为底部安装有滚轮22的可移动式结构，所述滚轮通过电机驱动以沿一预定轨道23平移，且
所述另一个结构被固定设置在固定基座24上。采用这种方案具有可实现装置在预定轨道上滑行，以及当生产线需要穿料或加速器需要时常维护时，自屏蔽加速器电子束产生结构可以移动1000mm，形成了一个束下装置与电子束产生结构540mm的工作间隙，工作人员可站在这一米的工作间隙中进行穿料或日常维护的有利之处。并且，这种方式只是一种较佳实例的说明，但并不局限于此。在实施本实用新型时，可以根据使用者需求进行适当的替换和/或修改。
在另一种实例中，所述气体为惰性气体。采用这种方案具有主要避免辐照加工材料氧化或解决氧阻聚问题的有利之处。并且，这种方式只是一种较佳实例的说明，但并不局限于此。在实施本实用新型时，可以根据使用者需求进行适当的替换和/或修改。
这里说明的设备数量和处理规模是用来简化本实用新型的说明的。对本实用新型一种自屏蔽加速器气体保护辐照装置的应用、修改和变化对本领域的技术人员来说是显而易见的。
尽管本实用新型的实施方案已公开如上，但其并不仅仅限于说明书和实施方式中所列运用。它完全可以被适用于各种适合本实用新型的领域。对于熟悉本领域的人员而言，可容易地实现另外的修改。因此在不背离权利要求及等同范围所限定的一般概念下，本实用新型并不限于特定的细节和这里示出与描述的图例。