装饰件及其制备方法、壳体和电子设备与流程

文档序号:37582792发布日期:2024-04-18 12:07阅读:4来源:国知局
装饰件及其制备方法、壳体和电子设备与流程

本技术涉及电子设备,具体涉及装饰件及其制备方法、壳体和电子设备。


背景技术:

1、随着电子设备的不断发展,消费者在关注电子设备性能的同时,越来越关注电子设备的外观效果。目前电子设备的外观效果较为单一且同质化现象严重,无法满足消费者的需求。因此,需要对电子设备的外观效果进行改善。


技术实现思路

1、有鉴于此,本技术提供了一种装饰件及其制备方法、壳体和电子设备,该装饰件可以实现螺旋多光影的效果,在视觉上更具有层次和立体感,极大地提升了装饰件的视觉效果。

2、第一方面,本技术提供了一种装饰件,所述装饰件包括基材以及设置在所述基材表面的纹理层,所述纹理层的表面具有纹理区,所述纹理区包括阵列排布的多个第一单元和多个第二单元,所述第一单元和所述第二单元交替设置,每一所述第一单元具有至少一条第一线状纹理,每一所述第二单元具有至少一条第二线状纹理,每一所述第一单元中的所述第一线状纹理与第一方向的夹角为γ,每一所述第二单元中的所述第二线状纹理与所述第一方向的夹角为δ,沿所述第一方向上,多个所述第一单元中的所述γ逐渐变化,多个所述第二单元中的所述δ逐渐变化,沿第二方向上,多个所述第一单元中的所述γ按第一函数关系式变化,多个所述第二单元中的所述δ按第二函数关系式变化,所述第一方向与所述第二方向垂直,所述第一函数关系式与所述第二函数关系式不同。

3、可选的,所述第一函数关系式为:γ=j1-2j1[a1+a1·cos(-π+2πb1/ny)]/nx,其中,以所述第一方向和所述第二方向为x轴和y轴,以多个所述第一单元和多个所述第二单元中的其中一个为原点建立坐标系,所述a1为所述第一单元在所述x轴上的坐标值,所述b1为所述第一单元在所述y轴上的坐标值;所述a1为振幅,所述nx为所述纹理区在所述x轴上的所述第一单元和所述第二单元的数量和,所述ny为所述纹理区在所述y轴上的所述第一单元和所述第二单元的数量和,所述j1的绝对值大于0°且小于或等于90°。

4、进一步的,所述纹理区在所述第一方向上的尺寸为w,所述a1为w/10-w/2。

5、进一步的,所述j1的绝对值为30°-60°。

6、可选的,所述第二函数关系式为:δ=j2-2j2[a2+a2·sin(-π+2πb2/ny)]/nx,其中,以所述第一方向和所述第二方向为x轴和y轴,以多个所述第一单元和多个所述第二单元中的其中一个为原点建立坐标系,所述a2为所述第二单元在所述x轴上的坐标值,所述b2为所述第二单元在所述y轴上的坐标值;所述a2为振幅,所述nx为所述纹理区在所述x轴上的所述第一单元和所述第二单元的数量和,所述ny为所述纹理区在所述y轴上的所述第一单元和所述第二单元的数量和,所述j2的绝对值大于0°且小于或等于90°。

7、进一步的,所述纹理区在所述第一方向上的尺寸为w,所述a2为w/10-w/2。

8、进一步的,所述j2的绝对值为30°-60°。

9、可选的,沿所述第一线状纹理的延伸方向上,所述第一线状纹理的高度或深度逐渐变化。

10、进一步的,沿所述第一线状纹理的延伸方向上,所述第一线状纹理的高度或深度先增加后减小。

11、进一步的,沿所述第一线状纹理的延伸方向上,所述第一线状纹理的高度或深度呈线性变化或非线性变化。

12、可选的,所述第一单元具有多条平行设置的所述第一线状纹理,沿垂直于所述第一线状纹理延伸方向的方向上,多条所述第一线状纹理的高度或深度逐渐变化。

13、进一步的,沿垂直于所述第一线状纹理延伸方向的方向上,多条所述第一线状纹理的高度或深度先增加后减小。

14、进一步的,沿垂直于所述第一线状纹理延伸方向的方向上,多条所述第一线状纹理的高度或深度呈线性变化或非线性变化。

15、可选的,沿所述第二线状纹理的延伸方向上,所述第二线状纹理的高度或深度逐渐变化。

16、进一步的,沿所述第二线状纹理的延伸方向上,所述第二线状纹理的高度或深度先增加后减小。

17、进一步的,沿所述第二线状纹理的延伸方向上,所述第二线状纹理的高度或深度呈线性变化或非线性变化。

18、可选的,所述第二单元具有多条平行设置的所述第二线状纹理,沿垂直于所述第二线状纹理延伸方向的方向上,多条所述第二线状纹理的高度或深度逐渐变化。

19、进一步的,沿垂直于所述第二线状纹理延伸方向的方向上,多条所述第二线状纹理的高度或深度先增加后减小。

20、进一步的,沿垂直于所述第二线状纹理延伸方向的方向上,多条所述第二线状纹理的高度或深度呈线性变化或非线性变化。

21、可选的,所述γ的绝对值为0°-90°。

22、进一步的,所述γ的绝对值为30°-60°。

23、可选的,所述δ的绝对值为0°-90°。

24、进一步的,所述δ的绝对值为30°-60°。

25、可选的,所述第一线状纹理的宽度为1μm-200μm,高度或深度为1μm-15μm。

26、可选的,所述第一单元具有多条间隔平行设置的所述第一线状纹理,相邻所述第一线状纹理的间距为1μm-200μm。

27、可选的,所述第二线状纹理的宽度为1μm-200μm,高度或深度为1μm-15μm。

28、可选的,所述第二单元具有多条间隔平行设置的所述第二线状纹理,相邻所述第二线状纹理的间距为1μm-200μm。

29、可选的,所述第一单元的横向尺寸为0.1mm-10mm。

30、可选的,所述第二单元的横向尺寸为0.1mm-10mm。

31、第二方面,本技术提供了一种装饰件的制备方法,包括:通过转印、刻蚀和热压成型中的至少一种方法形成装饰件,所述装饰件包括基材以及设置在所述基材表面的纹理层,所述纹理层的表面具有纹理区,所述纹理区包括阵列排布的多个第一单元和多个第二单元,所述第一单元和所述第二单元交替设置,每一所述第一单元具有至少一条第一线状纹理,每一所述第二单元具有至少一条第二线状纹理,每一所述第一单元中的所述第一线状纹理与第一方向的夹角为γ,每一所述第二单元中的所述第二线状纹理与所述第一方向的夹角为δ,沿所述第一方向上,多个所述第一单元中的所述γ逐渐变化,多个所述第二单元中的所述δ逐渐变化,沿第二方向上,多个所述第一单元中的所述γ按第一函数关系式变化,多个所述第二单元中的所述δ按第二函数关系式变化,所述第一方向与所述第二方向垂直,所述第一函数关系式与所述第二函数关系式不同。

32、第三方面,本技术提供了一种壳体,所述壳体包括第一方面所述的装饰件。

33、第四方面,本技术提供了一种电子设备,所述电子设备包括第三方面所述的壳体。

34、本技术提供的装饰件中第一线状纹理、第二线状纹理与第一方向的夹角沿第一方向发生变化,并且沿第二方向上第一线状纹理、第二线状纹理与第一方向的夹角的变化方式不同,使装饰件呈现螺旋多光影的外观效果,并且装饰件外观更具层次感和立体感,极大地丰富了装饰件的视觉效果;同时该装饰件的制备方法简单,操作方便,有利于装饰件的应用;具有该装饰件的壳体和电子设备的外观效果得到了改善,避免了同质化,提高了产品竞争力。

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