等离子体产生用的天线及具备该天线的等离子体处理装置的制造方法_2

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[0056] 天线20具备:绝缘管22 及中空的天线本体24,配置在该绝缘管22中,且内部 流经有冷却水44。天线本体24在本例中,隔着空间23而配置在绝缘管22内。其理由后 述。
[0057] 绝缘管22的材质例如为石英、氧化侣、氣树脂、氮化娃、碳化娃、娃等,但并不限于 此。
[0058] 设置绝缘管22的理由如下。目P,如公知般,在导体与高频等离子体接近的结构的 情况下,比起等离子体中的离子,电子更轻,从而远比离子多地入射至导体,因此等离子体 电位较导体而上升至正侧。与此相对,若设置有如上所述的绝缘管22,则可通过绝缘管22 来抑制等离子体16中的带电粒子入射至构成天线本体24的金属管26的现象,因此能够抑 制因带电粒子(主要是电子)入射至金属管26所造成的等离子体电位的上升,并且能够抑 制金属管26被带电粒子(主要是离子)喷瓣而相对于等离子体16及基板10产生金属污 染(metal contamination)的现象。
[0059] 天线本体24采用使中空绝缘体28介隔在相邻的金属管26间而将多个金属管26 串联连接的结构,各连接部具有相对于真空及冷却水44的密封(seal)功能。该密封功能 可利用公知的密封部件来实现。例如,既可使用衬垫(packing),也可使用图4所示般的管 用锥形螺丝结构。对此将后述。
[0060] 本例中,金属管26的数量为两根,因而中空绝缘体28( W及配置在其外周部的电 容器30)的数量为一个,但金属管26的数量也可为Ξ根W上,无论如何,中空绝缘体28 ( W 及配置在其外周部的电容器30)的数量总比金属管26的数量少一个。
[0061] 天线本体24具有配置在各中空绝缘体28外周部的层状的电容器30,并采用将各 中空绝缘体28左右两侧的金属管26与该电容器30电性串联连接的结构(参照图5的等 效电路)。因而,该中空绝缘体28及电容器30如图1所示,配置在真空容器2内。
[0062] 主要参照图2,各电容器30具有:(a)第1电极32,该第1电极32是配置在中空 绝缘体28外周部的电极,并与连接于该中空绝缘体28的其中一侧的金属管26电连接;化) 第2电极34,该第2电极34是W与第1电极32重叠的方式配置在中空绝缘体28外周部的 电极,并与连接于该中空绝缘体28的另一侧的金属管26电连接;W及(C)介电体36,配置 在第1电极32及第2电极34间。电极32、34的导线(lead)部与金属管26例如也可通过 借助焊接等的接合、使用热缩管的压接等而电连接。
[006引金属管26的材质例如为铜、侣、他们的合金、不诱钢(stainless)等,但并不限于 此。
[0064] 中空绝缘体28在图2所示的示例中为绝缘管。中空绝缘体28的材质例如为玻 璃(glass)、氧化侣等陶瓷、氣树脂、聚乙締(Polyeth}dene,阳)、工程塑料(engineering plastic)(例如聚苯硫酸(Polyphenylene Sulfide, PPS)、聚酸酸酬(Polyether Ether Ketone, P邸Κ)等)等,但并不限于此。
[006引电极32、34例如为金属的膜、锥、薄膜、片材(sheet)等。电极32、34的材质例如 为侣、铜、他们的合金等,但并不限于此。
[0066] 介电体36的材质例如为聚对苯二甲酸乙二醇醋(Polyeth^ene Tere地thalate, PET)、聚丙締(Polypropylene, PP)、聚苯硫酸(PPS)、聚糞二甲酸乙二醇醋(Polyeth}dene Naphthalate,阳脚、聚酷亚胺(Pol}dmide,PI)等,但并不限于此。
[0067] 各电容器30既可分别各具有1层第1电极32、第2电极34及介电体36(图2表 示了此情况的示例),也可分别各具有多层。
[0068] 第1电极32、第2电极34及介电体36既可分别单独地配置在中空绝缘体28的外 周部,也可通过将例如图3所示的示例般的薄膜状(也可称作片材状,W下同样)的介电体 及电极卷绕在中空绝缘体28的外周部而一体地配置。
[006引图3的示例采用了下述结构,即,在薄膜状的介电体36的其中一个主面上,例如通 过金属蒸锻等而形成第1电极32,在另一个主面(纸面的背侧)且与电极32重叠的位置, 例如通过金属蒸锻等而形成第2电极34,并将连接导体38、40分别连接于两电极32、34的 导出部。
[0070] 只要将此种薄膜状的介电体及电极在所述中空绝缘体28的外周部卷绕所需次数 (例如1次或多次),并将连接导体38、40分别连接于左右的金属管26即可。在多次卷绕 的情况下,只要在中间夹入另一片介电体薄膜即可。通过多次卷绕,能够利用简单的方法来 将第1电极32、第2电极34及介电体36分别配置多层。也可将2片在薄膜状介电体36的 单面上设置有电极(其相当于电极32或电极34)的部件重叠并在中空绝缘体28的外周部 卷绕所需次数。作为电极32、34,也可使用金属锥。构成电容器30的所述要素的固定?连 接例如也可使用热缩管等来进行。
[0071] 各电容器30的静电电容C能够W周知的下式表达。S为相向的电极32、34的面 积,d为两电极32、34间的距离,ε为介电体36的介电常数。因而,通过改变所述S、t ε 中的一个W上,能够调整静电电容c。若将所述电极32、34及介电体36分别配置多层,则所 述面积S将变大,因此静电电容C将变大。
[0072] [数 1]
[0073] C = ε · S/d
[0074] 对于左右的金属管26与中空绝缘体28的各连接部,也可使用图4所示的示例般 的管用锥形螺丝结构。目P,本例中,在左右的金属管26的端部,分别接合金属制且为母螺纹 的锥形螺丝部42,并将两端部具有公螺纹的锥形螺丝部29的中空绝缘体28螺入其中。该 中空绝缘体28的材质优选前述材质中更硬者(例如工程塑料)。在各锥形螺丝部42与锥 形螺丝部29之间,也可夹入密封带(tape)。通过此种管用锥形螺丝结构,也能够使所述各 连接部具备相对于真空及冷却水44的密封功能。在该中空绝缘体28的外周部配置前述的 电容器30即可。
[00巧]再次参照图1,在使天线20的两端部贯穿至真空容器2外的部分,分别设置有绝 缘部46。天线本体24的两端部的金属管26贯穿所述各绝缘部46,该贯穿部例如通过衬垫 48进行真空密封。各绝缘部46与真空容器2之间例如也通过衬垫50而真空密封。绝缘管 22位于真空容器2内,其两端部由绝缘部46予W支撑。如本例般,利用金属管26的部分 来进行将天线20从真空区域向大气区域取出的做法在加工上更容易。另外,绝缘管22的 两端部与绝缘部46间也可不进行密封。运是因为,即使有气体8进入绝缘管22内的空间 23,但由于该空间23小而电子的移动距离短,因此通常空间23内不会产生等离子体。
[0076] 考虑到电绝缘的观点,在天线本体24的内部、即在各金属管26及各中空绝缘体28 的内部流经的冷却水44优选高电阻的水。例如优选纯水或与此接近的水。当使高频电流 V流经各金属管26时,各金属管26因具有电阻而发热(即,产生焦耳(Joule)热)。尽管 该热也会传递至中空绝缘体28及电容器30,但运些要素26、28、30能够利用所述冷却水44 进行冷却而使溫度降低。电容器30也能够通过主要与中空绝缘体28之间的导热,来利用 冷却水44进行冷却。
[0077] 在天线20 (更具体而言为其天线本体24)的其中一端即供电端52,经由匹配电路 58而连接有高频电源56,另一端即末端54经由返回导体62在接地点60处接地。末端54 也可不经由电容器而直接接地,也可如本例般在返回导体62上串联连接电容器64。其理由 后述。通过所述结构,能够使高频电流从高频电源56经由匹配电路58而流向天线20 (更 具体而言为其天线本体24)。
[007引从高频电源56输出的高频电力、高频电流lu的频率例如为一般的13. 56MHz,但并 不限于此。
[0079] 通过使高频电流V流经天线20,在天线20的周围产生高频磁场,由此与高频电流 逆向地产生感应电场。借助该感应电场,在真空容器2内,电子受到加速而使天线20附 近的气体8电离,从而在天线20的附近产生等离子体(即电感禪合型等离子体)16。该等 离子体16扩散至基板10的附近,从而能够利用该等离子体16来对基板10实施前述的处 理。
[0080] 所述天线20是配置在真空容器2内的内部天线,能够将由流经该天线20的高频 电流所形成的高频磁场从近处有效地用于等离子体16的生成,因此与外部天线相比,等 离子体生成的效率高。为了在后文进行参照,将该效果称作效果1。
[0081] 并且,构成天线20的天线本体24采用了利用配置在中空绝缘体28外周部的 层状的电容器30来将多个金属管26电性串联连接的结构,天线本体24的合成电抗 (reactance)简而言之为从感应性电抗减去电容性电抗的形式,因此能够降低天线20的阻 抗。为了在后文进行参照,将该效果称作效果2。
[0082] 对其进行详述,将图1所示的天线20(更具体而言为其天线本体24)的等效电路 示于图5(A)。此处,设各金属管26的电感为^电阻为R、电容器30的静电电容为C。若将 各金属管26设为彼此实质上相同的长度,则各金属管26的电感L与电阻R便可设为实质 上相同的值。该天线20的阻抗Z能够W下式表达。ω为高频电流I,的角频率,j为虚数 单位。
[0083] [数 2]
[0084] Z = 2R+j(2c〇l^-l/c〇C)
[0085] 所述式的虚数部为天线本体24的合成电抗,为从感应性电抗2 ω L减去电容性电 抗1/ω C的形式,因此通过将电容器30串联连接,能够降低天线20的阻抗Ζ。换言么根据 该天线20,能够适当选定构成其天线本体24的金属管26及电容器30的个数等,由此,无论 天线20的长度如何,均可将天线20的阻抗Ζ设计成适当的值。
[008引其结果,即使在为了应对基板10的大型化等而加长天线20的情况下,也能够抑制 其阻抗Ζ的增大。因而,能够抑制在该天线20的两端间产生大的电位差。由此,能够产生 均匀性良好的等离子体16。甚而,能够提高基板10的处理的均匀性。
[0087] 而且,由于即使在加长天线20的情况下也能够抑制其阻抗Ζ的增大,因此高频电 流容易流经天线20,从而能够效率良好地产生电感禪合型等离子体16。甚而,能够提高 基板10的处理效率。为了在后文进行参照,将该效果称作效果3。
[008引根据所述说明也可知,电容器30的静电电容C优选设定成:天线本体24的阻抗的 虚数部(例如所述数2的虚数部)、更严格而言为等离子体16生成时的该虚数部尽可能小。 之所W说"等离子体16生成时",是因为根据经验可知,在等离子体生成时所述电感L会下 降,优选预估该下降量来进行设计。所述虚数部为0时是满足串联共振条件的情况,虽然如 此般最优选,但并非必须满足串联共振条件,所述虚数部例如也可为±50 Ω W下,优选为 + 10 Ω W下。
[0089] 将在图5 (Α)的电路中,当使高频电流V流经天线20时,满足所述串联共振条件时 的天线20的电位分布的一例W实线A表示于图5度)中。该图5度)中,为了简化说明,忽 略电阻R,并且W天线20的末端54的电位为基准来表示。倾斜部Si是感应性电抗ω?引 起的电位上升量,倾斜部S2是电容性电抗1/ωΟ引起的电位下降量。
[0090] 图5做中的两点链线Β是天线不具有相当于所述电容器30者而为W往的单纯的 导体时的电位分布。
[00川由该图5做可知,在所述天线20的情况下,能够将其两端间的电位差抑制得较 小。因而,能够生成均匀性良好的等离子体16,甚而能够提高基板处理的均匀性。
[0092] 在不满足所述串联共振条件的情况下,例如,图5度)中的点b的电位将稍微向正 侧或负侧偏移(shift),与此相应地,其他部分的电位也会偏移。尽管如此,若与W两点链线 B所示的为W往的单纯的导体的情况相比,仍能够将天线的两端间的电位差抑制得较小。
[0093] 构成所述天线20的天线本体24具有配置在中空绝缘体28外周部的层状的电容 器30,因此无须太过增大金属管26与其外侧的绝缘管22之间的距离,且无须太过增大对流 经内部的冷却水44的流动的阻力。为了在后文进行参照,将该效果称作效果4。
[0094] 对其进行详述,假设取代所述电容器30而将例如所述专利文献3的图2等中记载 般的作为电子零件(零部件(parts))的电容器(即,其自身已作为电子零件而完成,能够 独立地作为电子零件来进行处理的电容器)安装于中空绝缘体28的外侧,则为了确保耐压 及静电电容,该电容器不得不采用大型电容器,因此必须相当程度地加粗绝缘管22。若如 此,则会产生W下等问题,即:(a)该绝缘管22内侧的金属管26与外侧的等离子体16之间 的距离将变大,因此等离子体16的生成效率下降;化)在加粗的绝缘管22内产生多余的等 离子体的可能性提高。根据所述电容器30,则能够防止此类问题的产生。
[0095] 而且,假设将作为电子零件(零部件)的电容器安装于中空绝缘体28的内侧,贝U 会产生W下等问题,即:(a)该电容器会大大阻碍冷却水44的流动而导致天线的冷却变得 困难;化)若为了改善此现象而相当程度地加粗金属管26及中空绝缘体28,则如在所述专 利文献3的问题处也作出的说明般,金属管26的面积会变大,其电位分布容易转印到基板 表面的膜上,从而扰乱膜厚分布。根据所述电容器30,则也能够防止此类问题的产生。
[0096] 另外,如前所述,也可将构成天线20的天线本体24的金属管26设为Ξ根W上,并 在所述各金属管26间分别设置所述中空绝缘体28及电容器30。若如此,则能够较图5 (A)、 图5度)所示的情况进一步细分天线20的电位分布,从而能够使天线20的两端间的电位差 更小。
[0097] 各电容器30也可如前所述,分别具有多层第1电极32、第2电极34及介电体36。 若如此,则容易增大各电容器30的静电电容C,由此,更容易进一步减小天线本体24的所述 合成电抗而降低天线20的阻抗Z。
[0098] 构成天线20的天线本体24优选如图1等所示的示例般,隔着空间23而配置在绝 缘管22内。若如此,则能够通过该空间23的存在而抑制绝缘管22表面的电位上升,由此, 能够抑制等离子体电位的上升。
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