有机发光显示装置和柔性有机发光二极管显示器的制作方法

示例实施例总体上涉及有机发光显示装置。更具体地讲，本发明构思的实施例涉及包括透明区域的有机发光显示装置。

背景技术：

1、因为平板显示(fpd)装置与阴极射线管(crt)显示装置相比重量轻并且纤薄，所以fpd装置被广泛地用作电子设备的显示装置。fpd装置的典型示例为液晶显示(lcd)装置和有机发光显示(oled)装置。与lcd装置相比，oled装置具有诸如更高亮度和更宽视角的许多优势。另外，因为oled装置不需要背光，所以oled装置可以制造得更纤薄。在oled装置中，电子和空穴通过阴极和阳极注入有机薄层中，然后在有机薄层中复合以产生激子，从而可以发射特定波长的光。

2、近来，已经开发出透明oled装置，该透明oled装置能够通过包括透明区域和像素区域来透射位于该oled装置后面(例如，背面)的物体(或目标)的图像。这里，减少透明oled装置的透射率的不透明金属布线不会设置在透明oled装置的透明区域中。此外，触摸屏面板可以设置在透明oled装置上并且可以电连接到透明oled装置。触摸屏面板可以包括感测(或检测)透明oled装置的用户的接触(例如，手指、触摸笔等)的感测电极。例如，触摸屏面板可以感测用户的接触(或输入)，为了感测用户的触摸，所述方法可以使用自电容、互电容等。这里，自电容方法的触摸屏面板可以包括多个触摸传感器电极和分别连接到触摸传感器电极的触摸传感器布线，该触摸屏面板可以感测在触摸传感器电极中产生的电容的变化。因此，当用户接触触摸屏面板的前面时，透明oled装置可以感测用户的接触。然而，由于透明oled装置包括用于感测触摸事件的触摸屏面板，所以透明oled装置的厚度会增大。

技术实现思路

1、一些示例实施例提供了一种能够感测用户的接触的有机发光显示装置。

2、根据示例实施例的一些方面，有机发光显示(oled)装置包括基底、像素结构和触摸传感器电极。基底包括子像素区域和透明区域。像素结构在子像素区域中设置在基底上。触摸传感器电极在透明区域中设置在基底上。

3、在示例实施例中，子像素区域和透明区域在平面图中不叠置。

4、在示例实施例中，oled装置还可以包括位于触摸传感器电极上的触摸传感器布线，该触摸传感器布线将触摸传感器电极和外部装置电连接，将触摸传感器电极的变化的电容传输到外部装置并且将从外部装置产生的感测电压提供到触摸传感器电极。

5、在示例实施例中，基底可以包括多个像素区域，所述多个像素区域均具有子像素区域和透明区域。外部装置感测在透明区域中设置的触摸传感器电极中产生的电容的变化。

6、在示例实施例中，像素结构可以包括位于基底上的下电极、位于下电极上的发光层和位于发光层上的上电极。

7、在示例实施例中，触摸传感器电极和下电极可以使用相同材料同时形成，并且可以处于同一水平处。

8、在示例实施例中，触摸传感器电极和下电极可以同时形成，并且可以处于彼此不同的水平处。

9、在示例实施例中，当下电极包括多个电极层时，所述多个电极层中的至少一个电极层和触摸传感器电极可以具有相同的材料。

10、在示例实施例中，触摸传感器电极的厚度可以小于下电极的厚度，触摸传感器电极可以基本透明。

11、在示例实施例中，触摸传感器电极和上电极可以使用相同材料同时形成。

12、在示例实施例中，触摸传感器电极和上电极可以在子像素区域和透明区域的边界中彼此间隔开。

13、在示例实施例中，触摸传感器电极和上电极可以使用相同材料同时形成，并且可以处于彼此不同的水平处。

14、在示例实施例中，oled装置还可以包括像素限定层。像素限定层可以设置在基底上。像素限定层可以部分地暴露设置在子像素区域中的下电极，并且可以部分地暴露设置在透明区域中的触摸传感器电极。

15、在示例实施例中，oled装置还可以包括平坦化层。平坦化层可以设置在像素限定层与基底之间。平坦化层可以具有设置在透明区域中的接触孔。

16、在示例实施例中，oled装置还可以包括设置在触摸传感器电极下方的触摸传感器布线。触摸传感器布线可以经由平坦化层的接触孔将触摸传感器电极和外部装置电连接，将触摸传感器电极的变化的电容传输到外部装置并且将从外部装置产生的感测电压提供到触摸传感器电极。

17、在示例实施例中，oled装置还可以包括半导体元件。半导体元件可以在子像素区域中设置在基底上。半导体元件可以包括位于基底上的有源层、位于有源层上的栅电极以及位于栅电极上的源电极和漏电极。

18、在示例实施例中，触摸传感器布线以及源电极和漏电极可以使用相同材料同时形成，并且触摸传感器布线的厚度可以小于源电极和漏电极的厚度。触摸传感器布线可以基本透明。

19、在示例实施例中，基底还可以包括在子像素区域与透明区域之间的不透明区域，像素限定层可以设置在不透明区域中。

20、在示例实施例中，oled装置还可以包括平坦化层。平坦化层可以具有设置在不透明区域中的接触孔。

21、在示例实施例中，触摸传感器电极可以在平坦化层上沿第一方向延伸，并且可以与不透明区域的至少一部分叠置。

22、在示例实施例中，oled装置还可以包括触摸传感器布线。触摸传感器布线可以设置在触摸传感器电极下方。触摸传感器布线可以经由平坦化层的接触孔将触摸传感器电极和外部装置电连接，并且可以将触摸传感器电极的变化的电容传输到外部装置。触摸传感器布线可以将从外部装置产生的感测电压提供到触摸传感器电极。

23、在示例实施例中，oled装置还可以包括在子像素区域中位于基底上的半导体元件。半导体元件可以包括位于基底上的有源层、位于有源层上的栅电极以及位于栅电极上的源电极和漏电极。

24、在示例实施例中，触摸传感器布线以及源电极和漏电极可以使用相同材料同时形成。

25、在示例实施例中，触摸传感器布线的厚度可以与源电极和漏电极的厚度相同。

26、在示例实施例中，像素限定层可以是不透明的。

27、在示例实施例中，oled装置还可以包括光阻挡构件。光阻挡构件可以设置在像素限定层上，并且可以与触摸传感器布线叠置。

28、在示例实施例中，oled装置还可以包括平坦化层和像素限定层。像素限定层可以设置在平坦化层上，并且可以部分地暴露设置在子像素区域中的下电极。像素限定层可以在透明区域中暴露平坦化层的至少一部分。

29、在示例实施例中，触摸传感器电极可以设置在暴露于透明区域中的平坦化层上，上电极可以设置在下电极上。触摸传感器电极和上电极可以在像素限定层上彼此间隔开。

30、在示例实施例中，oled装置还可以包括触摸传感器布线和光阻挡构件。触摸传感器布线可以设置在像素限定层上。触摸传感器布线可以将触摸传感器电极和外部装置电连接，并且可以将触摸传感器电极的变化的电容传输到外部装置。触摸传感器布线可以将从外部装置产生的感测电压提供到触摸传感器电极。光阻挡构件可以设置在像素限定层上，并且可以与触摸传感器布线叠置。

31、在示例实施例中，oled装置还可以包括平坦化层和像素限定层。平坦化层可以具有第一接触孔。像素限定层可以设置在平坦化层上，并且可以部分地暴露设置在子像素区域中的下电极。像素限定层可以在透明区域中暴露平坦化层的至少一部分，并且可以具有暴露第一接触孔的第二接触孔。

32、在示例实施例中，oled装置还可以包括触摸传感器布线。触摸传感器布线可以设置在像素限定层的下方，并且可以将贯穿第一接触孔和第二接触孔的触摸传感器电极和外部装置电连接。触摸传感器布线可以将触摸传感器电极的变化的电容传输到外部装置，并且可以将从外部装置产生的感测电压提供到触摸传感器电极。像素限定层可以是不透明的。

33、在示例实施例中，oled装置还可以包括像素限定层。像素限定层可以在透明区域中设置在基底上，并且可以部分地暴露设置在子像素区域中的下电极。触摸传感器电极可以在透明区域中设置在像素限定层上。

34、在示例实施例中，oled装置还可以包括触摸传感器布线和光阻挡构件。触摸传感器布线可以设置在触摸传感器电极上，并且可以将触摸传感器电极和外部装置电连接。触摸传感器布线可以将触摸传感器电极的变化的电容传输到外部装置，并且可以将从外部装置产生的感测电压提供到触摸传感器电极。光阻挡构件可以设置在像素限定层上，并且可以与触摸传感器布线叠置。

35、在示例实施例中，oled装置还可以包括位于基底上在子像素区域中的半导体元件。半导体元件可以包括位于基底上的有源层、位于有源层上的栅电极以及位于栅电极上的源电极和漏电极。

36、在示例实施例中，触摸传感器电极和有源层可以使用相同的材料同时形成。

37、在示例实施例中，触摸传感器电极的厚度可以小于有源层的厚度，触摸传感器布线可以基本透明。

38、在示例实施例中，oled装置还可以包括像素限定层。像素限定层可以设置在基底上，并且可以部分地暴露设置在子像素区域中的下电极。像素限定层可以部分地暴露设置在透明区域中的触摸传感器电极。

39、在示例实施例中，oled装置还可以包括触摸传感器布线。触摸传感器布线可以设置在触摸传感器电极上，并且可以将触摸传感器电极和外部装置电连接。触摸传感器布线可以将触摸传感器电极的变化的电容传输到外部装置，并且可以将从外部装置产生的感测电压提供到触摸传感器电极。

40、在示例实施例中，基底还可以包括位于子像素区域与透明区域之间的不透明区域。像素限定层可以设置在不透明区域中。

41、在示例实施例中，oled装置还可以包括栅极绝缘层和层间绝缘层。栅极绝缘层可以设置在像素限定层与基底之间。栅极绝缘层可以在透明区域中部分地暴露触摸传感器电极，并且可以具有位于不透明区域中的第一接触孔。层间绝缘层可以设置在栅极绝缘层上。层间绝缘层可以覆盖栅电极，并且可以在透明区域中部分地暴露触摸传感器电极。层间绝缘层可以具有暴露第一接触孔的第二接触孔。

42、在示例实施例中，触摸传感器电极可以与不透明区域的至少一部分叠置。

43、在示例实施例中，oled装置还可以包括触摸传感器布线。触摸传感器布线可以设置在其下在不透明区域中在层间绝缘层上设置有触摸传感器电极的一部分上，并且可以经由第一接触孔和第二接触孔将触摸传感器电极和外部装置电连接。触摸传感器布线可以将触摸传感器电极的变化的电容传输到外部装置，并且可以将从外部装置产生的感测电压提供到触摸传感器电极。

44、在示例实施例中，触摸传感器布线以及源电极和漏电极可以使用相同材料同时形成，并且触摸传感器布线的厚度可以与源电极和漏电极的厚度相同。

45、在示例实施例中，像素限定层可以是不透明的。

46、在示例实施例中，oled装置还可以包括光阻挡构件。光阻挡构件可以设置在像素限定层上，并且可以与触摸传感器布线叠置。

47、在示例实施例中，oled装置还可以包括位于基底上的至少一层绝缘层。

48、在示例实施例中，所述至少一层绝缘层可以不设置在整个基底上使得所述至少一层绝缘层暴露在基底上的透明区域，触摸传感器电极可以直接设置在基底上。

49、在示例实施例中，所述至少一层绝缘层可以在透明区域中设置在基底上，触摸传感器电极可以设置在所述至少一层绝缘层上。

50、在示例实施例中，oled装置还可以包括像素限定层。像素限定层可以设置在基底上，并且可以部分地暴露设置在子像素区域中的下电极。像素限定层可以在透明区域中部分地暴露触摸传感器电极。

51、在示例实施例中，基底还可以包括位于子像素区域与透明区域之间的不透明区域。像素限定层可以设置在不透明区域中。所述oled装置还可以包括具有第一厚度和比第一厚度小的第二厚度的触摸传感器布线。具有第二厚度的触摸传感器布线可以在透明区域中与触摸传感器电极相接触，具有第一厚度的触摸传感器布线可以在不透明区域中设置在像素限定层上。

52、根据示例实施例的一些方面，有机发光显示(oled)装置包括基底、下电极、发光层、上电极、触摸传感器电极和触摸传感器布线。基底包括多个像素区域，所述多个像素区域均具有子像素区域、与子像素区域对应的透明区域以及围绕子像素区域和透明区域的不透明区域。下电极可以在子像素区域中设置在基底上。发光层可以设置在下电极上。上电极可以在子像素区域中设置在发光层上。触摸传感器电极可以在透明区域和不透明区域的第一部分中设置在基底上，并且可以暴露子像素区域和围绕子像素区域的不透明区域的第二部分。触摸传感器电极可以与上电极彼此间隔开，并且可以围绕上电极。触摸传感器布线可以设置在触摸传感器电极上，并且可以将触摸传感器电极和外部装置电连接。触摸传感器布线可以将触摸传感器电极的变化的电容传输到外部装置，并且可以将从外部装置产生的感测电压提供到触摸传感器电极。

53、在示例实施例中，像素区域可以沿第一方向和与第一方向垂直的第二方向布置。在像素区域中相邻的两个像素区域可以分别被定义为第一像素区域和第二像素区域，触摸传感器电极可以一体地形成为暴露在第一像素区域和第二像素区域中包括的子像素区域和不透明区域的第二部分。上电极在包括在第一像素区域和第二像素区域中的每者中的子像素区域中设置为岛的形状。

54、在示例实施例中，触摸传感器电极和上电极可以使用相同材料同时形成。

55、在示例实施例中，触摸传感器布线可以在触摸传感器电极上沿第二方向延伸，所述触摸传感器电极一体地形成在第一像素区域和第二像素区域中，沿第二方向延伸的触摸传感器布线可以具有条的平面形状。

56、在示例实施例中，oled装置还可以包括平坦化层。平坦化层可以设置在基底上，并且可以具有位于透明区域中的接触孔。触摸传感器布线可以经由平坦化层的接触孔电连接到触摸传感器电极，并且可以在一体形成在第一像素区域和第二像素区域中的触摸传感器电极的下方沿第二方向延伸。沿第二方向延伸的触摸传感器布线可以具有条的平面形状。

57、根据示例实施例的一些方面，有机发光显示(oled)装置可以包括包含子像素区域和透明区域的基底、在子像素区域中设置在基底上的像素结构以及在透明区域中设置的触摸传感器电极。触摸传感器电极可以不设置在子像素区域中。

58、由于根据示例实施例的oled装置包括在透明区域中以使用自电容的感测方法操作的触摸传感器电极，所以oled装置可以感测用户的接触。因此，oled装置的厚度可以相对地减小。此外，因为使用下电极或上电极来形成触摸传感器电极，所以可以降低oled装置的制造成本。此外，由于触摸传感器布线不设置在透明区域中，所以可以不降低oled装置的透射率。此外，由于触摸传感器布线以及源电极和漏电极同时形成，所以可以使触摸传感器布线的布线电阻减小。