显示设备的制作方法

本公开的实施方式涉及显示设备。

背景技术：

1、显示设备实现图像，并且包括液晶显示器(lcd)、有机发光显示器(oled)装置和电泳显示器(epd)。包括在显示设备中的电极和其它金属线反射从外部引入的光。因此，显示设备具有的问题在于，在明亮的环境中由于外部光的反射而引起的可视性低。为了解决上述问题，可以提供偏振膜、滤色器等，并且正进行各种研究以改善可视性。

技术实现思路

1、一个或多个实施方式包括具有优异抗反射特性的显示设备。然而，实施方式仅为示例，并且本公开的范围不限于此。

2、实施方式的附加方面部分地将在随后的描述中阐述，并且部分地将从描述中显而易见，或者可以由本公开的所呈现的实施方式的实践来习得。

3、根据一个或多个实施方式，显示设备包括：像素电极；发射层，在像素电极上；相对电极，覆盖发射层；以及低反射层，在相对电极上并且与发射层重叠，其中，低反射层包括氧化钼钽(motaox)。

4、在实施方式中，低反射层可以与相对电极接触。

5、在实施方式中，低反射层可以具有至的厚度。

6、在实施方式中，低反射层中的钽(ta)的量可以为2at％至16at％。

7、在实施方式中，相对电极可以具有至的厚度。

8、在实施方式中，相对电极可以包含银-镁合金(agmg)，并且相对电极中的银(ag)的量可以为85at％至95at％。

9、在实施方式中，低反射层可以具有黑化特性。

10、在实施方式中，还可以包括覆盖低反射层的封盖层。

11、在实施方式中，低反射层的厚度可以比封盖层的厚度小。

12、在实施方式中，还可以包括在低反射层上的薄膜封装层。

13、根据一个或多个实施方式，显示设备包括：像素电极；像素限定层，具有暴露像素电极的至少一部分的开口；相对电极，在像素电极和像素限定层上；低反射层，与相对电极接触；以及薄膜封装层，在低反射层上，其中，低反射层包括具有黑化特性的氧化钼，并且低反射层具有至的厚度。

14、在实施方式中，低反射层可以在相对电极上。

15、在实施方式中，低反射层可以包括氧化钼钽(motaox)。

16、在实施方式中，低反射层中的钽(ta)的量可以为2at％至16at％。

17、在实施方式中，低反射层可以具有1.8至2.2的折射率。

18、在实施方式中，低反射层可以包括元素周期表的第v族元素的至少一种氧化物。

19、在实施方式中，还可以包括在像素电极和相对电极之间的发射层，并且发射层可以在像素限定层的开口中。

20、在实施方式中，低反射层可以与发射层重叠。

21、在实施方式中，还可以包括在低反射层上的封盖层，并且封盖层可以包括与低反射层的材料不同的材料。

22、在实施方式中，低反射层的厚度可以比封盖层的厚度小。

技术特征：

1.显示设备，包括：

2.根据权利要求1所述的显示设备，其中，所述低反射层与所述相对电极接触。

3.根据权利要求1所述的显示设备，其中，所述低反射层具有至的厚度。

4.根据权利要求1所述的显示设备，其中，所述低反射层中的钽的量为2at％至16at％。

5.根据权利要求1所述的显示设备，其中，所述显示设备还包括覆盖所述低反射层的封盖层。

6.根据权利要求5所述的显示设备，其中，所述低反射层的厚度比所述封盖层的厚度小。

7.根据权利要求1所述的显示设备，其中，所述显示设备还包括在所述低反射层上的薄膜封装层。

8.显示设备，包括：

9.根据权利要求8所述的显示设备，其中，所述显示设备还包括在所述像素电极和所述相对电极之间的发射层，

10.根据权利要求9所述的显示设备，其中，所述低反射层与所述发射层重叠。

技术总结
对于通过防止或减少外部光的反射来改善可视性的显示设备，提供了一种显示设备，该显示设备包括：像素电极；发射层，在像素电极上；相对电极，覆盖发射层；以及低反射层，在相对电极上并且与发射层重叠，其中，低反射层包括包含钼的氧化物。

技术研发人员：申铉亿,李周炫
受保护的技术使用者：三星显示有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/2/25