显示基板及其制备方法、显示装置与流程

文档序号:37718940发布日期:2024-04-23 11:52阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种显示基板,其特征在于,包括设置在基底上的驱动电路层和设置在所述驱动电路层远离所述基底一侧的发光结构层,所述驱动电路层包括构成多个单元行和多个单元列的多个电路单元,所述发光结构层包括多个发光单元,至少一个电路单元包括像素驱动电路,至少一个发光单元包括设置在所述驱动电路层远离所述基底一侧的阳极和设置在所述阳极远离所述基底一侧的像素定义层,所述阳极与对应电路单元的像素驱动电路连接,所述像素定义层设置有像素开口,所述像素开口暴露出所述阳极;至少一个发光单元的像素定义层设置有透光开口,所述透光开口在所述基底上的正投影面积为0.09s至0.15s,s为所述电路单元在所述基底上的正投影面积。

2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述透光开口的透过率大于或等于60%。

3.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,在平行于所述基底的平面上,至少一个透光开口的形状为梯形状,包括沿着所述单元行方向延伸的第一横边和第二横边、以及分别连接所述第一横边和第二横边的第一竖边和第二竖边;沿着所述单元列方向,所述第一横边和第二横边之间的距离为0.2l至0.3l,l为所述电路单元在所述单元列方向的尺寸。

4.根据权利要求3所述的显示基板,其特征在于,沿着所述单元行方向,所述第一横边的宽度为0.3k至0.4k,所述第二横边的宽度为0.4k至0.5k,k为所述电路单元在所述单元行方向的尺寸。

5.根据权利要求3所述的显示基板,其特征在于,所述第一竖边为向着所述第二竖边凸出的第一弧线形,所述第二竖边为向着所述第一竖边凸出的第二弧线形,在所述单元行方向,所述第一竖边与所述第二竖边之间的最小距离为0.3k至0.4k,k为所述电路单元在所述单元行方向的尺寸。

6.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述透光开口设置在所述单元行方向相邻的像素开口之间,所述像素开口靠近所述透光开口一侧的边缘与所述透光开口靠近所述像素开口一侧的边缘之间的最小距离为0.4k至0.5k,k为所述电路单元在所述单元行方向的尺寸。

7.根据权利要求1至6任一项所述的显示基板,其特征在于,至少一个单元行中设置有至少一个空白区,所述透光开口在所述基底上的正投影位于所述空白区在所述基底上的正投影的范围之内。

8.根据权利要求7所述的显示基板,其特征在于,至少一个电路单元的像素驱动电路包括第一晶体管、第二晶体管、第三晶体管、第四晶体管、第五晶体管、第六晶体管、第七晶体管和存储电容;所述第一晶体管的栅电极与第三扫描信号线连接,所述第一晶体管的第一极与第一初始信号线连接;所述第二晶体管的栅电极与第四扫描信号线连接,所述第二晶体管的第一极与所述第一晶体管的第二极连接;所述第四晶体管的栅电极与第一扫描信号线连接,所述第四晶体管的第一极与数据信号线连接;所述第七晶体管的栅电极与第二扫描信号线连接,所述第七晶体管的的第一极与所述第二初始信号线连接;第m单元行的第一扫描信号线设置在所述存储电容远离第m+1单元行的一侧,第m单元行的第三扫描信号线设置在所述第一扫描信号线远离所述存储电容的一侧,所述空白区设置在所述第一扫描信号线和第三扫描信号线之间,m为大于或等于1的正整数。

9.根据权利要求8所述的显示基板,其特征在于,在所述单元列方向,所述空白区的长度为0.2l至0.3l,l为所述电路单元在所述单元列方向的尺寸。

10.根据权利要求8所述的显示基板,其特征在于,所述空白区设置在第2i单元列与第2i+1单元列之间,i为大于或等于1的正整数。

11.根据权利要求10所述的显示基板,其特征在于,所述空白区设置在第2i单元列的数据信号线与第2i+1单元列的数据信号线之间。

12.根据权利要求11所述的显示基板,其特征在于,在所述单元行方向,所述空白区的宽度为0.8k至0.9k,k为所述电路单元在所述单元行方向的尺寸。

13.根据权利要求8所述的显示基板,其特征在于,所述第一晶体管、第二晶体管、第三晶体管、第四晶体管、第五晶体管、第六晶体管和第七晶体管在所述基底上的正投影与所述空白区在所述基底上的正投影没有交叠。

14.根据权利要求8所述的显示基板,其特征在于,所述存储电容在所述基底上的正投影与所述空白区在所述基底上的正投影没有交叠。

15.根据权利要求8所述的显示基板,其特征在于,相邻单元列的像素驱动电路相对于中心线镜像对称,所述中心线是位于相邻单元列之间且沿着所述单元列方向延伸的直线。

16.根据权利要求8所述的显示基板,其特征在于,所述驱动电路层至少包括沿着远离所述基底方向设置的第一半导体层、第一导电层、第二导电层、第二半导体层、第三导电层、第四导电层和第五导电层;所述第一半导体层至少包括多个多晶硅晶体管的有源层,所述第一导电层至少包括所述第一扫描信号线、第二扫描信号线、第一初始信号线和存储电容的第一极板,所述第二导电层至少包括存储电容的第二极板,所述第二半导体层至少包括多个氧化物晶体管的有源层,所述第三导电层至少包括所述第三扫描信号线、第四扫描信号线和第二初始信号线,所述第四导电层至少包括多个多晶硅晶体管的第一极和第二极、多个氧化物晶体管的第一极和第二极,所述第五导电层至少包括所述数据信号线。

17.根据权利要求1至6任一项所述的显示基板,其特征在于,所述显示基板还包括设置在所述发光结构层远离所述基底一侧的封装结构层和设置在所述封装结构层远离所述基底一侧的所述彩膜结构层,所述彩膜结构层至少包括黑矩阵和多个彩膜,所述黑矩阵设置在相邻的彩膜之间,所述透光开口在所述基底上的正投影位于所述彩膜在所述基底上的正投影的范围之内,所述黑矩阵设置有黑矩阵开口,所述透光开口在所述基底上的正投影位于所述黑矩阵开口在所述基底上的正投影的范围之内。

18.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1至17任一项所述的显示基板。

19.一种显示基板的制备方法,其特征在于,包括:


技术总结
本公开提供了一种显示基板及其制备方法、显示装置。显示基板包括设置在基底上的驱动电路层和发光结构层,驱动电路层包括构成多个单元行和多个单元列的多个电路单元,发光结构层包括多个发光单元,至少一个电路单元包括像素驱动电路,至少一个发光单元包括阳极和像素定义层,阳极与对应电路单元的像素驱动电路连接,像素定义层设置有像素开口,像素开口暴露出所述阳极;至少一个发光单元的像素定义层设置有透光开口,透光开口在基底上的正投影面积为0.09S至0.15S,S为电路单元在基底上的正投影面积。本公开通过在像素定义层上设置透光开口,透光开口可以透过光线,提高了显示基板的透过率。

技术研发人员:方飞,陈义鹏,石领,李硕,刘畅畅,徐志阳
受保护的技术使用者:京东方科技集团股份有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/4/22
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