一种等离子体下进气结构的制作方法

1.本实用新型涉及微波等离子体技术领域，尤其涉及一种等离子体下进气结构。


背景技术：

2.等离子体是一种很好的导电体，利用经过巧妙设计的磁场可以捕捉、移动和加速等离子体。等离子体内部的涡旋气体通过处于压缩波导内的放电管形成高温等离子火焰，在反应腔内下部等离子激发区域位置，可能会生成新的腐蚀性气体，对整个反应腔造成一定的腐蚀。


技术实现要素：

3.本实用新型的目的在于提供一种等离子体下进气结构，以解决上述背景技术中遇到的问题。
4.为实现上述目的，本实用新型的技术方案如下：
5.一种等离子体下进气结构，包括压缩波导和反应筒，所述压缩波导套装在反应筒的外侧，所述压缩波导与反应筒相连接的顶部和底部分别安装有水冷环，所述反应筒的底部安装有连接座，所述连接座的内部开设有水冷腔，所述连接座的一侧安装有连通所述反应筒中的反应腔的进气管，所述连接座的轴心线处开设有与反应筒的内腔相连通的通孔。
6.上述方案中，所述反应筒的底部外侧安装有密封板。
7.进一步的，所述密封板的顶部和连接座的顶部分别开设有密封槽，所述密封槽内设有与反应筒的底部法兰面相接触的橡胶圈。
8.上述方案中，所述反应筒外侧位于顶部的水冷环上安装有风冷管，所述风冷管设有两个分别用于进风和出风。
9.上述方案中，所述连接座的中心通孔内径上开设有与反应筒的内腔相连通的进气管道，所述进气管道的开口向上与反应筒的内腔相连通。
10.进一步的，所述连接座的顶部外侧开设有与反应筒的内腔相连通的出气孔。
11.进一步的，所述连接座的内部开设有水冷腔。
12.更进一步的，所述进气管道由两层不同直径的圆筒同轴固定设置而成，所述进气管道的底部与进气管相连通。
13.与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：通过将进气管安装在等离子体的下部，通过下进气的方式，使对反应腔有腐蚀性的气体远离等离子激发区域，减少反应气体对整个反应腔的腐蚀。其次，通过在压缩波导与反应筒连接处设置水冷环，水冷环用于对压缩波导的上下两面进行冷却，在连接座的内部开设有水冷腔，水冷腔环绕在连接座中间的通孔外侧，对通孔内壁进行降温。通过水冷环和水冷腔来降低等离子火焰对反应腔壁的温度影响，减少反应气体对整个反应腔的腐蚀。
14.另外，连接座的中心通孔内径上开设有与反应筒的内腔相连通的进气管道，该进气管道可通过两层不同直径的薄壁圆筒同轴设置，内层的圆筒外壁与外层的圆筒内壁之间
自然形成该进气管道，进气管道的底部与进气管相连通。气体沿着进气管道向上进入反应腔内，等离子火焰在反应筒和连接座的中心反应，这样产生的腐蚀气体会被最内层的薄壁圆筒所阻隔，避免气体与反应腔直接接触，降低反应气体对整个反应腔的腐蚀。
附图说明
15.参照附图来说明本实用新型的公开内容。应当了解，附图仅仅用于说明目的，而并非意在对本实用新型的保护范围构成限制。在附图中，相同的附图标记用于指代相同的部件。其中：
16.图1为本实用新型在实施例1中的立体结构示意图；
17.图2为本实用新型在实施例1中的正视结构示意图；
18.图3为图2中a-a截面结构示意图；
19.图4为本实用新型在实施例1中的俯视结构示意图。
20.图5为本实用新型在实施例2中的立体结构示意图；
21.图6为本实用新型在实施例2中的正视结构示意图；
22.图7为图6中b-b截面结构示意图；
23.图8为图7中c部结构放大图。
24.图中标号：1-压缩波导；2-反应筒；3-密封板；4-橡胶圈；5-连接座；6-风冷管；7-水冷环；8-水冷腔；9-进气管；10-进气管道；11-出气孔。
具体实施方式
25.为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，现在结合附图对本实用新型作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图，仅以示意方式说明本实用新型的基本结构，因此其仅显示本实用新型有关的构成。
26.根据本实用新型的技术方案，在不变更本实用新型实质精神下，本领域的一般技术人员可以提出可相互替换的多种结构方式以及实现方式。因此，以下具体实施方式以及附图仅是对本实用新型的技术方案的示例性说明，而不应当视为本实用新型的全部或者视为对本实用新型技术方案的限定或限制。
27.下面结合附图和实施例对本实用新型的技术方案做进一步的详细说明。
28.实施例1，如图1至图4所示，一种等离子体下进气结构，包括压缩波导1和反应筒2，反应筒2为带法兰的筒体，反应筒2的中部通孔为反应腔。压缩波导1套装在反应筒2的外侧，压缩波导1的波导腔与反应筒2的反应腔相连通，压缩波导1与反应筒2相连接的顶部和底部分别安装有水冷环7，水冷环7用于对压缩波导1的上下两面进行降温。
29.反应筒2的底部法兰面外侧上面安装有密封板3，反应筒2的底部法兰面底侧安装有连接座5。密封板3的顶部和连接座5的顶部分别开设有密封槽，密封槽内设有与反应筒2的底部法兰面相接触的橡胶圈4。通过橡胶圈4对两者的接触面进行密封，防止气体泄漏。
30.连接座5的轴心线处开设有与反应筒2的内腔相连通的通孔，连接座5的内部开设有水冷腔8，水冷腔8用于通过另外设置的水管连接，加入冷水。水冷腔8顺延着反应筒2的反应腔设置，水冷腔8环绕在连接座5中间的通孔外侧，对通孔内壁进行降温。连接座5的一侧安装有连通反应筒2中的反应腔的进气管9，对于整个等离子体，采用下进气的方式，使对反
应腔有腐蚀性的气体远离等离子激发区域，减少反应气体对整个反应腔的腐蚀。
31.作为一种优选的方案，反应筒2外侧位于顶部的水冷环7上安装有风冷管6，风冷管6设有两个分别用于进风和出风，对反应筒2的反应腔顶部进行风冷。
32.在本方案中，通过将进气管9安装在等离子体的下部，采用下进气的方式，使对反应腔有腐蚀性的气体远离等离子激发区域，减少反应气体对整个反应腔的腐蚀。通过在压缩波导1与反应筒2连接处设置水冷环7，水冷环7用于对压缩波导1的上下两面进行降温。反应筒2的底部法兰面底侧安装有连接座5，连接座5的轴心线处开设有与反应筒2的内腔相连通的通孔，连接座5的内部开设有水冷腔8，水冷腔8环绕在连接座5中间的通孔外侧，对通孔内壁进行降温，防止密封橡胶圈温度过高，出现碳化。通过水冷环7和水冷腔8来降低等离子火焰对反应腔壁的温度影响，减少反应气体对整个反应腔的腐蚀。
33.实施例2，请参阅图5至图8，与实施例1的不同的是，反应筒2为不带法兰的筒体，反应筒2的中部通孔为反应腔。连接座5的中心通孔内径上开设有与反应筒2的内腔相连通的进气管道10，进气管道10的开口向上与反应筒2的内腔相连通，用于进气管9通入压缩空气对连接座5轴心线处与反应筒2的内腔相连通的通孔进行冷却。
34.该进气管道10可通过两层不同直径的薄壁圆筒同轴设置，内层的圆筒外壁与外层的圆筒内壁之间自然形成该进气管道10，进气管道10的底部与进气管9相连通。两层薄壁圆筒的下端密封，上端延伸到压缩波导1的下端面。工艺气体从下进气结构的进气管9进入，气体沿着进气管道10向上进入反应腔内，等离子火焰在反应筒2和连接座5的中心反应，这样产生的腐蚀气体会被最内层的薄壁圆筒所阻隔，避免气体与反应腔直接接触，降低反应气体对整个反应腔的腐蚀。
35.作为一种优选的方案，在连接座5的顶部外侧开设有与反应筒2的内腔相连通的出气孔11，用于排出反应筒2内反应腔中的热量，降低反应腔的温度。
36.以上所述的具体实施方式，对本实用新型的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明,所应理解的是，以上所述仅为本实用新型的具体实施方式，并不用于限定本实用新型保护范围，凡在本实用新型的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应含在本实用新型的保护范围之内。