电磁波屏蔽性光透过构件及其制造方法

专利名称：电磁波屏蔽性光透过构件及其制造方法
技术领域：
本发明涉及电磁波屏蔽性光透过构件，该构件的制造方法，使用了该构件的光学过滤器，以及使用该构件而形成的等离子显示器面板等的显示器面板。

背景技术：
近年来，在持续普及的等离子显示器与EL、CRT等各种显示器中，存在从显示器中产生电磁波(微波)，这些电磁波对其它的机器产生不良影响的问题。而且还存在微波对人体产生不良影响的问题。尤其是等离子显示器面板，由于靠高电压驱动，因此在产生、泄漏比其它显示器更强的电磁波方面，存在问题。为了遮蔽这些从各种显示器前面泄漏的电磁波，只要使空间电磁性地绝缘即可。基于这个目的，提出并实施的方案是将兼有电磁波屏蔽性与透明性的电磁波遮蔽构成体装置于各式显示器的前面，并且使该电磁波遮蔽构成体与应该接地的外部电极连接(例如参照专利文献1～4)。另外，基于封入等离子显示器面板内的发光槽内的惰性气体产生近红外线，产生引起无线电话或无线遥控器等电子机器的错误动作的问题。
作为所述电磁波遮蔽构成体的一个例子，将电磁波屏蔽性膜与作为透明基板的塑料板重叠，通过压接或加热、压接，将电磁波屏蔽性膜粘接在塑料板上而形成。而且，所述电磁波屏蔽性膜由塑料膜、设置在该塑料膜上的粘接剂层和具有包含几何图形的网格状的电磁波屏蔽材料的电磁波屏蔽层构成，其中，所述包含几何图形的网格状的电磁波屏蔽材料是通过对粘接于所述粘接剂层的导电性材料所形成的金属箔进行化学蚀刻而形成的。另外，所述几何图形的外周设置有与该几何图形电气连接的导电性的框缘部。但是，所述包含几何图形的网格状的电磁波屏蔽层和导电性的框缘部是通过将金属箔粘贴于粘接剂层，利用化学蚀刻过程对该金属箔进行蚀刻而形成的，并且因为通常使用背面为粗化面的电解铜箔作为金属箔，所以电解铜箔的粗化形状会转印到粘接剂面，由于蚀刻被去除铜箔的部分的粘接剂表面就会变成被粗化过的面。另一方面，作为所述粘接剂层，使用借助加热或加压而流动的物质，如上述所述，通过压接或加热、压接电磁波屏蔽性膜使粘接剂流动化，流进网格状的电磁波屏蔽材料之间，结果是与塑料板粘接，电磁波屏蔽性膜与塑料基板粘接。
以往的电磁波屏蔽性膜是将向粘接剂层粘贴的面被粗化的金属箔与粘接剂层粘贴后，对金属箔进行化学蚀刻而制造得到的，因为被粗化后的金属凹凸面被转印至粘接剂层，通过具有凹凸的粘接剂层来观看图像，因此会有辨识性也就图像的鲜明度方面的问题。
为了克服此课题，在专利第3480898号公报中提出了将转印有粗化金属凹凸面的粘接剂层透明化的显示器用电磁波屏蔽性膜，具体来说就是在转印有粗化金属凹凸面的粘接剂层上，利用加热或加压来粘接透明层，利用透明层润湿粘接剂层的凹凸面来达到透明化。
专利文献1特开平10-335885号公报
专利文献2专利第3480898号公报
专利文献3特开2000-323890号公报
专利文献4特开2000-323891号公报

发明内容
发明要解决的课题 专利第3480898号公报公开的显示器用电磁波屏蔽性膜，容易在粘接剂层的凹凸面中残留微少的空气，该残留的空气部分成为作为显示器的缺陷。另外，即使通过加热或加压粘接了透明层，在设置了曲折率与粘接剂层不同的透明层时，则不会变成完全透明，透明性会略微变低。进而，因为电磁波屏蔽层的几何图形(以下称为网格)是通过将金属层蚀刻而形成的，因此通过粘接剂层而粘接有金属层的塑料膜会暴露于蚀刻液等的各种药用液体，并且由于通过生产线而通过传送辊等各式各样的辊。因此，塑料膜因药液而劣化或因为经过传送辊而产生微小的伤痕。因此，存在透明性与平滑性降低而使得作为显示器的品质下降的问题。
另外，为了提高作为显示器的对比度，优选是将金属箔或金属网格的金属层表面作黑化处理。此黑化处理，特别是铜箔的黑化处理，通常采用印刷配线板领域所采用的一般方法来进行。经由黑化处理，金属层表面会形成氧化膜，但此时也也同时产生微细的针状结晶。如果该针状结晶附着到电磁波屏蔽层的被蚀刻部(网格部以外的金属层的开口部)，则会造成显示器的品质下降与缺陷，而使得成品率降低。如果上文提到的塑料膜的伤痕引起的缺陷或针状结晶等异物附着引起的成品率下降，则制品的制造成本提高，经济性下降。
因此，本发明的目的就是要提供一种电磁波屏蔽性光透过构件，其不存在上述问题，即没有伤痕，即使金属网格黑化时也不会有异物附着于电磁波屏蔽层，能够在光学过滤器或显示器面板上形成透明性优异的电磁波屏蔽层。
另外，本发明的其它目的是提供使用所述特性优良的电磁波屏蔽性光透过构件形成的光学过滤器。或等离子显示器面板等显示器面板。
进而，本发明的目的是提供制造电磁波屏蔽性光透过构件的方法，其中所述电磁波屏蔽性光透过构件可以形成具有无伤痕或异物附着、透明性优良的电磁波屏蔽层的光学过滤器以及显示器面板。
解决课题的手段 为了解决上述课题，本发明涉及具有下述结构的电磁波屏蔽性光透过构件。光学过滤器。等离子显示器面板等显示器面板以及电磁波屏蔽性光透过构件的制造方式。
即，(i)本发明涉及在两片剥离膜间，含有粘着剂与电磁波屏蔽材料的电磁波屏蔽性光透过构件。
另外，(ii)本发明涉及上述电磁波屏蔽材料被粘着剂所覆盖的上述电磁波屏蔽性光透过构件。
另外，(iii)本发明涉及上述(i)记载的电磁波屏蔽性光透过构件，其中，上述电磁波屏蔽材料中的至少一部分从粘着剂中露出。
另外，(iv)本发明涉及上述粘着剂为活性能量线固化型粘着剂的上述电磁波屏蔽性光透过构件。
另外，(v)本发明涉及上述粘着剂含有近红外线吸收物或颜色修正物的电磁波屏蔽性光透过构件。
另外，(vi)本发明涉及从上述电磁波屏蔽性光透过构件至少剥离一片剥离膜，将露出的粘着剂粘合在透明基材上的光学过滤器。
另外，(vii)本发明涉及透明基材包含从防反射层、硬膜防止层、防眩光功能层、颜色修正层以及近红外线吸收层中选出的一个以上的层的上述光学过滤器。
另外，(viii)本发明涉及上述(vi)记载的光学过滤器，其中，在透明基材上形成从防反射层、硬膜防止层、防眩光功能层、颜色修正层以及近红外线吸收层中选出的一个以上的层。
另外，(ix)本发明涉及上述光学过滤器，其中光学过滤器是等离子显示器面板用光学过滤器。
另外，(x)本发明涉及等离子显示器面板，其为，从上述(1)～(5)的任一项所记载的电磁波屏蔽性光透过构件中至少剥落1片剥离膜，将露出的粘着剂进行粘贴而成。
另外，(xi)本发明涉及安装有上述(6)～(8)的任一项所记载的光学过滤器的等离子显示器面板。
另外，(xii)本发明涉及一种电磁波屏蔽性光透过构件的制造方法，其特征在于，以任意顺序来进行下述工序(1)～(7)，并且至少实施一次活性能量线照射 (1)通过活性能量线粘着力消失型粘着剂粘贴金属箔与基材膜的工序； (2)利用所述金属箔的选择性蚀刻而形成金属网格的工序； (3)将上述金属箔或金属网格的表面进行黑化处理的工序； (4)通过粘着剂来粘贴含有基材膜、活性能量线粘着力消失型粘着剂和金属网格而成的层叠体的金属网格面以及转印用支持体的工序； (5)将所述基材膜从所述金属网格剥离的工序； (6a)将由所述基材从所述金属网格剥离而产生的金属网格的露出部分与新的剥离膜粘贴的工序； (7)将金属网格埋入粘着剂中的工序。
另外，(xiii)本发明涉及一种电磁波屏蔽性光透过构件的制造方法，其特征在于，以任意顺序来进行下述工序(1)～(7)，并且至少实施一次活性能量线照射 (1)通过活性能量线粘着力消失型粘着剂粘贴金属箔与基材膜的工序； (2)利用所述金属箔的选择性蚀刻而形成金属网格的工序； (3)将上述金属箔或金属网格的表面进行黑化处理的工序； (4)通过粘着剂来粘贴含有基材膜、活性能量线粘着力消失型粘着剂和金属网格而成的层叠体的金属网格面以及转印用支持体的工序； (5)将所述基材膜从所述金属网格剥离的工序； (6b)将所述基材从所述金属网格剥离而产生的金属网格的露出部分与新的剥离膜上涂有粘着剂的层叠体的粘着剂面粘贴的工序；； (7)将金属网格埋入粘着剂中的工序。
发明的效果 本发明中，在电磁波屏蔽性光透过构件制造过程中，即使基材膜受伤或有异物附着在活性能量线粘着力消失型粘着剂上，或者即使粘着剂层的特性因蚀刻用药水而劣化，由于基材膜以及活性能量线粘着力消失型粘着剂最终都在电磁波屏蔽性光透过构件的制造过程中被除去，所以得到的电磁波屏蔽性光透过构件或电磁波屏蔽层没有残留伤痕或异物。由此可知，在制造电磁波遮蔽构成体时所产生的问题，如产生对电磁波屏蔽性膜的伤痕、黑化处理引起的微细结晶附着引发的显示器缺陷、进而蚀刻处理时的粘接剂的透明性的问题都可以被解决，可以形成透明性不下降、品质优良的电磁波屏蔽层。另外，本发明中，因为可以改善成品率，在经济方面也有优异的效果。进而，通过使用本发明的电磁波屏蔽性光透过构件，在设置电磁波屏蔽层时，不需要塑料膜等的其他层，就可以形成电磁波屏蔽层，可以形成利用以往的方法无法形成的薄型的具有电磁波屏蔽功能的光学过滤器或等离子显示器等显示器面板。



图1图1(a)～(d)是本发明的电磁波屏蔽性光透过构件的各种状态的截面图。
图2图2是本发明的光学过滤器的一个例子的截面图。
图3图3是网格形成片的截面图。
图4图4是包含基材膜、活性能量线粘着力消失型粘着剂以及剥离膜的层叠体的截面图。
图5图5是作为电磁波屏蔽材的形成了金属网格的网格形成片的截面图。
图6图6是粘着片的截面图。
图7图7是表示金属网格从网格片上剥离过程的图。
图8图8(a)、(b)是表示将在粘着剂层上负载有金属网格的转印片与剥离片粘接，通过加压将金属网格埋入粘着剂层内的工序的图。
图9图9(a)、(b)是将剥离膜上涂布有粘着剂的层叠体的粘着剂面与在粘着剂层上负载有金属网格的转印片粘贴，通过加压将金属网格埋入粘着剂层中的步骤的图。
符号说明 图1～9中，1、4、6、8表示剥离膜，2表示粘着剂，3表示电磁波屏蔽材料，5表示光学膜的透明基材，7表示层叠体，9表示转印片，10表示网格形成片，11表示基材膜，12活性能量线粘着力消失型粘着剂，13表示金属箔，15表示形成了金属网格的网格形成片。

具体实施例方式 以下参照图1对本发明的电磁波屏蔽性光透过构件进行说明。这里，由于是以图来说明本发明，因此各构件、层的大小和厚度不是按正确的比例尺记载的。
本发明的电磁波屏蔽性光透过构件是，在两片剥离膜1、4之间含有粘着剂2与电磁波屏蔽材3。图1表示本发明的电磁波屏蔽性光透过构件的几个形态，图1(a)为粘着剂2与电磁波屏蔽材3均为双面都与剥离膜1、4贴紧的状态的例子；图1(b)是电磁波屏蔽材料双面都与剥离膜贴紧，但粘着剂2只与一侧的剥离膜1贴紧的状态的例子；图1(c)是电磁波屏蔽材料只有单面与剥离膜贴紧，粘着剂2的一面与剥离膜1的整面，另一面与电磁波屏蔽材料合和剥离膜4贴紧的例子；图1(d)是粘着剂的双面整面与剥离膜1、4贴紧，电磁波屏蔽材3在粘着剂内，并没有与剥离膜接触的例子。另外，本发明的电磁波屏蔽性光透过构件，只要是在两片剥离膜1、4之间含有粘着剂2与电磁波屏蔽材3即可，并不只限于上述的形态。
构成本发明的电磁波屏蔽性光透过构件的剥离膜1与4是指，在塑料膜上利用硅或氟等剥离性材料进行了剥离处理的膜。通过实施剥离处理，即使剥离膜通过粘着剂而粘贴于基材等时，也可以用任意的方法简便地将该膜撕下。剥离膜与简单的透明塑料膜区分来使用。作为剥离膜，也可以使用市售的剥离膜，例如可以举出东洋纺制E7002，Panac社制造的再剥离膜NT等。另外，作为剥离膜，也可以使用在塑料膜等基材膜上涂布了后述的活性能量线粘着力消失型粘着剂而得到的剥离膜。但是，从经济方面的理由与处理性的观点来看，优选使用在塑料膜上利用硅或氟等进行了剥离处理的膜。
所述塑料膜优选使用有可挠性的塑料膜，还优选可以透过活性能量线。塑料膜的厚度虽无限制，但是优选为5～500μm左右，更优选10～200μm之间更佳。作为塑料膜，具体来说，可以举出聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)等的聚酯类，聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、乙烯/醋酸乙烯酯共聚物(EVA)等的聚烯烃类，聚氯乙烯、聚偏1，1-二氯乙烯等的乙烯基类，聚砜、聚醚砜、聚苯硫、聚碳酸酯、聚酰胺、聚酰亚胺、丙烯酸系树脂、环烯烃树脂等膜。另外，塑料膜也可以是层叠膜，作为形成层叠体的树脂，例如可以举出上述构成单层塑料膜的树脂。塑料膜，从价格或处理性方面来说，优选使用PET膜。这些塑料膜也可以用作后述的本发明的基材膜。
本发明的电磁波屏蔽光透过构件是，在2片剥离膜1、4之间含有粘着剂2与电磁波屏蔽材料3。例如，若2片剥离膜的剥离处理面与层叠方向并排时，则在2个剥离处理面之间含有粘着剂与电磁波屏蔽材料。两个剥离处理面的位置可以平行也可以不平行。优选两个剥离处理面的位置关系是平行。
在本发明中，在制造电磁波屏蔽材料时使用基材膜当作暂时支持体，制造电磁波屏蔽性光透明构件的过程中，上述的暂时支持体会从电磁波屏蔽材料上剥离除去，因此最终得到的电磁波屏蔽光透明构件上不存在暂时支持体。因此，在屏蔽材料制造工序中，被用作屏蔽材料的暂时支持体的基材膜即使产生伤痕，产生的伤痕也不会对电磁波屏蔽光透过构件的伤痕有所影响，可以提高屏蔽层的光透过(透明性)性。另外，跟以往的电磁波遮蔽构成体来比，可以节省至少一层的塑料膜，因此经济性好，进而，有利于显示器前面过滤器与电磁波屏蔽性建材等的薄型化。电磁波屏蔽性光透过构件的双面不使用剥离膜时，会在制造工序中使基材膜受损，或网格开口部有异物附着，造成透明性下降，作为商品来说是有问题的。另外，还存在形成电磁波屏蔽材料时的蚀刻液引起的基材膜、粘着剂损伤的问题。
本发明的电磁波屏蔽材料3是几何图形的网格状的导电性金属材料以及此类金属材料。该电磁波屏蔽材料可以通过在导电性金属箔上利用微平版印刷法或印刷法形成抗蚀图案后，利用化学蚀刻等实施蚀刻处理，或电镀法、使用导电性墨水的印刷法等而形成。
作为上述导电性金属箔，可以举出铜、铝、镍、铁、金、银、铬、钛等金属，或者这些金属中的两种以上组合的合金。其中，从易导电、易进行回路加工、价格便宜方面考虑，优选铜、镍、铝及它们的合金，更优选铜和铜合金。另外，关于导电性金属箔，也可使用预先施行黑化处理过的导电性金属箔。
金属箔的厚度优选是0.5～40μm，更优选1～30μm。若超过40μm，不但难以形成细线条，而且会造成电磁波屏蔽材料使用于等离子显示器等显示器前时会有视野角变小的情形，因此是不适宜的。另外，若是厚度小于0.5μm，则表面阻抗变大，会有使电磁波屏蔽效果变差的倾向。
关于网格的形状，作为构成网格的单元形状，可以举出正三角形或等腰三角形、直角三角形等三角形，正方形、长方形、菱形、平行四边形、梯型等四角形，六角形、八角形、十二角形、二十角形等n角形(n为正数)，圆形，椭圆形，星型等。网格的形状包含上述单元形状的1种或2种以上的组合。构成网格的单元形状，从电磁波屏蔽性的观点来看，三角形是最有效的；但从光线透过率的观点来看，优选n角形的n大的形状。优选在上述网格的外周设置与该网格电气连接的导电性框缘部。
优选构成网格的线条的宽度在40μm以下，线条的间隔在100μm以上，线条的厚度在40μm以下的范围。另外，从网格的非辨识性来看，线条宽度更优选在25μm以下；从可见光透过率的观点来看，线条间隔更优选在120μm以上，线条厚度更优选在18μm以下。线条宽度在40μm以下，特别优选在25μm以下，如果太小太细，则表面阻抗变得过大，使屏蔽效果变差，因此优选在1μm以上。线条的厚度优选在40μm以下，如果厚度太薄，则表面阻抗会变得过大，使得屏蔽效果变差，因此优选在0.5μm以上，更优选在1μm以上。线条间隔越大则开口率越提高，光线透过率也提高。如上所述，使用在显示器前面时，开口率优选为50％以上，更优选60％，进一步优选80％以上。如果线条间隔太大，则电磁波屏蔽性会下降，因此线条间隔优选在1000μm(1mm)以下。这里所谓的开口率，是指从有效面积中减掉金属网格面积后的面积相对于电磁波屏蔽材料覆盖的有效面积之比的百分率。
作为形成导电性金属箔的方法，在加工精度与加工效率观点来看，优选使用微平版印刷法形成的网格。作为微平版印刷法，可以举出照相平版印刷法、X射线平版印刷法、电子射线平版印刷法、离子束平版印刷法等。其中，从简便性与量产性的观点来看，微平版印刷微影法效率最高。其中，利用了化学蚀刻的照相平版印刷法，从其简便性、经济性、金属网格的加工精度来看，是最适宜的。微平版印刷法中，依次进行在金属箔上形成抗蚀剂层，通过曝光、显像形成抗蚀剂图案，利用抗蚀剂图案进行金属箔的蚀刻，剥离阻抗层，以及根据需要的中和处理。如果需要对蚀刻后的金属箔表面进一步做黑化处理时，则进一步进行黑化处理。抗蚀剂图案，可以通过用丝网印刷法、凸版印刷法等的印刷法印刷抗蚀油墨，不经过曝光、显像而形成。
形成网格时的金属箔的蚀刻，可以使用以往公知的任何蚀刻法，但从经济方面来看，优选的方法是使用蚀刻液的化学蚀刻。作为蚀刻液，例如氯化铁、氯化铜等的水溶液是适宜的。另外，抗蚀剂剥离液优选为苛性钠水溶液。中和时，优选使用盐酸、硫酸、草酸等酸性溶液。作为黑化处理液，优选使用在印刷回路基板制造技术中使用的公知的黑化处理液。对于这些蚀刻液等的各种药液与使用条件并无特别限制，只要是印刷配线板制造方法中的公知药液与使用条件即可。
作为构成本发明的电磁波屏蔽性光透过构件的粘着剂，作为优选的粘着剂，可以举出如下粘着剂所述粘着剂包含分子中具有羧基、羟基、酰胺基、缩水甘油基、氨基、乙酰乙酰氧基中的至少一种反应性官能团的丙烯酸系聚合物以及能够与上述反应性官能团反应的固化剂。
作为上述丙烯酸系聚合物的代表性的物质，可以举出(A)具有反应性官能团的单体与其它的(甲基)丙烯酸酯单体的共聚物，或者(B)具有反应性官能团的单体、其它的(甲基)丙烯酸酯单体和能与上述单体共聚的其它的乙烯基单体的共聚物。这些丙烯酸系的聚合物利用公知的方法合成而来。丙烯酸系聚合物，为了赋予粘着性，玻璃化转变点优选在-20℃以下。另外，从粘着力与凝集力的均衡方面考虑，丙烯酸系聚合物的重均分子量优选为20万～200万，进一步优选40～150万。以下例示出用于制造丙烯酸系聚合物的单体，但是用于制造丙烯系聚合物的单体并不限定于此，只要是以往用于制造丙烯酸系聚合物的公知的单体都可以使用。这里，聚合物的重均分子量是根据拧凝胶渗透色谱法使用标准聚苯乙烯的标准曲线测定而来的。
作为上述用于制造丙烯酸系聚合物的具有反应性官能团的单体，可以举出丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、丙烯酸2-羟乙酯、甲基丙烯酸2-羟乙酯、丙烯酸-4羟丁酯、甲基丙烯酸2-乙酰乙酰氧基乙酯、丙烯酰胺、甲基丙烯酸缩水甘油酯、2-甲基丙烯酰氧基乙基异氰酸酯等。
另外，作为其它的(甲基)丙烯酸酯单体，可以举出丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸丁酯、丙烯酸异丁酯、甲基丙烯酸异丁酯、丙烯酸异丙酯、丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸月桂酯、甲基丙烯酸二甲氨基甲酯、甲基丙烯酸二甲氨基甲禾灵(etotyl)等。
另外，作为能够与所述具有反应性官能团的单体和其它的(甲基)丙烯酸酯单体共聚的其它乙烯基单体，可以举出醋酸乙烯基、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、丙烯腈、乙烯基甲苯等。
另一方面，固化剂是与具有反应性官能团的丙烯酸系聚合物反应赋予粘着剂凝集力的物质，可以使用对于反应性官能团具有反应性的异氰酸酯系化合物、环氧系化合物、氮杂环丙烷基化合物等的公知的多官能化合物。固化剂的使用量只要考虑到丙烯酸系单体的种类或者粘着力来决定即可，没有特定的限制，但是相对于丙烯酸系树脂100重量份，优选添加0.1～15重量份，进一步优选0.1～10重量份。如果低于0.1重量份的话，则交联度降低，凝集力变得不充分，如果超过15重量份的话，则对被粘着体的粘着力容易减少，因此不适宜。
作为上述异氰酸酯系化合物，可以举出甲苯二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、间苯二异氰酸酯、二异氰酸二甲苯酯等二异氰酸酯或者它们的三羟甲基丙烷加合物，与水反应得到的缩二脲，具有三多异氰酸酯环的三聚物等。
作为环氧化合物，可以举出山梨糖醇多缩水甘油醚、聚甘油多缩水甘油醚、季戊四醇多缩水甘油醚、双甘油多缩水甘油醚、甘油多缩水甘油醚、新戊二醇二缩水甘油醚、间苯二酚二缩水甘油醚、间二甲苯二胺四缩水甘油醚及其加氢物等。
作为氮杂环丙烷基化合物，可举出N，N’-二苯基甲烷-4，4-二(1-氮杂环丙烷羧基酰胺)、三羟甲基丙烷-三-β-氮杂环丙烷基丙酸酯、四羟甲基甲烷-三-β-氮杂环丙烷基丙酸酯、N，N’-甲苯-2，4-二(1-氮杂环丙烷羧基酰胺)三亚乙基三聚氰胺等。
粘着剂也可以含有粘着赋予剂、增塑剂、增粘剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂、红外线吸收材料、润湿剂、填充剂、颜料、染料、稀释剂、防锈剂、固化促进剂等公知的各种添加剂。这些添加剂可以仅使用一种，也可两种以上同时使用。另外，只要是可以得到目标物性的量即可，并无特定的限制。
作为本发明的粘着剂，除了上述的粘着剂外，也可优选使用活性能量线固化型粘着剂。活性能量线固化型粘着剂是由于活性能量线的照射而产生固化(三维交联)，凝集力提高，从而表现粘着力的粘着剂。在本发明中，作为活性能量线固化型粘着剂，优选使用丙烯酸系聚合物、活性能量线反应性化合物、光聚合引发剂、阻聚剂及其它添加剂构成的物质。
活性能量线固化型粘着剂与一般的粘着剂不同，其不含固化剂，或即使含固化剂，剂量也是极少量，因此粘着剂的流动性非常高，容易使网格埋入粘着剂中。进而，在网格埋入粘着剂中后，可以照射活性能量线进行固化，发挥粘着性，因此可以生成均匀的粘着层，并且可以得到较高的粘着力。
举例说明构成所述活性能量线固化型粘着剂的丙烯酸系聚合物，例如可以举出通过使从(甲基)丙烯酸酯单体、具有反应性官能团的单体、能够与(甲基)丙烯基酯单体中选出的二种以上的单体共聚合而得到的物质，从粘着性方面来看，作为具有反应性官能团的单体，优选将含有羟基、乙酰乙酰氧基、羧基的单体中的至少一种进行共聚合。这种丙烯酸系聚合物可以采用公知的方法合成。
构成活性能量线固化型粘着剂的丙烯酸系聚合物的重均分子量，因需保有凝集力，所以优选40～200万，进一步优选90～200万，特别优选100万～160万。另外，丙烯酸系聚合物的玻璃化转变点优选是-60℃～-5℃，更优选-50℃～-10℃。低于-60℃时凝集力会不足，超过-5℃时可能产生粘着性不足。
以下列举构成此活性能量线固化型粘着剂的丙烯酸系聚合物合成用单体，但合成丙烯酸系聚合物所使用的单体并不限于这些，可以使用公知的任何单体。
作为所述(甲基)丙烯酸酯单体，可举出丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸丁酯、丙烯酸异丁酯、甲基丙烯酸异丁酯、丙烯酸异丙酯、丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸月桂酯、甲基丙烯酸二甲氨基甲酯、甲基丙烯酸二甲氨基甲禾灵等。
另外，作为具有反应性官能团的单体，可以举出丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、丙烯酸2-羟乙酯、甲基丙烯酸2-羟乙酯、丙烯酸4-羟丁酯、2-乙酰乙酰氧基乙基甲基丙烯酸酯、丙烯酰胺、甲基丙烯酸缩水甘油酯、2-甲基丙烯酰氧基乙基异氰酸酯等。
作为能够与(甲基)丙烯酸酯单体共聚合的其它乙烯基单体，可以举出醋酸乙烯酯、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、丙烯腈、乙烯基甲苯等。
另外，作为活性能量线反应性化合物，可以举出借助活性能量线的照射进行三维交联的公知的单体或者寡聚物。这些是分子内具有2个以上的丙烯酰基或者甲基丙烯酰基的物质。活性能量线反应性化合物，相对于丙烯酸聚合物100重量份，优选配合0.1～50重量份，更优选0.1～40重量份，尤其优选0.1～20重量份。低于0.1重量份时，借助照射活性能量线照射而发生的三维交联不充分，得不到必要的凝集力；超过50重量份时，借助活性能量线照射而发生的三维交联过度，可能无法获得必要的粘着力。
作为借助上述活性能量线的照射来进行三维交联的单体，可举出1，6-己二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯等的单体，但是并不限制于上述单体。另外，为了要调整粘性或者交联密度等，也可以加入在分子内具有1个以上的丙烯酰基或者甲基丙烯酰基的单体作为活性能量线反应性化物。
另外，作为借助上述活性能量线照射来进行三维交联的寡聚物，也可以使用作为活性能量线反应性化合物来使用的公知的任何寡聚物。作为代表性的物质，可以举出聚氨酯丙烯酸酯寡聚物，但是并不限定于此。为了要预防作为粘着剂使用时的经时变黄，优选使用不含有甲苯二异氰酸酯等芳香族异氰酸酯的聚氨酯丙烯酸酯寡聚物作为原料。
作为用在活性能量线固化型粘着剂中的阻聚剂，可以使用以往作为阻聚剂使用的公知的任何化合物。具体举例阻聚剂，例如可以举出对苯二酚、对甲氧基苯酚、甲基对苯二酚、对苯醌、甲苯醌、叔丁基对苯二酚、叔丁基苯醌、2，5-二苯基对苯醌等的对苯二酚系化合物，酚噻嗪系化合物，硝基胺系化合物，但是阻聚剂并不限于所举出的这些化合物。
作为其它的添加剂，可以举出与上文作为粘着剂的添加剂而列举的物质相同的物质。这些添加剂的添加量，只要可以得到目标物性，则没有特别限制。
本发明中，只要在2片的剥离膜间含有电磁波屏蔽材料和粘着剂即可。电磁波屏蔽材料与粘着剂，可以是以电磁波屏蔽层与粘着剂层为多层的结构而被含有，也可以是电磁波屏蔽材料被埋入粘着剂层内。尤其是，电磁波屏蔽材料被覆盖于粘着剂中的情形(例图1(d))或也可以是电磁波屏蔽材料的至少一部份从粘着剂中露出(例图1(a)、(b)、(c))。电磁波屏蔽材料从粘着剂中露出借助于埋入金属网格时粘着剂的流动。如果以金属网格表面(与后述基材膜相反的面)进行黑化处理的情形为例来具体说明的话，有黑化处理过的一部分或整面露出的情形，不进行黑化处理的面(以下称为非黑化面。)的一部分或整面露出的情形，黑化处理过的面与非黑化面的一部分露出的情形。
构成本发明的电磁波屏蔽性光透过构件的粘着剂2，优选进一步含有近红外线吸收物、颜色修正物、具有ND过滤器功能的化合物。
所谓的近红外线吸收物，意思是吸收近红外线的色素化合物。使用本发明的电磁波屏蔽性光透过构件形成等离子显示器等显示器的电磁屏蔽层时，可吸收从等离子显示器等显示器辐射的近红外线，从而可以防止包含显示器的其它电子机器的开关、计算机通信的信号发送等的错误动作。本发明的电磁波屏蔽性光透过构件应用于显示器时，所述近红外线吸收物只要是可以吸收从显示器放射出来的近红外线的色素化合物即可。作为这种可吸收近红外线的色素化合物，可以举出从特定结构的二亚铵(diimonium)系化合物、酞菁系化合物、二硫醇金属配位化合物、花青系化合物等中选出的至少一个化合物。通过单独使用或并用这些化合物，可以吸收例如从显示器放射出来的近红外线。本发明中，近红外线吸收物也可以是不包含在电磁波屏蔽层中而包含在另外的近红外线吸收层中而应用于显示器面板，关于近红外线吸收层在后面进行说明。
对于本发明中作为近红外线吸收物可以优选使用的二亚铵系化合物进行例示的话，例如可以举出下述通式(1)所表示的在阴离子成分中具有磺酰亚胺结构的化合物。
化1


通式(1) 通式(1)中，R1～R8可以彼此相同或不同，表示氢原子、取代或无取代的烷基、取代或无取代的环烷基、取代或无取代的卤代烷基、取代或无取代的氰基烷基、取代或无取代的芳基、羟基、或取代或无取代的苯基烷基。
作为烷基，可以举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、叔丁基、仲丁基、正戊基、正己基、正庚基、正辛基、正癸基、正十二烷基、正十八烷基等的碳原子数为1～20的烷基。
作为环烷基，可以举出环丙基、环丁基、环戊基、环己基、环庚基、环辛基等的碳原子数为3～10的环烷基。
作为链烯基，可以举出乙烯基、丙烯基、1-丙烯基、异丙烯基、2-丁烯基、1，3丁二烯基、2-戊烯基等的碳原子数为2～10的链烯基。
作为芳基，可以举出苯基、甲苯基、二甲苯基、萘基等的碳原子数为6～12的芳基。
作为结合于这些基团的取代基，可以举出氰基；硝基；羟基；四氢呋喃基；氟原子、氯原子、溴原子等卤素原子；甲氧基、乙氧基、正丙氧基、异丙氧基、正丁氧基、叔丁氧基、仲丁氧基、正戊氧基、正辛氧基、正癸氧基等碳原子数为1～10的烷氧基；甲氧甲氧基、乙氧甲氧基、丙氧甲氧基、甲氧乙氧基、乙氧乙氧基、丙氧乙氧基、甲氧丙氧基、乙氧丙氧基、甲氧丁氧基、乙氧丁氧基等碳原子数为2～12的烷氧烷氧基；甲氧甲氧甲氧基、甲氧甲氧乙氧基、甲氧乙氧甲氧基、甲氧乙氧乙氧基、乙氧甲氧甲氧基、乙氧甲氧乙氧基、乙氧乙氧甲氧基、乙氧乙氧乙氧基等碳原子数在为3～15的烷氧烷氧烷氧基；芳氧基；苯氧基、甲苯氧基、萘氧基等碳原子数为6～12的芳氧基； 甲磺酰基氨基、乙磺酰基氨基、正丙磺酰基氨基、异丙磺酰基氨基、正丁磺酰基氨基、叔丁磺酰基氨基、仲丁磺酰基氨基、正戊磺酰基氨基、正己磺酰基氨基等碳原子数为1～6的烷基磺酰基氨基；甲氧羰基、乙氧羰基、正丙氧羰基、异丙氧羰基，正丁氧羰基、叔丁氧羰基、仲丁氧羰基、正戊基氧羰基、正己基氧羰基等碳原子数为2～7的烷氧基羰基；甲基羰基氧基、乙基羰基氧基、正丙基羰基氧基、异丙基羰基氧基、正丁基羰基氧基、叔丁基羰基氧基、正戊基羰基氧基、正己基羰基氧基等碳原子数为2～7的烷基羰基氧基；甲氧羰基氧基、乙氧羰基氧基、正丙氧羰基氧基、异丙氧羰基氧基、正丁氧羰基氧基、叔丁氧羰基氧基、仲丁氧羰基氧基、正戊氧羰基氧基、正己氧羰基氧基基等碳原子数为2～7的烷氧基羰基氧基等。
这些R1～R8之中，优选碳原子数1～8的具有直链或支链的烷基、卤素取代烷基、氰基取代烷基，特别优选碳原子数2～6的具有直链或支链基团的烷基。作为所述碳原子数2～6的具有直链或支链基团的烷基的具体例子，例如可以举出乙基，正丙基、正丁基、正基、异丙基、异丁基、异戊基等。
另外，作为R1～R8的优选的其它例子，还可以举出下述通式(2)表示的苯基烷基。
化2

通式(2) (式中，C表示碳原子数1～18的直链或支链的烷基，环D表示可以带有取代基的苯环。) 通式(2)表示的苯基烷基中，烷基的碳原子数优选为1～8。进而，苯基烷基中的苯基可以无取代基，但也可以具有从烷基、羟基、磺酸基、烷基磺酸基、硝基、氨基、烷氧基、卤代烷基以及卤素原子中选出的至少一种取代基。优选没有取代基的苯基。
作为所述的苯基烷基，可以举出例如苄基、苯乙基、苯丙烯基、苯基-α-甲基丙烯基、苯基-β-甲基丙烯基、苯丁烯基、苯戊烯基等、苯辛烯基等，优选为苄基和苯乙基。这些苯基烷基因为可以提高二亚铵化合物的耐热性，因此优选。
通式(1)中的环A和B，在1，4-位以外可以有1～4个取代基，也可以没有取代基。作为能够结合的取代基，可以举出例如卤原子、羧基、低级烷氧基、氰基、低级烷基。作为卤原子，可以举出例如氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等。作为烷氧基，可以举出例如甲氧基、乙氧基等C1～C5的烷氧基；作为低级烷氧基，可以举出例如甲基、乙基等C1～C5的烷基。优选A和B没有取代基，或被卤原子(尤其是氯原子、溴原子)、甲基或氰基取代。B有取代基时，4个B环全部相同，进而，从合成的角度来看，优选取代基的位置相对于与苯二胺结构结合的氮为间位的位置。进而，环A和B中，从合成的角度来看，优选没有1，4-位以外的取代基。
通式(1)中的阴离子成分的R9与R10，只要是各自相同或不同的氟代烷基或它们一起形成的氟代烷亚烷基，则被取代的氟原子数与碳原子数没有特别的限定，作为优选的R9与R10的例子，可以举出相同或不同的碳原子数为1～8的全氟烷基也可。即，作为阴离子成分的优选例子，可以举出下述通式(3)所表示的阴离子成分。
化3

通式(3) (式中、n与n’表示1～8的整数) 在此，n及n’为1～8的整数，但优选为1～4的整数。作为优选的具体例子，可以举出例如全氟烷基磺酰基相同(即n与n’为相同的整数)的双(三氟甲烷磺)酰亚胺、双(五氟乙烷磺)酰亚胺等；全氟烷磺酰基不同(即n与n’为不同的整数)的五氟乙磺酰三氟甲烷磺酰亚胺、三氟甲磺酰七氟丙磺酰亚胺、九氟丁磺酰三氟甲磺酰亚胺等。
在这些之中，在吸收近红外线能力方面，更优选全氟烷基磺酰基相同(即n与n’为相同的整数)，n和n’为1或2的双(三氟甲烷磺)酰亚胺，双(七氟乙烷磺)酰亚胺。
另外，作为通式(1)中的阴离子成分的R9与R10的其它优选例子，可以举出如下述通式(4)中所表示的，这些一起形成的碳原子数2～12的全氟亚烷基。
化4

通式(4) (式中、m表示2～12的整数) 这里，m优选为2～8的整数，进一步可以举出优选m为3的下述式(5)表示的1，3-二磺酰基六氟亚丙基酰亚胺。
化5

通式(5) 具有上述通式(1)的R9与R10一起形成的碳原子数2～12的全氟亚烷基的由上述通式(4)表示的阴离子，与使用R9和R10独立的通式(3)的阴离子作为阴离子成分的情形相比，耐热性得到提高，因此优选。
作为本发明中所使用的通式(1)表示的二亚铵系化合物的具体例，可以举出例如 下述式(6)所表示的双(三氟甲烷磺)酰亚胺酸N，N，N’，N’-四{对-二(正丁基)氨基苯基}-对-亚苯基二亚铵、 化6

式(6) 下述式(7)所示的双(五氟乙烷磺)酰亚胺酸N，N，N’，N’-四{对-二(正丁基)氨基苯基}-对-亚苯基二亚铵、 化7

式(7) 下述式(8)所示的双(三氟甲烷磺)酰亚胺酸N，N，N’，N’-四{对-二(异丁基)氨基苯基}-对-亚苯基二亚铵、 化8

式(8) 下述式(9)所示的双{双(三氟甲烷磺)酰亚胺酸}N，N，N’，N’-四{对-二苄基氨基苯基}-对-亚苯基二亚铵、 化9式(9)

式(9) 下述式(10)所示的双{双(三氟甲烷磺)酰亚胺酸}N，N，N’，N’-四{对-二苯乙基氨基苯基}-对-亚苯基二亚铵、 化10


式(10) 下述式(11)所示的双{双(三氟亚甲烷磺)酰亚胺酸}N，N，N’，N’-四{对-二(4-氟化)苄基氨基苯基}-对-亚苯基二亚铵、 化11式(11)

式(11) 下述式(12)所示的双(1，3-二磺酰基六氟亚丙基酰亚胺酸)N，N，N’，N’-四{对-二苯乙基氨基苯基}-对-亚苯基二亚铵、 化12


式(12) 下述式(13)表示的双(1，3-二磺酰基六氟亚丙基酰亚胺酸)N，N，N’，N’-四{对-二丁基氨基苯基}-对-亚苯基二亚铵等。
化13


式(13) 本发明所使用的通式(1)中所示的二亚铵系化合物，例如可以按照特公昭43-25335号公报所公开的如下方法得到。即，通过将对苯二胺和1-氯-4-硝基苯进行乌耳曼反应所得到的生成物还原而得到下述通式(14)所示的胺化合物，使该化合物在有机溶剂中，优选在二甲基甲酰胺、1，3-二甲基-2-咪唑啉二酮、N-甲基吡咯烷酮等的水溶性极性溶剂中，在30～160℃，优选为50～140℃，与对应所期望的R1～R8的卤化化合物(例R1为n-C4H9时为BrC4H9)反应，可以得到所有的取代基(R1～R8)相同的化合物，(以下称全取代体)。另外，合成全取代体以外的化合物时，例如，先使其与规定的摩尔数(相对于每1摩尔胺化合物为7摩尔)的试剂(BrC4H9)反应，在R1～R8中的7个中导入正丁基，然后为了导入剩下的取代基(异丁基)而与需要的摩尔数(相对于每1摩尔胺化合物为1摩尔)的试剂(BrC4H9BrCH2CH(CH3)2)作反应。
化14

式(14) (式中，环A与B如上述的定义) 之后，在有机溶剂中，优选在二甲基甲酰胺、1，3-二甲基-2-咪唑啉二酮、N-甲基吡喀烷酮、乙腈等水溶性极性溶剂中，于0～100℃、优选5～70℃，添加下述通式(15)所示的磺酰亚胺酸银衍生物，使上述合成的化合物进行氧化反应，过滤出析出的银，然后加入水、醋酸乙酯或己烷等溶剂，过滤产生的沉淀，由此可以得到本发明的通式(1)所示的二亚铵系化合物。
化15通式(15)
通式(15) (式中，R9与R10的定义与所述相同) 作为上述通式(1)所示的二亚铵系化合物的市售品，例如可以举出“CIR-LR”、“CIR-1085”(两者皆为日本Carlit公司制)，“K-1032”(日本化药公司制)等。
本发明的粘着剂中含有的二亚铵系化合物的含量，由通过本发明的粘着剂所形成的近红外线吸收层的厚度与要求的该近红外线吸收层所要求的吸收能而决定。例如，如果吸收能为一定量，若形成的近红外线吸收层的膜厚较薄时，则需要在粘着剂中多添加二亚铵系化合物；相反，若形成的近红外线吸收层的膜厚较厚时，则粘着剂中的二亚铵系化合物的添加物量可以为少量。即，可以根据要求的近红外线吸收能来决定粘着剂中的二亚铵系化合物的量与形成的近红外线吸收层的膜厚度。
如上所述，二亚铵系化合物的添加量会因各种因素而有变动，但一般来说，相对于通过本发明的粘着剂形成的近红外线吸收层的单位面积每1m2，优选为1～1000mg，更优选5～500mg。例如使其为相对于构成粘着剂的树脂的配合量的话，相对于构成粘着剂的树脂100重量份来说，二亚铵系化合物优选以0.1～10重量份来配合，更优选以0.5～5重量份来配合。二亚铵系化合物的配合量小于上述范围时，优选相应地加厚近红外线吸收层的膜厚以达到希望的近红外线吸收能。另一方面，二亚铵系化合物的配合量超过上述范围时，则可见光的透过率降低，因此优选相应地使近红外线吸收层的膜厚变薄。
另外，通式(1)表示的二亚铵系化合物，在850～1200nm的范围内有近红外线吸收能，尤其是在1000nm左右的近红外线吸收很强，不仅可以遮断遥控器等所使用的近红外线的波长的光以外，也可以遮断将来会被使用的计算机通信的波长的光，对于这种错误动作的防止的效果也令人期待。
以下对于本发明中用作近红外线吸收物的酞菁系化合物、二硫醇金属配位化合物、花青系化合物进行说明。这些酞菁系化合物与后述二硫醇金属配位化合物、花青系化合物可以单独使用，也可以并用近红外线吸收物的任意两种以上，但优选将上述二亚铵系化合物与上述的酞菁系化合物、二硫醇金属配位化合物、花青系化合物中的任一种并用。
在本发明中使用的酞菁系化合物有酞菁、酞菁配位化合物、或在酞菁和酞菁配位化合物的酞菁骨架的苯环上具有OR、SR、NHR、或NRR’中的一种以上。这里，R、R’可以相同也可以不同，表示可以具有取代基的苯基、碳原子数为1～20的烷基或碳原子数为7～20的芳烷基。其中，优选取代基的中的1个是有NHR取代的酞菁。
作为本发明中所使用的酞菁系化合物的优选例子，可以举出下述通式(16)所示的化合物。通式(16)表示的化合物的溶剂溶解性优良，与聚合物的相溶性也优良。而且，使用了通式(16)表示的酞菁系化合物的近红外线吸收层用作近红外线吸收过滤器时，特别可以得到可见光透过率高、近红外线吸收效率高且耐热性、耐光性优良的近红外线吸收过滤器。
化16

式(16) (式中，α彼此可以相同也可以不同，表示SR15、OR16、NHR17或卤原子，而且α的至少任一个是NHR17。R15、R16和R17彼此可以相同也可以不同，表示可以具有取代基的苯基、碳原子数为1～20的烷基或碳原子数为7～20的芳烷基。β彼此可以相同也可以不同，表示SR15、OR16或卤原子，SR15、OR16是必须的。M代表非金属、金属、金属氧化物、或金属卤化物。) 上述通式(16)中，作为碳原子数1～20的烷基，例如可以举出甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、新戊基、1，2-二甲基丙基、正己基、1，3-二甲基丁基、1-异丙基丙基、1，2-二甲基丁基、正庚基、1，4-二甲基戊基、2-甲基-1-异丙基丙基、1-乙基-3-甲基丁基，正辛基，2-乙基己基等直链或支链状的烷基；环己基等环状烷基等。作为碳原子数7～20的芳烷基，例如可以举出苄基、苯乙基等。作为卤原子，例如可以举出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等，优选为氟原子。
另外，上述R15、R16与R17的苯基、碳原子数1～20的烷基或碳原子数7～20的芳烷基可以具有一个或两个以上的取代基。作为这种取代基，例如可以举出卤原子、酰基、烷基、烷氧基、卤代烷氧基、硝基、氨基、烷基氨基、烷基羰基氨基、芳基氨基、芳基羰基氨基、羰基、烷氧基羰基等。
上述通式(16)中的M中，所谓非金属，是指金属以外的原子，例如两个氢原子。具体来说，可以形成存在于酞菁结构的中央部分、可以具有取代基的相对的两个氮原子与氢原子结合的结构。作为金属，例如可以举出铁、镁、镍、钴、铜、钯、锌、钒、钛、铟、锡等。作为金属氧化物，例如可以举出钛氧基、钒氧基等。作为金属卤化物，例如可以举出氯化铝、氯化铟、氯化锗、氯化锡、氯化珪等。作为M，优选为金属、金属氧化物或金属卤化物，具体来说可以举出镍、钴、铜、锌、铁、钒氧基、二氯化锡等。更优选锌、铜、钴、钒氧基、二氯化锡。
作为上述通式(16)所表示的酞菁系化合物的优选形态，8个β中的4～8个可以相同也可以不同，为SR1或OR2。更优选8个β全部相同或不同，为SR1或OR2。作为这种酞菁系化合物，例如可以举出以下述省略符号表示的酞菁化合物等ZnPc(PhS)8(PhNH)3F5、ZnPc(PhS)8(PhNH)4F4、ZnPc(PhS)8(PhNH)5F3、ZnPc(PhS)8(PhCH2NH)4F4、ZnPc(PhS)8(PhCH2NH)5F3、ZnPc(PhS)8(PhCH2NH)6F2、CuPc(PhS)8(PhNH)7F、CuPc(PhS)8(PhNH)6F2、CuPc(PhS)8(PhNH)5F3、VOPc(PhO)8(PhCH2NH)5F3、VOPc(PhO)8(PhCH2NH)6F2、VOPc(PhO)8(PhCH2NH)8、VOPc(PhS)8(PhCH2NH)8、VOPc(2，5-Cl2PhO)8{2，6-(CH3)2PhO}4{Ph(CH3)CHNH}3F、VOPc(2，5-Cl2PhO)8{2，6-(CH3)2PhO}4(PhCH2NH)4、CuPc(2，5-Cl2PhO)8{2，6-(CH3)2PhO}4(PhCH2NH)4、CuPc(PhS)8{2，6-(CH3)2PhO}4(PhCH2NH)4、VOPc(4-CNPhO)8{2，6-Br2-4-(CH3)PhO}4{Ph(CH3)CHNH}4、ZnPc(2，4-Cl2PhO)8{2，6-Br2-4-(CH3)PhO}4{Ph(CH3)CHNH}3F。
另外，这些化合物中，8个α中的4个表示可以相同也可以不同的OR2或卤原子的化合物，例如优选由以下的省略符号表示的酞菁化合物等ZnPc(PhS)8(PhNH)3F5、ZnPc(PhS)8(PhNH)4F4、ZnPc(PhS)8(PhCH2NH)4F4、VOPc(2，5-Cl2PhO)8{2，6-(CH3)2PhO}4{Ph(CH3)CHNH}3F、VOPc(2，5-Cl2PhO)8{2，6-(CH3)2PhO}4(PhCH2NH)4、CuPc(2，5-Cl2PhO)8{2，6-(CH3)2PhO}4(PhCH2NH)4、CuPc(PhS)8{2，6-(CH3)2PhO}4(PhCH2NH)4、VOPc(4-CNPhO)8{2，6-Br2-4-(CH3)PhO}4{Ph(CH3)CHNH}4、ZnPc(2，4-Cl2PhO)8{2，6-Br2-4-(CH3)PhO}4{Ph(CH3)CHNH}3F。
其中，上述化合物的省略符号中，Pc表示酞菁核，Pc之后表示β位取代的8个取代基，之后表示α位取代的8个取代基。另外，上述Ph表示苯基。更具体来说，上述省略符号表示中心金属Pcβ位的8个取代基α位的8个的取代基。例如在VOPc(2，5-Cl2PhO)8{2，6-(CH3)2PhO}4{Ph(CH3)CHNH}3F表示如下的酞菁系化合物，中心金属为VO酞菁核β位由8个2，5-Cl2PhO取代α位由4个2，6-(CH3)2PhO取代和3个Ph(CH3)CHNH取代和1个F取代而成的化合物。
上述通式(16)所示的酞菁化合物的制造方法并无特别限制，可以适当使用以往公知的方法。例如可以通过使酞腈化合物与选自金属塩、金属氧化物、金属羰基、金属卤化物和有机酸金属中的任一种进行环化反应后，与氨基化合物反应而得到。
作为上述通式(16)表示的酞菁系化合物的市售品，例如可以举出「EXCOLOR IR10A」、「EX COLOR IR12」、「EX COLOR IR14」、「EX COLORHA-1」、「EX COLOR HA-14」(上述产品皆为日本触媒制)等。从酞菁系化合物的溶剂溶解性、与聚合物的相溶性方面以及用作近红外线吸收过滤器时的可见光线透过率、近红外线吸收效率的方面来看，优选「EX COLOR IR10A」、「EX COLOR IR12」、「EX COLOR IR14」。
酞菁系化合物向构成本发明的电磁波屏蔽性光透过构件的粘着剂中的添加量，根据被使用的酞菁系化合物的近红外线吸收能与粘着剂层的膜厚、被要求的吸收能而决定。若吸收能为一定量，则粘着剂中需要多添加酞菁系化合物，相反地，若形成的近红外线吸收层的膜厚较厚时，则粘着剂中的酞菁系化合物的添加量可以是少量。即，可以根据要求的近红外线吸收能来决定粘着剂中的酞菁系化合物的量以及所形成的近红外线吸收层的膜厚。例如，如果吸收能为一定，若形成的近红外线吸收层的膜厚较薄时，则粘着剂中需多添加酞菁系化合物；相反地，形成的近红外线吸收层的膜厚较厚时，粘着剂中的酞菁化合物的添加物为少量即可。即，可以根据要求的近红外线吸收能来决定粘着剂中的酞菁系化合物的量以及近红外线吸收层的膜厚。
酞菁系化合物的添加量，具体来说，相对于由本发明的粘着剂形成的近红外线吸收层的单位面积每1m2来说，优选是1～1000mg，更优选是5～500mg。例如使其为相对于构成粘着剂树脂的配合量的话，则相对于构成粘着剂的树脂100重量份，优选以0.1～10的重量份配合酞菁系化合物，更优选以0.2～5重量份来进行配合。
若酞菁系化合物的配合量小于上述范围时，优选相应地加厚粘着剂层的膜厚以达到希望的近红外线吸收能。另外，酞菁系化合物的配合量若超过上述范围时，可见光透过率降低，所以优选使粘着剂层的膜厚相应地变薄。
这些通式(16)表示的酞菁系配位化合物的特征是，在800～900nm的近红外线区域内的具有极大吸收，且在可见光区域的吸收能力小。因此，通过使其与二亚铵系化合物组合，两者的相乘效果可以在800～1000nm的近红外线区域中产生效率良好的吸收遮蔽，因此可以吸收从等离子显示器发出的无用的近红外线。另外，已知通常二亚铵系化合物与其它色素混合时，其耐热性明显下降，但是与酞菁系化合物混合时，二亚铵系化合物的耐热性下降的程度少，在此观点上优选将两者并用。
作为用作构成本发明电磁波屏蔽性光透过构件的粘着剂的近红外线吸收物的二硫醇金属配位化合物，只要是通常称为二硫醇金属配位化合物的物质即可，并无特别限制，但具体来说，优选下述通式(17)表示的金属配位化合物。
化17

通式(17) (式中，R11～R14，可以各自相同或不同，表示氢原子、卤原子、氰基、酰基、氨基甲酰、烷基氨基羰基、烷氧基羰基、芳基氧羰基、取代或未取代的烷基、或者取代或未取代的芳基，并且也可以是邻接的2个取代基通过连结基相连。另外，M为镍、铂、钯或铜金属。) 这些由通式(17)表示的二硫醇金属配位化合物，可以使用1种或2种以上。通式(17)表示的二硫醇金属配位化合物中，R11～R14的取代基在以下具体说明。
作为卤原子，可以举出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等。
作为酰基的例子，可以举出乙酰基、乙羰基、丙羰基、丁羰基、戊羰基、己羰基、苯甲酰基、对叔丁基苯甲酰基等。
作为烷基氨基羰基的例子，可以举出甲基氨基羰基、乙基氨基羰基、正丙基氨基羰基、正丁氨基羰基、仲丁氨基羰基、正戊氨基羰基、正己基氨基羰基、正庚基氨基羰基、正辛基氨基羰基、2-乙基己基氨基羰基、二甲氨基羰基、二乙氨基羰基、二正丙基氨基羰基、二正丁基氨基羰基、二仲丁基氨基羰基、二正戊基氨基羰基、二正己基氨基羰基、二正庚基氨基羰基、二辛基氨基羰基等。
作为烷氧基羰基的例子，可以举出甲氧羰基、乙氧基羰基、正丙氧基羰基、异丙氧基羰基、正丁氧基羰基、异丁氧基羰基、仲丁氧基羰基、叔丁氧基羰基、正戊基氧羰基、异戊基氧羰基、新戊基氧羰基、1，2-二甲基丙基氧羰基、正己基氧羰基、环己基氧羰基、1，3-二甲基-丁基氧羰基、1-异丙基丙基氧羰基、1，2-二甲基丁基氧羰基、正庚基氧羰基、1，4二甲基戊氧基羰基、2-甲基-1-异丙基丙基氧羰基、1-乙基-3-甲基丁基氧羰基、正辛基氧羰基、2-乙基己基氧羰基、3-甲基-异丙基丁基氧羰基、2-甲基-1-异丙基氧羰基、1-叔丁基-2-甲基丙基氧羰基、正壬基氧羰基等碳原子数2～20的直链或支链的烷基氧羰基等。
作为芳基氧羰基的例子，可以举出苯基氧羰基、萘基氧羰基、甲苯氧羰基、二甲苯氧羰基、氯苯基氧羰基等。
在取代或未取代的烷基中，作为未取代的烷基的例子，可以举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、新戊基、环戊基、1，2二甲基丙基、正己基、环己基，1，3-二甲基丁基，1-异丙基丙基、1，2-二甲基丁基，正庚基、1-4-二甲基戊基、2-甲基-1-异丙基丙基、1-乙基-3-甲基丁基、正辛基、2-乙基己基、3-甲基1-异丙基丁基、2-甲基-1-异丙基、1-叔丁基-2-甲基丙基、正壬基、3，5，5-三甲基己基等碳原子数1～20的直链、支链或环状的烃基。
所谓的取代烷基是指上述未取代的烷基的至少一个氢被各官能团取代而得到的基团。
作为取代烷基的例子，例如可以举出 未取代的烷基的氢被烷氧基取代的烷氧基烷基、 未取代的烷基的氢被烷氧基烷氧基取代的烷氧基烷氧基烷基、 未取代的烷基的氢被烷氧基烷氧基烷氧基取代的烷氧基烷氧基烷氧基烷基、 未取代的烷基的氢被卤原子取代的卤代烷基、 未取代的烷基的氢被氨基取代的氨基烷基、 未取代的烷基的氢被烷基氨基取代的烷基氨基烷基或二烷基氨基烷基、 此外的烷氧基羰基烷基、烷基氨基羰基烷基、烷氧基磺酰基烷基等。
作为上述的烷氧基烷基，可以举出甲氧基甲基、甲氧基乙基、乙氧基乙基、丙氧基乙基、丁氧基乙基、3-甲氧丙基、3-乙氧基丙基、甲氧乙氧基甲基、乙氧基乙氧基乙基、二甲氧基甲基、二乙氧基甲基、二甲氧基乙基、二乙氧基乙基等；作为卤代烷基，可以举出氯甲基、2，2，2-三氯乙基，三氟甲基、1，1，1，3，3，3-六氟2-丙基等。另外，对于烷基氨基或二烷基氨基的烷基、烷氧基羰基烷基、烷基氨基羰基烷基、烷氧基磺酰基烷基中的烷氧基、烷基，可以举出与上述的烷基或烷氧基烷基的烷氧基等相同的取代基。
取代或未取代的芳基中，作为未取代的芳基，可以举出苯基、萘基、联苯基等，所谓取代芳基是指上述未取代的芳基的至少一个氢被各种官能团取代而得到的基团。
例如，作为取代苯基，可以举出氯代苯基、二氯苯基、三氯苯基、溴代苯基、氟代苯基、五氟苯基、碘代苯基等卤代苯基；甲苯基、二甲苯基、三甲苯基、乙苯基，二甲基乙基苯基、异丙基苯基、叔丁基苯基、叔丁基甲基苯基、辛基苯基、壬基苯基、三氟甲基苯基等烷基衍生物取代苯基； 甲氧基苯基、乙氧基苯基、丙氧基苯基、异丙氧基苯基、己基氧苯基、环己基氧苯基、辛基氧苯基、2-乙基己基氧苯基、3，5，5-三甲基己基氧苯基、甲基乙氧基苯基、二甲氧基苯基、1-甲氧基-5-乙氧基苯基、1-甲氧基-2-乙氧基苯基、1-甲氧基-3-乙氧基苯基、1-甲氧基-4-乙氧基苯基、1-乙氧基-2-甲氧基苯基、2-甲氧基-3-乙氧基苯基、2-甲氧基-4-乙氧基苯基、2-甲氧基-5-乙氧基苯基、1-乙氧基-4-甲氧基苯基、2-甲氧基-3-乙氧基苯基、二乙氧基苯基、乙氧基乙氧基苯基、二(乙氧基乙氧基)苯基、乙氧基乙氧基乙氧基苯基、二(乙氧基乙氧基乙氧基)苯基、3-甲氧基-4-(2-甲氧基乙氧基)苯基、3-甲氧基-4-(2-乙氧基乙氧基)苯基、3-乙氧基-4-(2-甲氧基乙氧基)苯基、3-乙氧基-4-(2-乙氧基乙氧基)苯基、3-丙氧基-4-(2-甲氧乙氧基)苯基、3-丙氧基-4-(2-乙氧基乙氧基)苯基、3-异丙氧基-4-(2-甲氧基乙氧基)苯基、3-异丙氧基-4-(2-乙氧基乙氧基)苯基、2-(2-羟基)-3-甲氧基苯基、3-甲氧基-4-(2-羟基乙氧基)苯基、氯代甲氧基苯基、氯代乙氧基苯基等烷氧基取代苯基； 甲基硫代苯基、乙基硫代苯基、叔丁基硫代苯基、二叔丁基硫代苯基、2-甲基-1-甲基硫代苯基等烷基硫代取代苯基；N，N-二甲基氨基苯基、N，N-二乙基氨基苯基、N，N-二丙基氨基苯基、N，N-二丁基氨基酸苯基、N，N-二戊氨基氨基苯基、N，N-二己基氨基苯基、N-甲基-N-乙基-氨基苯基、N-丁基-N-乙基氨基苯基、N-己基-N-乙基氨基苯基、4-(N，N-二甲基氨基)-乙基苯基、4-(N，N-二乙基氨基)-乙基苯基、3-(N，N-二甲基氨基)-乙基苯基、2-(N，N-二甲基氨基)-乙基苯基等烷基氨基苯基等。
另外，作为取代萘基，可以举出氯萘基、二氯萘基、三氯萘基、溴萘基、氟萘基、五氟萘基、碘代萘基等卤代萘基；乙基萘基、二甲基乙基萘基、异丙基萘基、叔丁基萘基、叔丁基甲基萘基、辛基萘基、壬基萘基、三氟甲基萘基烷基衍生物取代萘基；甲氧基萘基、乙氧基萘基、丙氧基萘基、己基氧萘基、环己基氧萘基、辛基氧萘基、2-乙基己基氧萘基、3，5，5三甲基己基氧萘基、甲基乙氧基萘基、二甲氧基萘基、氯甲氧基萘基、乙氧基乙氧基萘基、乙氧基乙氧基乙氧基萘基等烷氧基取代萘基；甲基硫代萘基、乙基硫代萘基、叔丁基硫代萘基、甲基乙基硫代萘基、丁基甲基硫代萘基等烷基硫代取代萘基；N，N-二甲基氨基萘基、N，N-二乙基氨基萘基、N，N-二丙基氨基萘基、N，N-二丁基氨基酸萘基、N，N-二戊氨基氨基萘基、N，N-二己基氨基萘基、N-甲基-N-乙基氨基萘基、N-丁基-N-乙基氨基萘基、N-己基-N-乙基氨基萘基、4-(N，N-二甲基氨基)-乙基萘基、4-(N，N-二乙基氨基)-乙基萘基、3-(N，N-二甲基氨基)-乙基萘基、2-(N，N-二甲基氨基)-乙基萘基等烷基氨基萘基。
作为取代或未取代的芳基，除了这些以外，可以举出取代或未取代的对硝苯基、取代或未取代的吡啶基、取代或未取代的吡咯烷基、取代或未取代的哌啶基、取代或未取代的吗啉基、取代或未取代的四氢吡啶基、取代或未取代的硫代苯基、取代或未取代的咪唑啉基、取代或未取代的呋喃基等。
通式(17)所表示的二硫醇金属配位化合物的R11～R14表示的取代基中，特别优选的是各自可以相同或不同的烷基、苯基、萘基、甲苯基、二甲苯基、三甲苯基、乙基苯基、二甲基苯基、异丙基苯基、叔丁基苯基、叔丁基甲基苯基、甲氧基苯基、乙氧基苯基、丙氧基苯基、N，N-二甲基氨基苯基、N，N-二乙基氨基苯基、N，N-二丁基氨基苯基、乙基萘基、二甲基乙基萘基、异丙基萘基、叔丁基萘基、叔丁基甲基萘基、甲氧基萘基、乙氧基萘基、丙氧基萘基、甲基硫代萘基、乙基硫代萘基、叔丁基硫代萘基、甲基乙基硫代萘基、丁基甲基硫代萘基、N，N-二甲基氨基萘基、N，N-二乙基氨基萘基、N，N-二丙基氨基萘基、N，N-二丁基氨基萘基等碳原子数为3～20的取代或未取代的烷基、苯基或萘基，另外，特别优选M为镍。
这些由通式(17)表示的二硫醇金属配位化合物的特征是，在800～900nm的近红外线区域中有极大吸收，而且在可见光区域的吸收小。因此，可以通过使其与二亚铵系化合物组合，两者的相成效果在800～1000nm的近红外线区域中产生效率良好的吸收遮蔽，因此可以吸收由等离子显示器中发出的无用的近红外线。另外，已知通常二亚铵系化合物与其他色素混合时其耐热性会明显下降，但在与二硫醇金属配位化合物混合时，二亚铵系化合物的耐热性下降的程度较少，从该观点来说，优选两者并用。
二硫醇金属配位化合物向构成本发明中电磁波屏蔽性光透过构件的粘着剂中的添加量根据所使用的二硫醇金属配位化合物的近红外线吸收能。粘着剂的膜厚、要求的吸收能而决定。如果吸收能为一定时，则需要在粘着剂中多添加二硫醇金属配位化合物，相反地，如果形成的近红外线吸收层的膜厚很厚时，粘着剂中的二硫醇金属配位化合物的添加物可以为少量。即，可以根据所要求的近红外线吸收能，来决定粘着剂中的二硫醇金属配位化合物的量以及被形成的近红外线吸收层的膜厚。例如，如果吸收能为一定时，若形成的近红外线吸收层的膜厚较薄时，需要在粘着剂中多添加二硫醇金属配位化合物，相反地，若形成的近红外线吸收层的膜厚很厚时，粘着剂中的二硫醇金属配位化合物的添加量可以是少量。即，可以根据所要求的近红外线吸收能，来决定粘着剂中的二硫醇金属配位化合物的量以及形成的近红外线吸收层的膜厚。
二硫醇金属配位化合物的添加量，具体来说，相对于通过本发明的粘着剂形成的近红外线吸收层的单位面积每1m2，优选为1～1000mg，更优选为5～500mg。例如，使其为相对于构成粘着剂的树脂的配合量时，相对于构成粘着剂的树脂100重量份，优选配合0.05～10重量份的酞菁系化合物，更优选配合0.2～5重量份。二硫醇金属配位化合物的配合量小于上述范围时，优选相应地加厚近红外线吸收层的膜厚以达到希望的近红外线吸收能。另一方面，二硫醇金属配位化合物的配合量若超过上述范围时，可见光透过率降低，所以优选使近红外线吸收层的膜厚相应地变薄。
另外，使通式(1)所表示的二亚铵系化合物、通式(16)表示的酞菁系化合物和通式(17)所表示二硫醇金属配位化合物的配合比以该顺序为10∶1∶1～1∶1∶1(重量比)时，可以高效率地吸收近红外线区域的波长，因此优选。
通过使构成本发明的电磁波屏蔽性光透过构件的粘着剂中含有近红外线吸收物，可以使电磁波屏蔽层具有可同时遮蔽电磁波与近红外线的功能。因此，例如构成等离子显示器的表面面板时，可以省略作为另一层而设置的近红外线吸收层，因此有助于显示器的薄型化。进而，还可提高电磁波屏蔽构件的耐光性。
本发明的电磁波屏蔽性光透过构件的粘着剂中优选含有颜色修正物。颜色修正物是用于修正显示器显示色的颜色平衡的物质，通常使用色修正用色素。颜色修正用色素，可以举出例如就等离子显示器来说，可遮断从氖等发出的波长580～610nm的橙光的物质等。作为颜色修正用色素，可以根据用途使用各种色素，可以举出花青(聚甲炔)系、醌系、偶氮系、靛蓝系、多烯系、螺环(スピロ)系、卟啉系、酞菁系、萘酞菁系、花青系等色素，但不限于此。另外，就等离子显示器来说，为了阻隔从氖等发出的波长为580～610nm橙光，可以使用花青系、卟啉系、吡咯甲川(pyrromethene)系等。
本发明的电磁波性光透过构件的粘着剂优选配合具有中性灰(ニュ一トラルグレ一neutral grey)的ND过滤器功能的化合物。
本发明的电磁波性光透过构件，优选至少将一侧的剥离膜剥下，如图2所示，粘贴于光学过滤器的透明基材5上，作为光学过滤器来使用。
所述透明基材5，除了保持电磁波屏蔽材料的目的以外，也可赋予等离子显示器等光学过滤器本身以机械强度。因此透明基材是用具有高刚性的透明材料制造的。作为高刚性的透明材料，例如可以举出玻璃、塑料材料。具体来说，优选使用强化或半强化玻璃、聚碳酸酯材料、聚丙烯酸酯材料。平衡强度和重量观点来看，透明基材的厚度优选为0.1mm～10mm，更优选为2～5mm。
本发明的光学过滤器用于例如等离子显示器时，光学过滤器优选包含具有防止等离子显示器面板破损、阻隔近红外线、提高视觉辨识性等的光学功能与电磁波屏蔽功能的层。另外，也可以通过赋予机械强度而赋予保护等离子显示器本身功能。具体来说，光学过滤器中优选形成从硬涂层、防反射层、防眩光功能层、颜色修正层、ND过滤器层、近红外线吸收层中选出的至少一种以上的功能层。此外，也可以进一步设计防静电层与紫外线吸收层。这些层可以以任意顺序层叠，也可层叠两层以上的相同功能层。
上述光学过滤器的硬涂层可以防止等离子显示器等的表面受到损伤，优选由活性能量线固化型或热固化性树脂形成。本发明中，考虑到涂膜的硬度，优选使用活性能量线(尤其是紫外线)固化型的树脂。作为树脂的组成，例如优选由各种的(甲基)丙烯酸酯类、光聚合引发剂以及根据需要的以有机溶剂为主成分的涂层而形成。作为各种(甲基)丙烯酸酯类的优选物质，可以举出聚氨酯(甲基)丙烯酸酯或环氧(甲基)丙烯酸酯等的(甲基)丙烯酸酯，或其它的多官能(甲基)丙烯酸酯类。
上述环氧(甲基)丙烯酸酯，是将环氧树脂的环氧基以(甲基)丙烯酸进行酯化而以(甲基)聚丙烯酰基做为官能团的物质，例如可举出对双苯酚A型环氧树脂的(甲基)丙烯酸加成物，及对酚醛清漆型环氧树脂的(甲基)丙烯酸加成物等。
作为聚氨酯(甲基)丙烯酸酯，例如可以通过将多元醇和多异氰酸酯在异氰酸酯基过剩的条件下反应形成的含有异氰酸酯基的聚氨酯预聚物与含有羟基的(甲基)丙烯酸酯类反应而得到。另外，也可以通过将多元醇与多氰酸酯在羟基过剩的条件下反应得到的含有羟基的聚氨酯预聚物与含有异氰酸酯基的(甲基)丙烯酸酯类反应而可得到。
作为上述的多元醇，可举出例如乙二醇、丙二醇、二甘醇、二丙二醇、丁二醇、1，6-己二醇、3-甲基-1，5-戊二醇、新戊二醇、己三醇、三羟甲基丙烷、聚四亚甲基二醇、己二酸与乙二醇的缩聚物等。
另外，作为上述的多异氰酸酯，例如可以举出甲苯二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯等。
另一方面，作为含有羟基的(甲基)丙烯酸酯类，例如可以举出2-羟基乙基丙烯酸酯、2-羟基丙基丙烯酸酯、4-羟基丁基丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯等。
另外，作为具有异氰酸酯基的(甲基)丙烯酸酯类，例如可以举出2-甲基丙烯酰氧基乙基异氰酸酯、甲基丙烯酰基异氰酸酯等。
进而，其它的多官能(甲基)丙烯酸酯类，是在分子内具有2个以上的(甲基)丙烯酰基的物质，优选是在分子内具有3个以上的丙烯酰基的物质。具体例示其他的多官能(甲基)丙烯酸酯类的话，可举出三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、环氧乙烷改性三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、环氧丙烷改性三羟甲基丙烷三丙烯酸、三(丙烯酰氧乙基)异氰脲酸酯、己内酯改性三(丙烯酰氧乙基)异氰脲酸酯、季戊四醇三丙烯酸、季戊四醇四丙烯酸酯、二(三羟甲基丙烷)四丙烯酸酯、二季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、烷基改性二季戊四醇三丙烯酸酯、烷基改性二季戊四醇五丙烯酸酯、己内酯改性二季戊四醇六丙烯酸酯，以及它们的2种以上的混合物。
另外，作为形成上述硬涂层时所使用的光聚合引发剂，可以举出苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻异丙基醚、苯偶姻异丁基醚、二乙氧基苯乙酮、苯偶酰二甲基缩酮、2-羟基-2-甲基苯丙酮、1-羟基环己基苯基酮，二苯甲酮，2，4，6-三甲基苯偶姻二苯基膦氧化物，米希勒酮，N，N-二甲基氨基安息香酸异戊酯，2-氯噻吨酮，2，4-二乙基噻吨酮等。这些光聚合引发剂也可以适当并用2种以上。
另外，作为有机溶剂，可以举出甲苯、二甲苯等芳香族烃类；醋酸乙酯、醋酸正丙酯、醋酸异丙酯、醋酸正丁酯、醋酸异丁酯等酯类；甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇等醇类；丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮等酮类；2-甲氧基乙醇、2-乙氧基乙醇、2-丁氧基乙醇、乙二醇二甲基醚、乙二醇二乙基醚、二甘醇二甲基醚、丙二醇甲基醚等醚类；2-甲氧基乙酸乙酯、2-乙氧基乙酸乙酯、2-丁氧基乙酸乙酯、丙二醇甲基醚乙酸酯等醚酯类等。另外，也可以将这些有机溶剂2种以上混合使用。
另外，在硬涂层的涂敷剂中，除了上述成分外，为了提高耐磨耗性，也可以添加胶态状金属氧化物、有机溶剂作为分散介质的二氧化硅溶胶等。
上述硬涂层可以通过涂布上述的涂布液而得到。
作为涂布法，可以使用棒涂法、刮刀涂布法、旋转涂布法、反向涂布法、模涂法、喷涂法、辊涂法、凹板涂布法、模唇涂布法(lip-coating)、气刀涂布法、浸渍涂布法等。
涂布完涂布液之后，使溶剂干燥，使涂敷剂交联固化，从而得到硬涂层。若涂布液是紫外线、电子射线等的活性能量线固化型的话，则交联作用固化是通过照射活性能量线而进行的。作为活性能量线，可以使用从氙灯、低压水银灯、高压水银灯、超高压水银灯、金属卤化物灯、碳弧灯、钨灯等光源发出的紫外线，或通常从20～2000KeV的电子射线加速器射出的电子射线、α射线、β射线、γ射线等。如此形成的防损伤层的厚度通常为1～50μm，优选为3～20μm。
上述防反射层的意思是赋予防止反射或降低反射的功能的层，是以防表面反射、提高可见光透过率为目的而设计的，可使用以往公知的形成防反射层的任何方法来形成。作为形成防反射层的方法，例如通常的方法有在支持体的单面或双面形成薄膜的低折射率层，或折射率不同的多层薄膜，借助薄膜的表面反射光与界面的折射反射光的光干涉而降低反射率的方法等，作为具体的层结构的例子，可以举出折射率1.2～1.45的低折射率层单层、折射率1.7～2.4的高折射率层与低折射率层交替组合的结构，折射率1.5～1.9的中折射率层与折射率1.7～2.4的高折射率层与低折射率层组合的结构等。
作为上述低折射率层，可使用MgF2(折射率为约1.4)、SiO2(折射率为约1.2～1.5)、LiF(折射率为约1.4)等金属化合物或者3NaF·AlF3(折射率为约1.4)、Na3AlF6(折射率为约1.33)等复合金属化合物。另外，作为中折射率层，可使用Al2O3(折射率为约1.65)、MgO(折射率为约1.63)等金属化合物或者Al-Zr复合氧化物(折射率为约1.7～1.85)等复合金属化合物。进而，作为高折射率层，可使用TiO2(折射率为约2.3)、ZrO2(折射率为约2.05)、Nb2O5(折射率为约2.25)、Ta2O5(折射率为约2.15)、CeO(折射率为约2.15)、Sb2O5、有机处理后的银化合物等金属化合物或者In-Sn复合氧化物(折射率为约1.7～1.85)等复合金属化合物。
这些光学层可使用真空蒸镀法、溅镀法、化学蒸镀法(CVD法)、反应性溅镀法、离子电镀法(ion plating)、电镀法等公知方法来形成。
另外，在形成防反射层时，可用包含上述金属化合物或复合金属化合物的粒子分散于基质中得到的物质来形成层。例如，作为低折射率层，可以使用MgF2、SiO2等低折射微粒分散于紫外线和电子射线固化型树脂和硅氧烷系的基质中得到的物质。低折射微粒为多孔质则折射率变得更低，因此优选。具体例举由分散于基质中的低折射微粒形成的低折射率层的例子的话，可以举出按照使膜厚为0.01～1μm来涂布含有低折射微粒的基质，根据需要，进行干燥处理、紫外线照射处理、电子射线照射处理的方法。而涂布作业的方法，可用习知公开的方法，例如可以使用采用棒、金属棒的方法或者微凹板涂布法、凹板涂布法、模头涂布法、帘式涂布法、模唇涂布法、缝隙涂布法等各种涂布法。
上述防眩光功能层是通过使外光漫反射而使视觉反射率降低，防止闪耀。防眩光功能层，例如通常由包含树脂粘合剂与微粒的层所构成。作为用于构成防眩光功能层的微粒，可以举出二氧化硅、丙烯酸、聚氨酯、密胺等粒径为0.1～10μm左右的微粒等。另外，作为树脂粘合剂，可使用丙烯酸系等熟知。防眩光功能层，例如可以通过涂布含有树脂、粒子、溶剂等的涂布液来形成。作为涂布方法，可使用公知的方法，例如可以使用采用了棒、金属棒的方法或者微凹板涂布法、凹板涂布法、模头涂布法、帘式涂布法、模唇涂布法、缝隙涂布法等各种涂布法的各种涂布方法皆可。另外，防眩光功能层也可以通过对树脂粘合剂层施以压纹整理而形成。其中，通过将上述微粒混入上述硬涂层，或者通过对上述硬涂层表面施以压纹整理，也可以赋予防眩光功能。
上述颜色修正层是用于修正显示色的颜色平衡的层，例如可以举出等离子显示器中，阻隔从氖等射出的波长为580～610nm的橙光的层等。颜色修正层含有树脂粘合剂和/或颜色修正用色素而成。
作为颜色修正层中使用的粘合剂树脂，可以举出丙烯酸系、聚酯系、聚碳酸酯系、聚氨酯系、聚烯烃系、聚酰亚胺系、聚酰胺系、聚苯乙烯系、环烯烃系、聚丙烯酸酯系(ポリァリレ一ト)、聚砜系等树脂。
作为颜色修正用色素，可以根据用途使用各种物质，可以举出花青(聚甲炔)系、醌系、偶氮系、靛蓝系、多烯系、螺环系、卟啉系、酞菁系、萘酞菁系、花青系等色素，但是并非限定于此。另外，就等离子显示器来说，为了阻隔从氖等发出的波长为580～610nm的橙光，可以使用花青系、卟啉系、吡咯甲川系等。
颜色修正层可以通过涂布上述的含有树脂粘合剂和/或颜色修正用色素等的涂布液而形成。作为涂布方法可用公知的方法，例如可以使用采用了棒、金属棒的方法或者微凹板涂布法、凹板涂布法、模头涂布法、帘式涂布法、模唇涂布法、缝隙涂布法等各种涂布法或者压延法、铸造法。
另外，也可以将颜色修正用色素混入所述的硬涂层、防眩光层、防静电层等来使用。从而可以使这些层具有颜色修正功能。另外，在颜色修正层中，也可以同时混入近红外线吸收剂与紫外线吸收剂。
另外，在光学过滤器中，也可设置具有中性灰的ND过滤器功能的层。作为ND滤层，只要是透过率为40～80％左右的层即可，而且可以使用公知材料以及公知方法来形成。在等离子显示器、CRT、萤光显示管、电场放射型显示器这样的使用萤光体的显示装置中，通过在已涂布的萤光体上照射电子射线或紫外线而使萤光体发光，借助透过或反射萤光面的光线来进行显示。一般而言萤光体是白色，反射率高，所以在萤光面上的外光的反射较多。因此，以往的问题是，在使用有萤光体的显示装置中，由于外部光线的射入而显示对比度下降。通过设置ND滤层可以减少该问题。
上述近红外线吸收层，只要是具有近红外线吸收功能，在400～800nm为止的波长区域的透过率高，在800～1200nm的波长区域的透过率低的物质即可。作为近红外线吸收层，可以使用在树脂粘合剂中混入近红外线吸收性色素或颜料的物质，或可以使用In-Sn复合氧化物等近红外线吸收性薄膜。作为这样的近红外线吸收剂，可以举出二亚铵系、酞菁系、二硫醇金属配位化合物系、花青系、金属配位化合物系、金属微粉、金属氧化微粉等，包括树脂在内的组合是任意的，但优选使用在本说明书的上文中作为构成电磁波异蔽性光透过构件的粘着剂中所添加的近红外线吸收物而详细记载的近红外线吸收剂。
作为近红外线吸收层中使用的粘合剂树脂，可以举出丙烯酸系、聚酯系、聚碳酸酯系、聚氨酯系、聚烯烃系、聚酰亚胺系、聚酰胺系、聚苯乙烯系、环烯烃系、聚丙烯酸酯系、聚砜系等树脂。
近红外线吸收层可以通过涂布含有上述材料的涂布液来形成。作为涂布方法，可使用公知的方法，例如可以使用采用了棒、金属棒的方法或者微凹板涂布法、凹板涂布法、模头涂布法、帘式涂布法、模唇涂布法、缝隙涂布法等各种涂布法或者压延法，铸造法。
另外，也可以将近红外线吸收剂混入所述的硬涂层、防眩光层、防静电层等来使用。
进而，需要的话，也可以设置防静电层与紫外线吸收层。这些防静电层与紫外线吸收层中使用的防静电剂、粘合剂树脂等可以使用以往用于形成防静电层与紫外线吸收层的公知的物质，利用公知的方法来形成。也可以将防静电剂与紫外线吸收剂混入所述的硬涂层、防眩光层、颜色修正层、ND滤层、近红外线吸收层等来使用。
光学过滤器有直接粘贴于等离子显示器面板等上的直接粘贴型光学过滤器，以及粘贴于具有高刚性的透明基材而设置于等离子显示器面板等的前面的带透明基材的光学过滤器。本发明的电磁波屏蔽性光透过构件粘贴于根据需要设置有上述1个以上的功能层的直接粘贴型光学过滤器或透明基材。如此形成具有电磁波屏蔽功能的光学过滤器。电磁波屏蔽性光透过构件的粘贴如下进行如上所述，剥掉电磁波屏蔽性光透过构件的剥离膜1、4的一片，使露出的粘着剂层与光学过滤器的设置有上述1个以上功能层的透明基材重合，进行加压。电磁波屏蔽性光透过构件的电磁波屏蔽层向光学过滤器的粘贴，优选直接接触光学过滤器的透明基材来进行粘贴，但也可以粘贴于设置有上述功能层的面上。另外上述功能层也可在电磁波屏蔽层粘贴于光学过滤器基材后再进行设置。
另外，本发明的电磁波屏蔽性光透过构件，优选剥掉1片剥离膜，将露出的粘着层直接粘贴于等离子显示器面板等显示器面板上，作为带电磁波屏蔽的显示器面板来使用。上述所谓等离子显示器面板是指在等离子显示器构件内利用放电现象来发光的发光体单元。
进而，优选在本发明的带电磁波屏蔽的等离子显示器面板等显示器面板上，形成从硬涂层、防反射层、防眩光功能层、颜色修正层、近红外线吸收层等中选出的一个以上的功能层。这些功能层，可以在使用本发明的电磁波屏蔽性光透过构件在显示器面板上设置了电磁波屏蔽层后，进而设置在该层上，或者也可以通过将设置有所述功能层的光学过滤器粘贴于通过本发明而设置于显示器面板上的电磁波屏蔽层上，来进行粘贴。另外，上述功能层也可以层叠于电磁波屏蔽层与等离子显示器面板等显示器面板中间。
以上，关于电磁波屏蔽性光透过构件、光学过滤器，利用本发明的电磁波屏蔽性光透过构件形成电磁波屏蔽层的等离子显示器面板等显示器面板进行了详细说明，以下说明本发明的电磁波屏蔽性光透过构件的制造方法。
本发明的电磁波屏蔽性光透过构件的制造方法的特征为，以任意顺序进行下述工序(1)～(7)，并且至少进行一次活性能量线照射 (1)通过活性能量线粘着力消失型粘着剂粘贴金属箔与基材膜的工序； (2)利用所述金属箔的选择性蚀刻来形成金属网格的工序； (3)所述金属箔或金属网格的表面进行黑化处理的工序； (4)通过粘着剂来粘贴含有基材膜、活性能量线粘着力消失型粘着剂和金属网格而成的层叠体(以下称为附网格粘着片)的金属网格面和转印用支持体的工序； (5)将所述基材膜从所述金属网格剥离的工序； (6)下述(6a)或(6b)的任一项工序 (6a)将所述基材从所述金属网格剥离而产生的金属网格的露出部分与新的剥离膜粘贴的工序； (6b)将所述基材从所述金属网格剥离而产生的金属网格的露出部分与新的剥离膜上涂有粘着剂的层叠体的粘着剂面粘贴的工序； (7)将金属网格埋入粘着剂中的工序。
在本发明，上述工序可以任意顺序进行，但是通常会按照工序(1)、(2)(4)、(5)、(6)、(7)的顺序来进行。另外，工序(3)的金属箔的黑化处理通常在工序(1)、(2)间，另外工序(3)的金属网格的黑化处理通常会在工序(2)、(4)间进行。
本发明的电磁波屏蔽性光透过构件的制造方法中，至少进行一次活性能量线照射。该活性能量线的照射至少包括用于使设置于金属箔与基材膜之间的活性能量线粘着力消失型粘着剂的粘着力变弱，将金属网格从基材膜剥落而进行的照射，包括从包含基材膜、活性能粘着力消失型粘着剂和金属箔的网格形成片的基材膜侧照射活性能量线。对该活性能量线粘着力消失型粘着剂的活性能量线照射可以在基材膜粘贴金属箔后到进行网格剥离为止的任何时间进行，而且照射次数也可以是任意的。另外，活性能量线的照射可与各工序的处理同时进行，也可以作为与各工序不同的另外的工序进行。即，活性能量线的照射可以在工序的各阶段或在转印片粘合前、同时、之后的各工序中进行，该照射也可以是多次。
另外，从基材膜一侧的活性能量线的照射是必须的，但此外也可以从网格一侧进行照射。
作为本发明中所使用的活性能量线，可以举出电子射线、紫外线、放射线等电磁波，本发明中优选紫外线。紫外线照射可以利用金属卤化物灯、高压水银灯、无极电灯、氙灯、半导体激光、Ar激光、脉冲UV灯、发光二极灯等公知的光源来进行。
本发明的活性能量线照射可以进行1次或多次。其累积照射量只要是能使性能线粘着力消失型粘着剂的粘着力下降的照射量即可，并无特别限制，但紫外线的情况下优选为20～3000mJ/cm2，更优选为50～2000mJ/cm2。小于20mJ/cm2的照射量，则通常难以使活性能量线粘着力消失型粘着剂的粘着力消失，超过3000mJ/cm2的照射在经济上不划算。
以下，参照图3～图7来进一步说明各工序。(1)的工序具体来说是使用活性能量线粘着力消失型粘着剂粘贴了金属箔与基材膜的网格形成片的制作工序。
网格形成片10，如图3所示，由基材膜11、活性能量线粘着力消失型粘着剂12、金属膜13层叠而成的层叠体形成。上述用于制作网格形成片10的基材膜11是，通过化学蚀刻由金属箔形成作为电磁波屏蔽性光透过构件的电磁波屏蔽材料的几何图形的金属网格时作为支持体来使用的物质，其可以是挠性的，也可以是非挠性的。该基材膜是在电磁波屏蔽性光透过构件形成工序中可以被任意去除的物质。因此，在化学蚀刻金属箔时，不存在溶解于蚀刻液中妨碍蚀刻等的问题，并且只要是能够透过活性能量线的材料即可，但优选为塑料。作为塑料材料，具体可以举出已经在上述构成电磁波屏蔽性光透过构件的剥离膜的说明中作为构成剥离膜的树脂的例子被举出的树脂等，从价格和处理性来说，优选PET膜。
工序(1)中的活性能量线粘着力消失型粘剂12，是一种通过照射活性能量线而降低粘着力的粘着剂，在形成于基材膜上的活性能量线粘着力消失型粘着剂12上重叠金属箔13，通过加压使金属箔与基材膜粘接。作为活性能量线粘着力消失型粘着剂12，适宜使用含有反应性官能团的弹性聚合物、活性能量线反应性化合物、光聚合引发剂以及固化剂的物质。另外，活性能量线粘着力消失型粘着剂中，可以配合公知的赋予粘着性的树脂(例如松香酯)、无机微粒化合物(例如平均粒径为20μm以下的二氧化硅化合物)、阻聚剂(例如对苯二酚)、防锈剂、增塑剂、紫外线吸收剂等。
作为构成上述活性能量线粘着力消失型粘着剂的有反应性官能团的弹性聚合物，作为优选的物质可以举出丙烯酸系聚合物与聚氨酯系聚合物，另外，作为反应性官能团，可以举出羧基、羟基、酰胺基、缩水甘油基、异氰酸酯基等。
作为上述的丙烯酸系聚合物，例如可以使用(C)具有反应性官能团的单体与其它的(甲基)丙烯酸酯单体的共聚物，(D)具有反应性官能团的单体、其它的(甲基)丙烯酸酯单体和能够与所述单体共聚的其它乙烯基单体的共聚物。这些丙烯酸系聚合物可以用公知的方法合成。丙烯酸系聚合物，为了赋予粘着性，优选其玻璃化转变点为10℃以下。另外，丙烯酸系聚合物的重均分子量(使用凝胶渗透色谱法和标准聚苯乙烯的标准曲线测定的。以下同样)，从粘着力与凝集力的均衡来看，优选为20万～200万，更优选为40～160万。
作为用于构成上述共聚物的具有反应性官能团的单体，可以举出丙烯酸、甲基丙烯酸酸、衣康酸、丙烯酸2-羟基乙酯、甲基丙烯酸2-羟基乙酯、丙烯基酸-4羟基丁酯、丙烯酸酰胺、甲基丙烯酸缩水甘油酯、2-甲基丙烯酰氧基乙基异氰酸酯等。
另外，作为其它的(甲基)丙烯酸酯单体，可以举出丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸丁酯、丙烯酸异丁酯、甲基丙烯酸异丁酯、丙烯酸异丙酯、丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸月桂酯、甲基丙烯酸二甲基氨基甲酯、甲基丙烯酸二甲氨基乙酯等。
作为能够与所述(甲基)丙烯基酯单体共聚的其它的乙烯基单体，可以举出醋酸乙烯基、苯乙烯、α-甲苯乙烯、丙烯腈、乙烯基甲苯等。
另一方面，作为第2粘接或粘着剂所使用的聚氨酯系聚合物，例如可以举出使多元醇与有机多异氰酸酯反应得到的末端羟基的聚氨酯多元醇与有机多异氰酸酯反应得到聚合物。
作为制造上述聚氨酯系聚合物时使用的多元醇，可以举出公知的聚酯多元醇和聚醚多元醇。作为聚酯多元醇的酸成分，可以举出对苯二甲酸、己二酸、壬二酸等；作为二元醇成分，可以举出乙二醇、丙二醇、二甘醇等；作为多元醇成分，可以举出甘油、三羟甲基丙烷、季戊四醇等。作为聚醚多元醇，可以使用聚丙二醇、聚乙二醇、聚四亚甲基二醇等官能团数为2个以上的物质。聚酯多元醇和聚醚多元醇的重均分子量，优选为1000～5000，更优选为2500～3500。重均分子量为1000以下的聚酯多元醇和聚醚多元醇，反应快，容易凝胶化；5000以上的聚酯多元醇和聚醚多元醇，反应性变低，凝集力也变低。使多元醇和有机多异氰酸酯反应时，也可以并用多元胺类。
作为上述有机多异氰酸酯，可以举出公知的芳香族多异氰酸酯、脂肪族多异氰酸酯、芳香脂肪族多异氰酸酯、脂环族多异氰酸酯等。作为芳香族多异氰酸酯，可以举出有1，3-苯二异氰酸酯、4，4-二苯基异氰酸酯、2，4-甲苯二异氰酸酯、2，6-甲苯二异氰酸酯、4，4-二苯基甲烷二异氰酸酯等。作为脂肪族多异氰酸酯，可以举出三亚甲基二异氰酸酯、四亚甲基二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯等。作为芳香脂肪族多异氰酸酯，可以举出ω，ω’-二异氰酸酯-1，3-二甲苯、ω，ω’-二异氰酸酯-1，4-二甲苯、ω，ω’-二异氰酸酯-1，4-二乙基苯等。作为脂肪族多异氰酸酯，可以举出有异佛尔酮二异氰酸酯、1，3-环戊烷二异氰酸酯、1，4-环己烷二异氰酸酯等。上述有机多异氰酸酯中，也可以并用上述有机多异氰酸酯的三羟甲基丙烷加合物、与水反应得到的缩二脲、具有异氰脲酸酯环的三聚物等。
聚氨酯系聚合物的重均分子量，从粘着力和凝集力的平衡点来看，优选5,000～300,000，更优选为10,000～200,000。
进而，作为构成活性能量线粘着力消失型粘着剂的活性能量线反应性化合物，可以举出借助活性能量线照射而进行3维交联的单体和低聚物。优选这些为分子内具有2个以上的丙烯酰基或甲基丙烯酰基的物质。活性能量线反应性化合物的使用量，相对于丙烯酸系聚合物或聚氨酯系聚合物100重量份，优选为20～500重量份，更优选为40～300重量份。小于20重量份时，则活性能量线照射后粘着力的下降可能并不充分，超过500重量份时，可能会发生未反应成分引起的污染。
作为借助上述活性能量线照射而进行3维交联的单体，例如可以举出1，6-己二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯等，但用作本发明中借助上述活性能量线照射而进行3维交联的单体并不限于这些化合物，可以使用借助活性能量线照射而进行3维交联的任何单体。
另外，作为借助上述活性能量线照射而进行3维交联的低聚物，作为优选物质，可以举出聚氨酯丙烯酸酯低聚物。作为聚氨酯丙烯酸酯低聚物，可以使用如下得到的物质使聚醇例如乙二醇、丙二醇、1-6己二醇等与有机多异氰酸酯例如2，4-甲苯二异氰酸酯、2，6-甲苯二异氰酸酯、1，3-苯二甲基二异氰酸酯、1，4-苯二甲基二异氰酸酯、二苯基甲烷4，4-二异氰酸酯等，或这些的改性物或聚合物反应得到末端异氰酸酯预聚物，进而使该末端异氰酸酯预聚物与具有羟基的丙烯酸酯或者甲基丙烯酸酯例如丙烯酸2-羟基乙酯、甲基丙烯酸2-羟基乙酯、聚乙二醇丙烯酸酯、聚乙二醇甲基丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯等反应。另外，还可以举出使末端异氰酸酯预聚合物与三羟甲基丙烷或季戊四醇等含有3～4个官能羟基的化合物反应，增加末端羟基后，再与具有羟基的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯反应而得到的物质，但所述聚氨酯丙烯酸酯低聚物并不限于由这些方法得到的物质，也可以使用以公知的方法合成的任何聚氨酯低聚物。聚氨酯丙烯酸酯低聚物的重均分子量优选为500～30,000，更优选为600～20,000。聚氨酯丙烯酸酯低聚物优选具有2～15个丙烯酰基或甲基丙烯酰基，更优选具有4～15个，特别优选具有6～15个。
另外，作为光聚合引发剂，例如可举出二苯甲酮、苯乙酮、苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻异丙基醚、苯偶姻异丁基醚、苯偶姻安息香酸、苯偶姻安息香酸甲酯、苯偶姻二甲基缩酮、苯乙酮二甲基缩酮、2，4-二乙基噻吨酮、1-羟基环己基苯基酮、苯偶酰二苯基硫化物、偶氮双异丁腈、苯偶酰、二苯偶酰、二乙酰、双咪唑、β-氯蒽醌等，但是并不限定于这些，本发明中也可以使用公知的任何光聚合引发剂。
另外，使用高分子量化光聚合引发剂，对光聚合引发剂来说优选具有对于蚀刻液或碱溶液等药液的耐溶出性。高分子量化光聚合引发剂为重均分子量1000～200万，优选3000～200万，更优选5000～200万，特别优选1万～200万的高分子量化光聚合引发剂。重均分子量1000～200万的高分子量化光聚合引发剂，因为分子量大，没有对药液的溶出。重均分子量小于1000时，可能发生光聚合引发剂溶出于药液的情形，超过200万时从粘度方面来看难以合成。
高分子量化光聚合引发剂为如下得到的光聚合引发剂具有反应性官能团的光聚合引发剂，通过与能够与所述反应性官能团反应的官能团的反应而化学性地结合于低聚物或聚合物而得到；或者具有反应性官能团的光聚合引发剂通过与能够与所述反应性官能团反应的官能团的反应而使其结合得到的单体聚合等，来使其高分子量化。
作为具有反应性官能团的光聚合引发剂中的反应性官能团，可以举出羟基、羧基。作为具有羟基的光聚合引发剂，例如可以举出1-(4-(2-羟基乙氧基)苯基)-2-羟基-2-甲基-1-丙烷-1-酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮等。作为具有羧基的光聚合剂，例如可以举出二苯甲酮-2-羧酸等。具有反应性官能团的光聚合引发剂中，优选为1-(4-(2-羟基乙氧基)苯基)-2-羟基-2-甲基-1-丙烷-1-酮。
作为高分子量化光聚合引发剂的合成方法，例如可以举出以下方法使具有羟基的光聚合引发剂的羟基与多元酸酐(例如均苯四甲酸酐)的2个酸酐环反应，进而，使其残存的2个羧基与双酚A的两末端的缩水甘油基反应，以多阶段进行高分子量化。另外，还可以举出以下方法对于具有2个羟基或2个羧基的光聚合引发剂，使前者与2官能的有机酸(例如己二酸)，后者与2官能的多元醇(例如乙二醇)反应，通过合成聚酯使光聚合引发剂导入聚合物主链。
另外，作为其它的合成方法，可以举出如下方法事前使具有羟基的光聚合引发剂的羟基与具有碳-碳双键和异氰酸酯基团的化合物(例2-甲基丙烯酰氧基异氰酸酯)反应，合成含有光聚合引发剂的单体，将其与其它的单体共聚来合成高分子量化光聚合引发剂的方法；使具有碳-碳双键的酸酐(例如马来酸酐或衣康酸酐等)的酸酐环与具有羟基的光聚合引发剂反应后，与其它的单体共聚的方法；使具有碳-碳双键和羧基的化合物(例如丙烯酸或甲基丙烯酸等)与具有羟基的光聚合引发剂反应后，与其它的单体共聚的方法。另外，可以举出使具有羧基的光聚合引发剂与具有碳-碳双键的环氧化合物(例如甲基丙烯酸缩水甘油酯)反应后，与其它的单体共聚的方法。
作为高分子量化聚合引发剂，使具有反应性官能团的光重合引发剂与具有能够与所述反应性官能团反应的官能团的、重均分子量3000～200万的高分子量化合物反应得到的物质，即将光聚合引发剂接枝于高分子量化合物而得到的物质，因其向蚀刻液等药液的溶出少，因此优选。
作为将光聚合引发剂接枝于高分子量化合物的方法，例如可以举出以下方法使异佛尔酮二异氰酸酯的一个异氰酸酯基与具有羟基的光聚合引发剂反应后，使另一个异氰酸酯基与高分子量化合物侧的羟基反应的方法；使具有羟基的光聚合引发剂与高分子量化合物侧的异氰酸酯基反应的方法；使具有羟基的光聚合引发剂与高分子量化合物侧的酸酐环反应的方法；使具有羧基的光聚合引发剂与高分子量化合物侧的缩水甘油基反应的方法；使具有羧基的光聚合引发剂与高分子量化合物侧的羟基反应的方法；但并不限于这些方法。
接枝有光聚合引发剂的高分子量化合物，优选重均分子量为3000～200万，优选为丙烯酸系聚合物或聚氨酯系聚合物。丙烯酸系聚合物重均分子量优选为3000～200万。重均分子量小于3000时，难以控制合成时的分子量；超过200万时，从粘度方面考虑，难以合成。聚氨酯系聚合物重均分子量优选为2000～20万。重均分子量小于2000时，难以控制合成时的分子量；超过20万时，从粘度方面考虑，难以合成。
本发明的活性能量线粘着力消失型粘着剂中，优选并用光聚合引发剂和增感剂。作为增感剂，可以举出例如三乙醇胺、N-甲基二乙醇胺、N，N-二甲基乙醇胺、N-甲基吗啉等，但是并不限定于此，可以使用公知的任何增感剂。
另外，固化剂是与具有反应性官能团的丙烯酸系聚合物反应而使粘着剂具有凝聚力的物质，可以使用对反应性官能团具有反应性的异氰酸酯系化合物、环氧系化合物、氮杂环丙烷基系化合物等公知的多官能化合物。固化剂的使用量，只要考虑丙烯基单体的种类与粘着力来决定即可，并无特别限定，但相对于丙烯酸系树脂100重量份，优选添加0.1～15重量份，更优选0.1～10重量份。小于0.1重量份则交联度低，凝集力不够；超过15重量份则对被粘着体的粘接力易变小，因此不适宜。
作为上述异氰酸酯化合物，可以举出甲苯二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、间苯二异氰酸酯、苯二甲基二异氰酸酯等二异氰酸酯或者这些的三羟甲基丙烷加合物、与水反应得到的缩二脲、具有异氰脲酸酯环的三聚物等。
另外，作为环氧化合物，可以举出山梨糖醇多缩水甘油醚、聚甘油多缩水甘油醚、季戊四醇多缩水甘油醚、双甘油多缩水甘油醚、甘油多缩水甘油醚、新戊二醇二缩水甘油醚、间苯二酚二缩水甘油醚、间二甲苯二胺四缩水甘油醚及其加氢物等。
作为氮杂环丙烷基系化合物，可以举出N，N’-二苯基甲烷-4，4-二(1-氮杂环丙烷羧酰胺)、三羟甲基丙烷-三-β-氮杂环丙烷基丙酸酯、四羟甲基甲烷-三-β-氮杂环丙烷基丙酸酯、N，N’-甲苯-2，4-二(1-氮杂环丙烷羧酰胺)三亚乙基密胺等。
作为网格形成片10的制造方法，例如可以举出以下方法制作如图4所示的包含基材膜11、活性能量线粘着力消失型粘着剂12、剥离膜6的层叠体7(不合电磁波屏蔽材料。以下称为粘着片)，从该粘着片7将剥离膜6剥下，使活性能量线粘着力消失型粘着剂层面与金属箔重合，进行金属箔的粘合。此方法是，制成粘着片7之后，粘合粘着剂层与金属箔的方法，与金属箔的粘合是在活性能量线粘着力消失型粘着剂中使用的固化剂交联结束后进行的。
例示粘着片7的制作方法，可以举出例如以下二个方法。
第一个方法为，直接将活性能量线粘着力消失型粘着剂涂布于基材膜上，粘合剥离膜的方法。
第二个方法为，将活性能量线粘着力消失型粘着剂涂布于剥离膜上，使其与基材膜粘合的方法。
作为网格形成片10的制造方法，除上述方法之外，还可以举出将活性能量线粘着力消失型粘着剂12涂布于基材膜11的一面，然后粘合金属箔13的方法(涂布时金属箔层压法)。该涂布时金属箔层压法，不使用剥离膜，在活性能量线粘着力消失型粘着剂中使用的固化剂交联开始后即刻进行金属箔的粘贴，因此粘着剂的流动性高，与上述方法相比，与金属箔的密合性高得多。因此，利用微平版印刷法的网格形成工序中，不易发生蚀刻液与抗蚀剂剥离液等药液浸入粘着剂与金属箔的界面而引起的金属箔剥落。另外，这种涂布时金属箔层压法中，不需要后工序的剥离膜6的层压，因此可以简化工序从而降低成本，且由于不使用剥离膜而降低了成本。
涂布时金属箔层压法中，为了使金属箔与粘着剂层能充分紧密粘接，根据需要，可以单独使用加温、加压或真空条件或并用这些条件的2种以上，通过层压平板压制法来进行。
作为活性能量线粘着力消失型粘着剂的涂布方法，有间歇涂布、模唇涂布、帘式涂布、刮刀涂布、凹版涂布、吻式涂布、反向涂布以及微凹版涂布等，但不仅限于此。
活性能量线粘着力消失型粘着剂的厚度优选为0.5μm～50μm左右。粘着剂的厚度若小于0.5μm则无法得到充分的接着性，若超过50μm则在经济上不利。
上述工序(2)具体来说，是通过微平版印刷法在金属箔上形成作为电磁波屏蔽材料的金属网格，进行抗蚀剂的剥离、中和的方法。其中，在金属网格形成片的金属箔上形成几何图形等的网格的方法如上文所述。在该工序中形成有金属网格的金属网格形成片15如图5所示。在图5中，11表示基材膜，12表示活性能量线粘着力消失型粘着剂，3表示作为电磁波屏蔽材料的金属网格。
工序(3)是对金属箔或金属网格实施黑化处理的工序。黑化处理可以按照印刷配线板领域进行的公知方法，使用黑化处理液来实施。工序(3)中，可以在金属箔上面或金属网格上面及侧面做黑化处理。使用铜箔作为金属箔时，黑化处理例如可以是在亚氯酸钠(31g/升)、氢氧化钠(15g/升)，磷酸三钠(12g/升)等的水溶液中，于95℃处理两分钟。但是，使用预先已黑化处理过的金属箔时，工序(3)在工序(1)前进行，因此工序(2)后可以省略工序(3)。
工序(4)，将通过粘着剂2粘贴住的2片剥离膜1、8(以下称为转印片)的一面剥下来，粘贴到网格形成片的金属网格面上的工序。图6表示转印片。转印片9可以通过将粘着剂涂布于剥离膜1上，在该粘着剂2面上粘贴新的剥离膜8来制作。作为涂布粘着剂2于剥离膜1上的方法，可用与活性能量线粘着力消失型粘着剂的涂布方法一样的公知方法。粘着剂是在电磁波屏蔽性光透过构件中说明的粘着剂，如上所述，也可以使用包含分子中具有羧基、羟基、氨基、缩水甘油基、氨基的至少1种以上的反应性官能团的丙烯酸系聚合物，以及能够与上述反应性官能团反应的固化剂的活性能量线固化型粘着剂。
转印片9与形成有金属网格的网格形成片15的贴合如下进行将转印片的一边的剥离膜8剥下，将露出的粘着面与网格形成片15的网格粘贴。另外，粘贴时优选使用层压机。
工序(5)是将上述基材膜从上述金属网格剥离的工序。图7表示剥离金属网格3的过程。在剥离工序前，从基材膜侧照射活性能量线，使活性能性粘着力消失型粘着剂12的粘着力降低。该活性能量线的照射可以在转印片粘贴于金属网格之前进行，也可以在转印片粘贴于金属网格之后进行。通过活性能量线的照射，活性能量线粘着力消失型粘着剂的粘着力充分降低的话，则可以容易地从形成有金属网格上的电磁波屏蔽材料3上将基材膜11与活性能量线粘着力消失型粘着剂12剥下。被剥下的金属网格3，负载于转印片的粘着剂层。剥离金属网格时，以设置于金属网格的几何图形形状的外周的导电线框缘部为基准将基材膜剥离。
工序(6)，将从金属网格剥下基材膜的剥离面与新的剥离膜粘贴的工序(6a)或者与在新的剥离膜上涂布有粘着剂的层叠体的粘着剂面粘贴的工序(6b)。通过工序(6a)粘合的新的剥离膜与形成有金属网格的网格形成片如图8a所示，通过工序(6b)粘合的新的在剥离膜上涂布有粘着剂的层叠体的粘着剂面与形成有金属网格的网格形成片如图9a所示。由此形成在2片剥离膜1、21间夹有作为电磁波屏蔽材料的金属网格3的状态。
以下，将从金属网格剥离基材膜的剥离面与新的剥离膜粘合，将金属网格埋入粘着剂层中的方法称为一层埋入法；将从金属网格剥离基材膜的剥离面与在新的剥离膜上涂布有粘着剂的层叠体的粘着面粘合，将金属网格埋入粘着剂层中的方法称为二层埋入法。二层埋入法中的在剥离膜上涂有粘着剂的层叠体，可以是在剥离膜上涂布有粘着剂的物质，也可以是将转印一面的剥离膜剥落后的物质。一层埋入法或二层埋入法的粘合可以使用所述的任何粘合方法。例如利用加热、加压的方法，滚筒加压法或平板压制法、利用层压机的方法等。
工序(7)是将2片剥离膜间的金属网格埋入粘着剂的工序。作为网格埋入粘着剂中的方法，有上述的一层埋入法与二层埋入法等。通过控制加热温度、加压压力，工序(7)与工序(6)也可以同时进行。一层埋入法的实施状态如图8所示，二层埋入法的实施状态如图9所示。
在图8所表示的一层埋入法中，将新的剥离膜4粘合于网格3转印后的转印片的金属网格面上(图8(a))，并以层压实施加热，加压，使得网格3埋入转印片侧的粘着剂2中(图8(b))。埋入网格时的条件，从使粘着剂流向网格的需要考虑，优选进行加热，加热温度例如优选20～150℃，更优选40～130℃，进一步优选60～120℃。小于20℃加热时，粘着剂的流动性差，超过150℃则可能发生粘着剂变质或过度流动引起的液体流挂。加压优选为1～50kg/cm2，更优选1～30kg/cm2，进一步优选1～20kg/cm2。加压小于1kg/cm2则粘着剂的流动性差，超过50kg/cm2则网格有可能会变形。通过调整加热、加压条件、粘着剂层的膜厚等可以选择图1(a)～(c)的状态。
网格的埋入可以是将网格3完全埋入粘着剂层2中(参照图1(d)，图8(b))，也可以是将网格3的新剥离膜侧的面从粘着剂层2露出(参照图1(a)、图1(b)、图1(c))。使用的转印片的粘着剂层2的厚度比优选厚于网格3的厚度。因为形成网格的金属箔的厚度为0.5～40μm，所以粘着剂层2优选涂布形成1～300μm的厚度，更优选5～200μm，进一步优选5～100μm。厚度小于5μm时则埋入性差，超过300μm则经济方面差。
二层埋入法中，将剥离膜4上形成有粘着剂层2的新的粘着片的粘着面粘贴于转印有网格的转印片的金属网格3面(图9(a))。此时，通过以层压机加热加压，优选在粘合的同时进行网格3的埋入(图9(b))。本方法使用的转印片的粘着剂的厚度为，优选转印片的粘着层2与新的粘着片的粘着层2的厚度合计厚于网格的厚度。厚度合计优选为1～300μm，更优选为5～200μm，特别优选为5～100μm。本方法是将网格完全埋入粘着剂中。另外，二层埋入法中，负载有金属网格的粘着剂层与构成新的粘着片的粘着剂层的粘着剂可以相同也可以不同。
作为其它方法，可以举出在一层埋入法之后，将第二剥离膜4剥下，进一步将剥离膜上涂有粘着剂的第3粘着片的粘着面粘合上。按照此方法，作为电磁波屏蔽材料的金属网格被进一步埋入粘着剂中。
不论是使用一层埋入法或二层埋入法，都可以将粘着剂分开使用。在一层埋入法里，优选使用活性能量线固化型粘着剂。另外，在二层埋入法里，优选使用上述任何粘着剂作为涂布于第一层剥离膜的粘着剂，使用活性能量线固化型粘着剂作为第2剥离膜的粘着剂。
根据工序(7)的电磁波屏蔽层的埋入程度不同，电磁波屏蔽材料被粘着剂覆盖的状态不同。呈现电磁波屏蔽材料被粘着剂覆盖的状态或电磁波屏蔽材料的一部分从粘着剂中露出的状态。不管是哪种状态都可以发挥本发明的效果。
如以上说明，利用工序(1)～(7)，可以制造本发明的电磁波屏蔽性光透过构件。被制造的电磁波屏蔽性光透过构件，在2片剥离膜间，含有粘着剂和电磁波屏蔽材料。
本发明的电磁波屏蔽性光透过构件，优选用于显示器，尤其是等离子显示器的电磁波屏蔽用途。电磁波屏蔽性光透过构件，优选一面粘贴于透明基材或等离子显示器一侧，另一面则粘贴于形成了硬涂层或近红外线吸收层的膜上。另外，代替透明材料，优选粘贴于形成了上述硬涂层等的膜。
实施例 以下，是基于本发明的实施例所做的具体说明，本发明并不仅限于这些实施例。其中，实施例及比较例中的「％」和「份」，只要没有特别的限制，则各自表示「重量％」与「重量份」。另外，重均分子量是利用GPC(凝胶渗透色谱法)测定聚苯乙烯换算得到的值。
<附网格粘着片制作例1> 使用包含丙烯酸丁酯85.3重量份、丙烯酸甲基15份、丙烯酸4份、丙烯酸2-羟基乙基0.7份、偶氮双异丁腈0.03份、丙酮190份、甲苯110份的原料，在氮气氛围下加热回流使其反应8小时，得到含有反应性官能团的丙烯酸系聚合物(重均分子量110万)的溶液(不挥发成分25重量％)。在合成的具有反应性官能团的弹性聚合物溶液100份中，配合甲苯二异氰酸酯的加合物(住化拜尔聚氨酯(バィェルゥレタン)制固化剂「斯密吉耳L-75(スミジュ一ルL-75)」)0.7份、2-甲基-1-((4-甲硫基)苯基)-2-吗啉代丙烷-1-酮(筑波专业化学制光聚合引发剂「ィルガキュァ907」)0.75份、6官能的聚氨酯丙烯酸酯低聚物(ダィセルUCB制「 Ebecryl 1290K 」，重均分子量1000)15份，得到活性能线粘着力消失型粘着剂。
接着，在厚度100μm的基材用PET膜(東洋纺织制「A-5000」)的单面上，以0.2μm厚度(干燥膜厚)涂布聚酯聚氨酯系锚定涂层剂(anchor coating)(东洋モ一トン制“AD-335AE”)，然后在其上涂布上述的活性能量线粘着力消失型粘着剂，使其干燥后的厚度为10μm，粘合剥离膜(东洋纺制“E7002厚度25μm”，以下使用的剥离膜也是该膜)，得到粘着片。得到的粘着片在40℃的氛围下进行三天的蚀刻。
蚀刻后，剥落剥离膜，利用层压机，在温度80℃、压力0.4MPa/cm、粘贴速度0.8m/min的条件下，将厚度10μm的电解铜箔(三井金属制·NS-VLP)层压到粘着片上，得到铜箔层压体(网格形成片)。
通过利用了化学蚀刻的微平版印刷刻法(粘贴抗蚀剂膜→曝光→显像→化学蚀刻→剥离抗蚀剂膜→中和)，在铜箔层压体上形成线条宽度12μm、线条间距300μm的网格，之后，进行铜表面的黑化处理，得到附网格粘着片。
<附网格粘着片制作例2> 在厚度50μm的基材用PET膜(东洋纺织制「A-4100」)的易粘接面上，涂布在附网格粘着片制作例1中所制作的活性能量线粘着力消失型粘着剂，使其干燥后的厚度为10μm，之后经与附网格粘着片制作例1一样的工序得到粘着片。
将如此得到的粘着片的剥离膜剥下，利用层压机，以温度23℃、压力0.05MPa/cm2的条件，将厚度10μm的电解铜箔(三井金属制·NS-VLP)层压在粘着片的粘着剂面上，得到铜箔层压体。得到的铜箔层压体在40℃的氛围下，进行3天的蚀刻。
通过使用了化学蚀刻的微平版印刷法，在铜箔层压体上形成线条宽度10μm、线条间距300μm的网格，之后，与附网格粘着片制作例1同样进行黑化处理，得到附网格粘着片。
<附网格粘着片制作例3> 使用包含甲基丙烯酸甲酯88份、丙烯酸乙酯9份、丙烯酰胺3份、偶氮双异丁腈0.44份、甲苯260份的原料，在氮环境下加热回流使其反应3小时后，利用甲醇使其再沉淀，过滤得到的聚合物，减压干燥，得到重均分子量为70万的粘接剂组合物。在得到的粘接剂组合物100份中，配合甲苯450份、醋酸乙酯10份，得到粘接剂溶液。涂布粘接剂溶液于厚度100μm的基材用PET膜(东洋纺制「A-4300」)上，使其干燥后的厚度达20μm，接着利用层压机，以温度180℃、压力0.4MPa/cm2的条件，将厚度10μm的电解铜箔(NS-VLP)层压于粘接面，得到铜箔层压体。
通过利用了化学蚀刻的微平版印刷法，在铜箔层压体上形成线条宽度10μm，线条间距300μm的网格，其后，实施与附网格粘着片制作例1同样的黑化处理，得到附网格接着片。
<转印片制作例1> 使用丙烯酸丁酯90份、丙烯酸甲酯10份、甲基丙烯酸2羟基乙酯5份、偶氮双异丁腈0.04份、醋酸乙酯186份的原料，在氮气氛围环境下加热回流使其反应7小时，得到具有反应性官能团的丙烯酸系聚合物(重均分子量55万)的溶液(不挥发成分35重量％)。
在得到的具有反应性官能团的丙烯酸系聚合物的溶液100重量份中，配合“斯密吉耳L-75”0.9份，按照使干燥后的厚度为18μm来涂布在剥离膜上，再将新的剥离膜粘贴到此粘着层上，得到转印片。
<转印片制作例2> 除了按照使转印片干燥后的厚度达到10μm来进行涂布以外，与转印片制作例1同样的方法制得转印片。
<转印片制作例3> 除了按照使转印片干燥后的厚度达到40μm来进行涂布以外，与转印片制作例1同样的方法也可以制得转印片。
<转印片制作例4> 使用包含丙烯酸丁酯79份、丙烯酸甲酯20份、丙烯酸2羟基乙酯1.0份、偶氮双异丁腈0.02份、丙酮190份、甲苯210份的原料，在氮气氛围下加热回流使其反应8小时，得到重均分子量150万的丙烯酸系聚合物的溶液(不挥发成分20重量％)。
在得到的丙烯酸系聚合物溶液100份中，配额三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯(共荣社化学制活性能量线反应性化合物「ラィトェステルTMP」)1份、1-羟基环己基-苯基-酮(筑波专业化学制光聚合引发剂“ィルガキュァ184”)0.05份、对苯二酚(精工化学制阻聚剂)0.001份，按照使干燥后的厚度达到16μm来进行涂布，再将新的剥离膜粘贴在该粘着层上，得到使用了活性能量线固化型粘着剂的转印片。
<转印片制作例5> 在转印片制作例1合成的具有反应性官能团的丙烯酸系聚合物的溶液(不挥发成分35％)100份中，配合“斯密吉耳L-75”0.9份、作为近红外线吸收物的二亚铵系化合物(日本化药制「K-1032」)1.0份和酞菁系化合物(日本化药制「EX COLOR IR-14」)0.5份，得到活性能量线固化型粘着剂，将该活性能量线固化型粘着剂涂布于剥离膜，除此以外，以与转印片制作例1同样的方法制作转印片。
<转印片制作例6> 在转印片制作例4合成的具有反应性官能团的丙烯酸系聚合物的溶液(不挥发成分35％)100份中，配合“ラィトェステルTMP”1份、“ィルガキュァ 184”0.05份、对苯二酚0.001份和作为近红外线吸收物的在阴离子成分中具有磺酰亚胺的二亚铵系化合物(日本Carlit Co.制“CIR-RL”)1.0份和酞菁系化合物(日本化药制“EX COLOR IR-14”)0.5份，得到粘着剂，将该粘着剂涂布于剥离膜，除此以外，以与转印片制作例4同样的方式制作转印片。
(实施例1) 剥落在转印片制作例1中制作的转印片的一侧的剥离膜，将其粘贴于附网格粘着片制作例1制作的附网格粘着片的金属网格侧。以金属卤化物灯120W/cm，从该层叠体的附网格粘着片侧，照射累计光量700mJ/cm2的紫外线，使活性能量线粘着力消失型粘着剂的粘着力消失，接着剥离粘着片。由此，金属网格被转印到转印片的粘着层上。接着，向转印片上的网格粘合剥离膜，再利用层压机，以温度80℃，压力5kg/cm2的条件进行按压，使网格埋入转印片的粘着层里，制成电磁波屏蔽性光透过构件。进而，剥落电磁波屏蔽性光透过构件一侧的剥离膜，在其上粘贴厚度2.5mm的半强化玻璃板，得到带透明基材的电磁波屏蔽性光透过构件。
(实施例2) 剥落在转印片制作例2中制作的转印片的一侧的剥离膜，将其粘贴于附网格粘着片制作例2制作的附网格粘着片的金属网格侧。以金属卤化物灯120W，从该层叠体的附网格粘着片侧照射累计光量700mJ/cm2的紫外线，使活性能量线粘着力消失型粘着剂的粘着力消失，接着剥离粘着片。由此，网格被转印到转印片的粘着层上。对于转印片上的网格，利用层压法以温度80℃、压力5kg/cm2的条件按压转印片制作例3制作的转印片的单侧剥离膜剥离后得到的粘着层，使网格埋入转印片的粘着层里，制成电磁波屏蔽性光透过构件。另外，剥落电磁波屏蔽性光透过构件一侧的剥离膜，在其上粘贴厚度2.5mm的半强化玻璃板，得到带透明基材的电磁波屏蔽性光透过构件。
(实施例3) 以金属卤化物灯120W，从附网格粘着片制作例2制作的附网格粘着片的基材用PET膜侧照射累计光量700mJ/cm2的紫外线，使活性能量线粘着力消失型粘着剂的粘着力消失。剥离转印片制作例4制作的转印片的单侧的剥离膜，使其与网格粘合，进行粘着片的剥离。由此，网格被转印到转印片的粘着层上。接着，向转印片上的网格粘贴剥离膜，进而利用层压机，以温度80℃、压力5kg/cm2的条件进行按压，使网格埋入转印片后，使用金属卤化物灯120W，照射累计光量400mJ/cm2的紫外线，使活性能量线固化型粘着剂固化，赋予凝集力，制成电磁波屏蔽性光透过构件。进而，剥落电磁波屏蔽光透过构件的一侧的剥离膜，将其与2.5mm厚的半强化玻璃板粘贴，形成带透明基材的电磁波屏蔽性光透过构件。
(实施例4) 除了使用转印片制作例5制作的转印片来代替实施例1中使用的转印片制作例1制作的转印片以外，与实施例1同样进行，得到电磁波屏蔽性光透过构件，及附透明基材电磁波屏蔽性光透过构件。
(实施例5) ，除了使用转印片制作例6制作的转印片来代替实施例3中使用的转印片(转印片制作例4制作的转印片)以外，与实施例3同样进行，得到电磁波屏蔽性光透过构件，及附透明基材电磁波屏蔽性光透过构件。
(实施例6) 剥落实施例3的电磁波屏蔽性光透过构件一侧的剥离膜，粘贴于等离子显示器面板，得到附电磁波屏蔽的等离子显示器面板。
(比较例1) 将转印片制作例1制作的转印片的单面的剥离膜剥离后，粘贴于附网格粘着片制作例3制作的附网格粘接片的基材用PET膜面上。进而，剥离新的转印片制作例1制作的转印片的单面的剥离膜，将该转印片的粘着层粘贴于网格侧，使用层压机以温度80℃、压力5kg/cm2的条件将网格埋入粘着层，制成电磁波屏蔽性光透过构件。进而，剥离PET膜侧的转印片(转印片制作例1制作的转印片)的剥离膜，粘贴2.5mm厚的半强化玻璃板，得到附透明基材的电磁波屏蔽性光透过构件。
(特性的试验) 测定了如以上方法得到的电磁波屏蔽性光透过构件的粘着力、电磁波屏蔽性、可见光透过率、成品率及附透明基材的电磁波屏蔽性光透过构件的厚度。测定结果如表1所示。
[粘着力] 利用拉伸试验机(Tester产业制“TE-503”)，及使用JIS Z0237的規定方法(宽25mm，剥离角180°，剥离速度300mm/min)，对作为被粘附体的3mm丙烯酸系板(クラレ制“Como Glass”)来测定。其中，因比较例1使用了粘接剂，因此将被粘附体被热压后的数值作为粘着力。
[电磁波屏蔽性] 使用光谱分析仪(ァドバンテスト制“MS2601B”)、标准信号发生器(ァドバンテスト制“MG3602B”)、测定用(ァドバンテスト制“MA8602B”)，在10MHz～1GHz的频率范围内，测定100MHz～1GHz的频率范围的电磁波屏蔽性。将100MHz与1GHz的数值记为其代表值。
[可见光透过率] 使用分光光度计(日本分光制「V-570」)测定400nm～700nm范围间的透过率平均值。
[电磁波屏蔽构件的成品率] 制造42英时的电磁波屏蔽构件100片，调查成品率。
(A)因基材膜受损而报废的片数电磁波屏蔽性光透过构件制造后，利用目测观察基材用PET膜表面。可以确认在通过生产线的辊传送产生伤痕的材料不能用于显示器，因此报废。其中，使用活性能量线粘着力消失型粘着剂制造的电磁波屏蔽性光透过构件，即使在形成网格时发生对基材用PET膜损伤的情况下，但因事后剥离，因此该损伤引起的报废为0片。
(B)网格开口处异物附着引起的报废片数电磁波屏蔽性光透过构件制造后，用10倍率的放大镜观察网格部以外的被蚀刻部(开口部)的异物附着的全部数量，电磁波屏蔽性光透过构件的开口部若发现1个以上的异物附着就不能用于显示器，因此报废。其中，使用活性能量线粘着力消失型粘着剂制造的电磁波屏蔽性光透过构件，即使被确认开口部有异物，因形成网格后剥离活性能量线粘着力消失型粘着剂，因此没有异物残存，报废0片。
根据以上的(A)与(B)的报废片数的合计，计算出相对于制造的电磁波屏蔽构件100片的成品率。
[附透明基材的电磁波屏蔽性光透过构件的厚度] 利用卡尺计量每一个连同剥离膜的粘贴于半强化玻璃板上的电磁波屏蔽性光透过构件的厚度，扣掉剥离膜的厚度，记为厚度。但是，因为实施例6是直接粘贴在等离子显示器面板上，所以无法与其它的例子作单纯的比较。因此，省略实施例6。
[表1] 如表1所示，由附网格粘着片制作例3制作的附网格粘接片来制作的比较例1的电磁波屏蔽性光透过构件，其基材用PET膜的损伤与网格开口部的异物附着会造成可见光透过率降低，造成透明性低。由所述的原因，成品率也降低。
另一方面，本发明构成的电磁波屏蔽性光透过构件，因为没有制造时的基材用PET膜的损伤或网格开口部的异物附着，因此不仅可见光透过率高，成品率也高。这是由于，在两片剥离膜之间适当地含有粘着剂与电磁波屏蔽层，因此既可以防止电磁波屏蔽的损伤又可防止网格开口部的异物附着。
利用本发明的电磁波屏蔽性光透过构件，可以得到透明性优异的电磁波屏蔽。进而，本发明的电磁波屏蔽性光透过构件因为不使用基材膜，所以有利于等离子显示器的薄型化。
权利要求
1.一种电磁波屏蔽性光透过构件，其特征在于，在该两片剥离膜之间，含有粘着剂和电磁波屏蔽材料。
2.根据权利要求1所述的电磁波屏蔽性光透过构件，其中，电磁波屏蔽材料被粘着剂所覆盖。
3.根据权利要求1所述的电磁波屏蔽性光透过构件，其中，电磁波屏蔽材料的至少一部分从粘着剂中露出。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的电磁波屏蔽性光透过构件，其中，粘着剂为活性能量线固化型粘着剂。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的电磁波屏蔽性光透过构件，其中，粘着剂含有近红外线吸收物或颜色修正物。
6.一种光学过滤器，其特征在于，从权利要求1～5中任一项所述的电磁波屏蔽性光透过构件上至少剥离1片剥离膜，将露出的粘着剂粘贴在透明基材上而成。
7.根据权利要求6所述的光学过滤器，其中，透明基材包含从防反射层、硬膜防止层、防眩光功能层、颜色修正层以及近红外线吸收层中选出的1个以上的层。
8.根据权利要求6所述的光学过滤器，其中，在透明基材上，进一步形成从防反射层、硬膜防止层、防眩光功能层、颜色修正层以及近红外线吸收层中选出的1个以上的层。
9.根据权利要求6～8中任一项所述的光学过滤器，其中，光学过滤器是等离子显示器面板用光学过滤器。
10.一种等离子显示器面板，其特征在于，从权利要求1～5中任一项所述的电磁波屏蔽性光透过构件上至少剥离1片剥离膜，粘贴露出的粘着剂而成。
11.一种等离子显示器面板，其特征在于，安装有权利要求6～8中任一项所述的光学过滤器。
12.一种电磁波屏蔽性光透过构件的制造方法，其特征在于，以任意顺序进行下述的工序(1)～(7)，并且至少进行一次活性能量线照射，
(1)通过活性能量线粘着力消失型粘着剂粘贴金属箔与基材膜的工序；
(2)利用所述金属箔的选择性蚀刻来形成金属网格的工序；
(3)所述金属箔或金属网格的表面进行黑化处理的工序；
(4)通过粘着剂来粘贴含有基材膜、活性能量线粘着力消失型粘着剂和金属网格而成的层叠体的金属网格面和转印用支持体的工序；
(5)将所述基材膜从所述金属网格剥离的工序；
(6a)将所述基材从所述金属网格剥离而产生的金属网格的露出部分与新的剥离膜粘贴的工序；
(7)将金属网格埋入粘着剂中的工序。
13.一种电磁波屏蔽性光透过构件的制造方法，其特征在于，以任意顺序进行下述的工序(1)～(7)，并且至少进行一次活性能量线照射，
(1)通过活性能量线粘着力消失型粘着剂粘贴金属箔与基材膜的工序；
(2)利用所述金属箔所选择的蚀刻来形成金属网格的工序；
(3)所述金属箔或金属网格的表面进行黑化处理的工序；
(4)通过粘着剂来粘贴含有基材膜、活性能量线粘着力消失型粘着剂和金属网格而成的层叠体的金属网格面和转印用支持体的工序；
(5)将所述基材从所述金属网格剥离的工序；
(6b)将所述基材从所述金属网格剥离而产生的金属网格的露出部分与新的剥离膜上涂有粘着剂的层叠体的粘着剂面粘贴的工序；
(7)将金属网格埋入粘着剂中的工序。
全文摘要
本发明提供一种在2片剥离膜(1)、(4)间含有粘着剂(2)与电磁波屏蔽材料(3)的电磁波屏蔽性光透过构件，将此电磁波屏蔽性光透过构件的一侧的剥离膜剥下，粘贴到光学过滤器或等离子显示器面板上，可得到具有透明性优异的电磁波屏蔽层的光学过滤器或等离子显示器面板。
文档编号H05K9/00GK101194544SQ200680019369
公开日2008年6月4日 申请日期2006年6月1日 优先权日2005年6月2日
发明者薄井慎一, 上田幸弘, 町田敏则, 中村尚稔, 加藤茂干, 德留一人 申请人:凸版印刷株式会社