发光装置的制作方法

专利名称：发光装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及发光装置。
背景技术：
有机电致发光元件(以下有时称为有机EL元件。)包含由阳极和阴极构成的一对电极和在该电极间设置的发光层而构成。如果向该有机EL元件施加电压，从阳极注入空穴，同时从阴极注入电子，注入的空穴和电子在发光层中结合而发光。有机EL元件具有能够采用涂布法简易地形成在电极间设置的发光层等规定的层的优点。例如通过采用规定的涂布法将包含形成发光层的材料的墨液(ink)成膜，进而将其固化，能够形成发光层。作为涂布法，由于间歇时间(tact time)短，喷嘴的孔眼阻塞少等，研究了喷嘴印刷法。喷嘴印刷法是通过边将液柱状的墨液从喷嘴连续地喷出，边使该喷嘴移动，从而连续地将墨液涂布的方法。对于采用喷嘴印刷法形成发光层的方法，参照图4、图5进行说明。图4是为了形成有机EL元件以往使用的图案涂布用的基板1的平面图。图5是从图4的切剖面线V-V 观察的图案涂布用的基板1的剖面图。有机EL元件例如作为显示装置的光源使用。在显示装置中将多个有机EL元件设置在支撑基板3上。如图4、图5中所示，在支撑基板3上设置了有机EL元件的一对电极中的一个电极 4、将各有机EL元件电绝缘的绝缘膜5等。进而，在支撑基板3上设置了采用涂布法形成有机EL元件时用于将涂布液收容在规定的位置的隔壁2。该隔壁2具有将设置多个有机EL 元件的区域包围的外周部2a、在由外周部加包围的区域内配置为条带状、一端和另一端分别与外周部加连接的多根间隔部2b。有机EL元件在显示装置中配置为矩阵状。具体而言，配置在彼此相邻的各间隔部 2b间，在各间隔部2b间沿间隔部2b的长度方向离散地配置。在这样的图案涂布用的基板1上形成发光层时，首先，从喷嘴印刷装置的喷嘴，边将含形成发光层的材料的墨液以液柱状喷出，边沿间隔部2b间扫描喷嘴，在间隔部2b间选择性地供给墨液。然后，通过将供给的墨液固化，形成发光层(例如参照专利文献1)。现有技术文献专利文献专利文献1 特开2002-75640号公报

发明内容
发明要解决的课题图6、图7是采用喷嘴印刷法供给墨液后的以往的图案涂布用的基板1的平面图， 对墨液(电致发光层EL层35)施以影线。对于喷嘴印刷法，由于在不停止墨液的喷出的情况下，采用所谓一笔书写供给墨液，因此在应供给墨液的区域以外也供给墨液。具体而言， 图6、图7中，在隔壁2的外周部加上也涂布墨液。在隔壁2的外周部加上涂布的墨液在外周部加上润湿扩展，因此有时在相邻的列，涂布的墨液(EL层35)之间接触(参照图7)， 还有时其向间隔部2b间逆流。这样，例如相邻列的墨液的种类不同的情况下产生混色的问题。此外，由于逆流的墨液，有时间隔部2b间的长度方向的两端部的发光层厚膜化。因此，本发明的目的在于提供采用涂布法选择性地供给墨液时，具有能够防止在应供给墨液的区域以外涂布的墨液向应供给墨液的区域逆流，同时能够防止墨液混合的结构的发光装置。用于解决课题的手段本发光装置，是具有支撑基板、在上述支撑基板上设置的多个有机电致发光元件和将上述多个有机电致发光元件分隔的隔壁的发光装置，上述隔壁具有以将设置上述多个有机电致发光元件的区域包围的方式配置的外周部和在被上述外周部包围的区域中配置成条状、长度方向的一端和另一端分别与上述外周部连接的多根间隔部，上述有机电致发光元件配置在彼此相邻的间隔部间，在上述外周部的、上述间隔部的长度方向的延长线上设置有朝向上述支撑基板的凹陷部。此外，上述凹陷部的底面优选由相对于苯甲醚的接触角小于30°的材料构成。此外，上述有机电致发光元件可具有一对电极，该发光装置可在上述凹陷部的底面上还具有由与上述一对电极中的靠近上述支撑基板配置的一方的电极相同的材料构成的虚设电极，上述凹陷部以到达上述虚设电极表面的方式设置。上述一方的电极和上述虚设电极能够采用涂布法形成。此外，上述一方的电极可在显示光透射性的膜主体中配置具有导电性的丝状的导电体而构成。此外，本发光装置，可还具有将上述多个有机电致发光元件分别电绝缘的绝缘膜、 由与该绝缘膜相同的材料构成的虚设绝缘膜，上述绝缘膜设置在上述隔壁和上述支撑基板之间，上述虚设绝缘膜设置在上述凹陷部的底面上，上述凹陷部到达上述虚设绝缘膜表面的方式设置。发明的效果根据本发明，能够提供在采用涂布法选择性地供给墨液时，具有能够防止在应供给墨液的区域以外涂布的墨液向应供给墨液的区域逆流，同时能够防止墨液混合的结构的发光装置。


图1为本发明的发光装置11的平面图。图2为发光装置11的端面图。图3为涂布了墨液的状态的支撑基板21的平面图。图4是为了形成有机EL元件而使用的以往的图案涂布用的基板1的平面图。图5为从图4的切剖面线V-V观察的图案涂布用的基板1的剖面图。图6为采用喷嘴印刷法供给墨液后的以往的图案涂布用的基板1的平面图。图7为采用喷嘴印刷法供给墨液后的以往的图案涂布用的基板1的平面图。
图8为发光装置11的立体图。图9为发光层形成前的发光装置11的立体图。图10为用于对在基材上涂布的苯甲醚的接触角θ进行说明的图。图11为有机EL元件31的剖面图。图12为有机EL元件31的剖面图。图13为有机EL元件31的剖面图。图14为有机EL元件31的剖面图。图15为有机EL元件31的部分剖面图。图16为有机EL元件31的部分剖面图。图17为有机EL元件31的部分剖面图。图18为有机EL元件31的部分剖面图。图19为导电性树脂电极的立体图。图20为发光层形成前的发光装置11的立体图。图21为使用了虚设绝缘膜的发光装置11的立体图。图22为使用了虚设绝缘膜的发光层形成前的发光装置11的立体图。图23为使用了具有开口的凹部的发光装置11的立体图。图M为使用了具有开口的凹部的发光层形成前的发光装置11的立体图。
具体实施例方式本发明的发光装置具有支撑基板21、在支撑基板21上设置的多个有机EL元件31 和将多个有机EL元件31分隔的隔壁41。隔壁41具有以将设置上述多个有机EL元件的区域包围的方式配置的外周部42 和在由外周部42包围的区域中配置成条带状、一端和另一端分别与外周部42连接的多根间隔部43。此外，将有机EL元件配置在彼此相邻的间隔部43间。而且在外周部42的、间隔部(条带部)43的长度方向Y的延长线上，即间隔部43的一端和另一端，分别设置了朝向支撑基板21的凹陷部44。〈发光装置的构成〉首先，对于发光装置的构成，参照图1、图2进行说明。图1是本发明的发光装置 11的平面图，图2是发光装置11的端面图。图2(A)放大表示将图1中所示的发光装置11 用与行方向X垂直的平面切断(图1的II(A)-II(A)箭头线剖面)时的、发光装置11的端部的端面，图2(B)表示将图1中所示的发光装置11用与列方向Y垂直的平面切断的端面 (图1的II (B)-II⑶箭头线剖面)。不过，图2中，除了下侧的电极32，有机EL元件的记载省略。此外，图8是将图1中所示的发光装置进行部分分解所示的发光装置的立体图，图 9是图8中所示的发光装置中电致发光层(EL层)35的形成前的发光装置的立体图。以下作为搭载了多个有机EL元件的发光装置11的一例，对有源矩阵驱动方式的显示装置进行说明。需要说明的是，本发明不限于有源矩阵驱动方式，例如也可应用于无源矩阵驱动方式的显示装置，也可应用于这些显示装置以外的规定的发光装置。在支撑基板21上多个有机EL元件31设置为矩阵状。多个有机EL元件31，具体而言，在支撑基板21上在行方向X上相隔等间隔，并在列方向Y上相隔等间隔，各自离散地配置。行方向X和列方向Y是彼此垂直的方向，同时是与支撑基板21的厚度方向Z垂直的方向。需要说明的是，通常的显示装置中设置多个有机EL元件，但图1中为了使理解容易， 示出了 20个有机EL元件排列为4行4列的矩阵状的发光装置。此外，图2中，关于有机EL 元件，只示出一对电极中的一方的电极，对于其他的构成没有图示。即，在表示剖面构成的图2 (A)和图2 (B)中，除了一方的电极32，没有图示有机EL元件31。此外，图1中，在有机 EL元件31的发光层上以将基板几乎全面覆盖的方式设置了另一方的电极33。在支撑基板21上还设置了将有机EL元件31分隔的隔壁41。隔壁41具有以将设置多个有机EL元件31的区域包围的方式配置的外周部42和在由该外周部42包围的区域中配置为条状的多根间隔部43。间隔部43的长度方向的一端和另一端分别与外周部42 连接。外周部42和间隔部43被一体地形成。本实施方式中，隔壁41的外周部42构成大致矩形的框体。需要说明的是，外周部 42只要是将设置多个有机EL元件31的区域包围的形状即可，可以不是大致矩形状的框体。多个间隔部43，在本实施方式中使长度方向与列方向Y—致而分别配置，各自在行方向X上相隔等间隔而配置。本实施方式中，由于间隔部43的长度方向与列方向Y — 致，因此以下有时将间隔部43的长度方向称为列方向Y。为了将各有机EL元件31分隔而设置该间隔部43。各有机EL元件31设置在彼此相邻的间隔部43间。需要说明的是，由设置在行方向X的一端的间隔部43和外周部42构成的凹部以及由在行方向X的另一端设置的间隔部 43和外周部42构成的凹部在本说明书中也包含在间隔部43间。本实施方式中各有机EL 元件31在各间隔部43间，沿列方向Y相隔等间隔而配置。在上述外周部42的列方向Y(间隔部长度方向)的一端和另一端，设置了朝向上述支撑基板的凹陷部44。优选地，有机EL元件31，如后所述具有一对电极，发光装置11在上述凹陷部44的底面上还具有由与一对电极32中的靠近上述支撑基板21配置的一方的电极32相同的材料构成的虚设电极45，并且上述凹陷部44以到达上述虚设电极45表面的方式设置。需要说明的是，在外周部42的列方向Y(间隔部长度方向)的一端和另一端，可形成朝向支撑基板21的台阶高差，凹陷部44也可不形成至虚设电极45。此外，在没有设置虚设电极45的方式中，凹陷部44可形成至支撑基板21。需要说明的是，虚设电极45在图1中以在行方向 X上相连接的方式设置，但也可与一方的电极32同样地，在行方向X上离散地设置。此外， 虚设电极45并不限于与一方的电极32相同的材料，也可由显示亲液性的材料构成，例如可采用与后述的绝缘膜相同的材料形成。凹陷部44的底部，为了防止在其底部涂布的墨液向间隔部43间逆流，优选在底部墨液润湿扩展，因此，凹陷部44的底部优选与隔壁相比显示亲液性。图10为使用了虚设电极45作为凹陷部44的底部的情况下表示墨液中所含的苯甲醚AN和底部的接触的样态的图。具体而言，凹陷部44的底部优选相对于苯甲醚的接触角θ小于30°。设置虚设电极 45，并且以凹陷部44到达上述虚设电极45表面的方式设置的情况下，凹陷部44的底部相当于虚设电极45的表面。将形成EL层(有机层)35的墨液材料溶解的溶剂的主要成分为苯甲醚，使用接触角θ可将苯甲醚的接触面的润湿性数值化。该接触角θ越小，润湿性越高。接触角θ如图10中所示，是电极表面和沿与苯甲醚的最外侧部分的接触位置的苯甲醚的外表面的切线所成的角度。显示导电性的一对电极中的一方的电极32通常与隔壁相比显示亲液性，因此用与这样的材料相同的材料形成虚设电极45的情况下，能够在与一方的电极32相同的工序中制作显示亲液性的虚设电极45。因此，在与用于形成没有设置虚设电极的发光装置的工序数相比，工序数没有增加的情况下，能够制作显示亲液性的虚设电极45。有机EL元件含有一对电极和在该电极间设置的发光层而构成。一对电极中的在支撑基板21侧配置的一方的电极32设置在每个有机EL元件中，在支撑基板21上在行方向X上相隔等间隔，同时在列方向Y上相隔等间隔各自离散地配置。本实施方式中，一方的电极32为板状，俯视为大致矩形。在形成了一方的电极32的支撑基板21上，根据需要设置具有电绝缘性的绝缘膜 24。在该绝缘膜M，穿设一方的电极32的表面分别露出的开口观。绝缘膜M将一方的电极32的周缘部覆盖，同时遍及一方的电极32间连续地形成，设置为格子状。在形成了各开口观的区域中，分别形成作为所谓像素相互独立地发光的有机EL元件。利用该绝缘膜M 将有机EL元件31相互电绝缘。构成前述的隔壁41的间隔部43与以格子状形成的绝缘膜 24相接，设置在该绝缘膜M上。有机EL元件31，在一对电极间，除了发光层以外，根据需要设置规定的有机层、无机层。这些包含发光层的有机层和无机层设置在各间隔部43间，跨越沿列方向Y相隔等间隔配置的多个有机EL元件，以一片相连的层的方式设置。在一对电极间设置的有机层和无机层中的至少一层采用后述的喷嘴印刷法形成。—对电极中的另一方的电极，在本实施方式中，从支撑基板的厚度方向Z的一方遍及全部有机EL元件而相连地形成。即，作为共用电极设置另一方的电极。〈发光装置的制造方法〉接下来对发光装置11的制造方法进行说明。首先，准备支撑基板21。其次，形成构成有机EL元件31的一对电极中的配置在支撑基板21侧的一方的电极32的图案。一方的电极32，从工序的简易观点出发，优选采用涂布法形成。优选形成例如在显示光透射性的膜主体中配置具有导电性的丝状的导电体而构成的后述的导电性树脂电极。 对于采用涂布法形成的电极的详细情况后述。需要说明的是，形成一方的电极32时，优选同时形成由与该一方的电极32相同的材料构成的虚设电极45。通过这样由与一方的电极 32相同的材料构成虚设电极45，能够在与一方的电极32相同的工序中形成虚设电极45，因此能够在不使工序数增加的情况下形成虚设电极45。需要说明的是，也可不采用涂布法，而采用例如溅射法、蒸镀法，在支撑基板21全面上形成后述的电极材料构成的导电膜，进而采用光刻法使导电膜图案化，从而形成矩阵状的电极32，还可在规定的基台上预先形成一方的电极的图案，再将其转印到支撑基板上。接下来，形成绝缘膜M。绝缘膜M由无机物或有机物构成。作为构成绝缘膜M 的无机物，可列举例如SW2和SiN等。绝缘膜M，通过采用等离子体CVD法、溅射法等公知的方法使无机绝缘物在基板的整面堆积，进而将堆积的无机物构成的薄膜采用光刻法图案化为规定的形状而形成。图案化时，穿设前述的开口观。开口观的行方向X的宽度和列方向Y的宽度分别根据解析度等的设计适当设定，行方向X的宽度通常为30 μ m 200 μ m,列方向Y的宽度通常为100 μ m 500 μ m。此外，可使用丙烯酸树脂系、酚醛清漆树脂系、和/或聚酰亚胺树脂系的正型或负型的感光性材料(光致抗蚀剂)形成由有机物构成的绝缘膜24。例如将光致抗蚀剂涂布到基板上，隔着规定的掩模在规定的区域照射光，进行显影，从而能够得到图案化为规定的形状的绝缘膜M。图案化时穿设前述的开口观。作为涂布光致抗蚀剂的方法，可列举使用了旋转涂布机(spin coater)、刮棒涂布机(bar coater)、辊涂机(roll coater)、模压涂布机 (die coater)、凹版涂布机(gravure coater)、狭缝涂布机(slit coater)等的方法。通过这样图案化，从支撑基板21的厚度方向的一方观察，形成格子状的绝缘膜 24。为了实现各有机EL元件31间的绝缘而设置绝缘膜M。绝缘膜M的膜厚设定为能够确保各有机EL元件31间的绝缘的厚度，通常为0. Iym 1 μ m，优选为0. 2μπι 0.4μπι。 此外，根据后述的有机材料的电阻的大小，可不设置绝缘膜Μ。接着形成隔壁41。例如将前述的光致抗蚀剂整面涂布，通过规定的掩模向规定的区域照射光，进而进行显影，从而形成具有外周部42和间隔部43的隔壁41。本实施方式中，显影中，在由光致抗蚀剂构成的层中穿设在列方向Y延伸的多条开口，通过从该多条开口的两端残留规定的宽度而将列方向Y的一方和另一方除去，从而形成外周部42和间隔部 43。该显影中虚设电极45的表面露出。这样外周部42和间隔部43在同一工序中一体地形成，因此其高度相同。光致抗蚀剂的涂布可采用使用了旋涂机、刮棒涂布机、辊式涂布机、 模压涂布机、凹版辊涂布机、狭缝涂布机等的方法进行。隔壁41的间隔部43，为了通过间隔部43实现行方向X上相邻的有机EL元件31间的绝缘，同时防止行方向X上相邻的像素间的混色而设置。即，为了防止向由间隔部43间规定的凹处供给墨液时该墨液越过间隔部 43而溢出到行方向X上相邻的凹处而设置了该间隔部43。从这样的观点出发，隔壁41的高度通常设定为0. 5μπι 1. 5μ ，优选为0. 5μπι 1. 0 μ m。此外，间隔部43的行方向X 的宽度，根据解析度等的设计适当设定，为2 μ m 50 μ m，优选为5 μ m 20 μ m。此外，相邻的间隔部43间的间隔，根据解析度等的设计适当设定，通常为40μπι 220μπι。为了将向间隔部43间供给的墨液收容到隔壁间，隔壁41通常优选显示疏液性。有机物通过在含有氟的气氛中进行等离子体处理，表面氟化而疏液化，在隔壁41形成后通过在含有氟的气氛中进行等离子体处理，能够使隔壁41疏液化。例如通过进行CF4等离子体处理，能够使隔壁41的表面疏液化。需要说明的是，也可采用与前述的方法不同的方法赋予隔壁41疏液性，可使用例如混合了显示疏液性的材料的材料形成隔壁41，还可在隔壁41 形成后设置在隔壁41表面被覆显示疏液性的物质的工序。需要说明的是，用有机物形成了绝缘膜M的情况下，通过在含氟气氛中进行等离子体处理，将该绝缘膜M也同时疏液化。接着，形成在一对的电极间设置的规定的有机层或无机层。有机EL元件如后所述具有各种的层构成，以下对在一对的电极间只设置发光层的构成的有机EL元件进行说明。本实施方式中对使用喷嘴印刷装置采用涂布法形成发光层的方法进行说明。作为喷嘴印刷装置，可使用市售的装置，可使用例如大日本7 ”彡一>制造社生产的NP-300G。首先，使用喷嘴印刷装置，将含形成发光层的材料的墨液供给到间隔部43间。墨液含后述的发光材料和溶剂。在从喷嘴印刷装置的喷嘴喷出液柱状的墨液的状态下，使在间隔部43间的上方配置的喷嘴向长度方向的一方移动，从而向间隔部43间供给墨液。喷嘴印刷法中，采用所谓的一笔书写来涂布墨液。即，边从喷嘴喷出液柱状的墨液，边作为喷嘴的扫描依次反复进行以下的(1) 的工序，从而能够依次向各间隔部43间供给墨液。 (1)首先，使在间隔部43间上方配置的喷嘴从列方向Y的一方向另一方(图1中的下)移动，(2)其次，使喷嘴移动到在行方向X的一方(图1中的右)相邻的间隔部43间的上方， (3)进而，使在间隔部43间上方配置的喷嘴从列方向Y的另一方向一方(图1中的上)移动，(4)然后，使喷嘴移动到在行方向X的一方(图1中的右)相邻的间隔部43间的上方。图3是涂布了墨液(EL层35)的状态的支撑基板21的平面图，对墨液实施了影线。 对于喷嘴印刷法，由于在不使墨液的喷出停止的情况下连续地涂布墨液，因此越过隔壁41 的外周部42而涂布墨液。即，在间隔部43间以外的区域也涂布墨液。将墨液(EL层35) 供给到与Y方向平行的一对的涂布线TL间的区域，该涂布线TL的宽度w等于间隔部43间的隔壁开口区域，即狭缝的X方向宽度。本实施方式中，由于在外周部42的列方向Y(间隔部长度方向)的一端和另一端形成了凹陷部44，因此将越过隔壁41的外周部42而涂布的墨液供给到该凹陷部44。而且，该外周部42作为将间隔部43间与凹陷部44隔离的间壁发挥功能。由此能够防止涂布的墨液越过隔壁41的外周部42而逆流到间隔部43间。特别地，本实施方式中，虚设电极45由与一方的电极32相同的材料构成。构成一方的电极32的材料通常显示亲液性，相对于苯甲醚的接触角小于30°。本实施方式中，显示这样的亲液性的虚设电极45露出设置。因此，越过隔壁41的外周部42而涂布的墨液在虚设电极45上润湿扩展，确保只要涂布到虚设电极45上的墨液在虚设电极45上，因此能够高效率地防止涂布的墨液越过隔壁41的外周部42而向间隔部43间逆流。这样，由于能够防止涂布的墨液越过隔壁41的外周部42而向间隔部43间逆流， 因此能够使向间隔部43间供给而涂布成膜的涂布膜的膜厚在列方向Y上均一。需要说明的是，如果间隔部43的长度方向的一端和另一端分别连接的外周部的列方向Y的宽度L较宽，则在该外周部上墨液润湿扩展，结果在外周部上涂布的墨液会向间隔部43间逆流。因此，为了防止该在外周部上的墨液的润湿扩展，间隔部43的长度方向的一端和另一端分别连接的外周部的列方向Y的宽度L优选200 μ m以下，更优选为100 μ m 以下。需要说明的是，如果是单色显示装置用的显示板，不产生混色的问题，如果是例如彩色显示装置用的显示板，混色成为重大的问题。如果是例如彩色显示装置用的显示板，必须将分别包含以红色发光的R发光材料、以绿色发光的G发光材料和以蓝色发光的B发光材料的3种的墨液每列分别涂布。具体而言，通过将含R发光材料的墨液、含G发光材料的墨液、含B发光材料的墨液各自相隔2列的间隔，分别在间隔部43间涂布，从而将3种墨液分别涂布。使用了喷嘴印刷法的情况下，各种墨液分别采用前述的一笔书写相隔2列的间隔在间隔部43间涂布。使用了没有设置凹陷部44的以往的基板的情况下，在外周部42上涂布的3种墨液在外周部42上混合，同时混合的墨液向间隔部43间逆流，因此会产生混色 (例如参照图6、图7)，但本实施方式中，通过墨液润湿扩展，即使在凹陷部44中墨液混合， 通过设置凹陷部44，外周部42作为间壁发挥功能，因此能够防止混合的墨液向间隔部43间逆流，因此能够防止混色的问题。需要说明的是，虚设电极45在图1中在行方向X上相连接地设置，如图20中所示， 与一方的电极32同样地沿行方向X离散地设置多个虚设电极45的情况下，墨液被保持在显示亲液性的虚设电极45上。需要说明的是，图20中，为了使发光装置11的内部结构容易理解，示出发光层的形成前的状态。虚设电极45设置在支撑基板21的表面上，本例中， 在每个隔壁41的开口区域设置。图20的发光装置，除了多个虚设电极45是离间的这点以夕卜，与前述的发光装置相同。将墨液涂布后，通过在大气气氛、惰性气体气氛和真空气氛等气氛中在规定的温度下加热规定的时间，能够形成发光层。形成了发光层后，形成例如另一方的电极。本实施方式中，另一方的电极使用后述的电极材料，采用蒸镀法和/或溅射法等，从例如支撑基板的厚度方向Z的一方遍及全部有机EL元件而相连地形成。图11为单一的有机EL元件31的纵剖面图。有机EL元件31具有在支撑基板21上形成的下部电极32、在下部电极32上形成的发光层34(EL层35)和在EL层35上形成的上部电极32。如果在下部电极32和上部电极33之间施加偏电压，从各个电极将电子和空穴注入EL层35内，注入的电子和空穴在发光层34中结合，从而发光层34发光，光在基板21的厚度方向上射出。如果用透明电极制作电极32和33的至少一方，则出射光透过透明电极，输出到外部。在下部电极32和支撑基板21为透明的情况下，来自发光层34的光透过它们而输出到外部。以上的说明中，对在一对电极32、33间只设置发光层34的方式进行了说明，但在一对电极间可设置与发光层34不同的规定的层。这些规定的层，如果能够使用涂布法形成，优选与发光层34同样地，使用含形成规定的层的材料的墨液，采用前述的喷嘴印刷法形成。上述规定的层和发光层34，作为整体有助于发光，因此构成了 EL层35。此外，作为一例，使下侧的电极32为阳极，使上侧的电极33为阴极。图12是有机EL元件31的纵剖面图，在上部电极33和发光层34之间存在层X，在下部电极32和发光层34之间存在层Y。层X和层Y各自由1种或多种层构成。如果使上部电极33为阴极，作为在阴极(电极33)和发光层34之间设置的层X， 可列举电子注入层、电子传输层、空穴阻挡层等。层X由单一的层构成的情况下，使其为电子传输层。图13为有机EL元件31的纵剖面图，上部电极33与发光层34直接接触，在下部电极32和发光层34之间存在层Y。层Y由1种或多种层构成，与下部电极32和发光层34 两者接触。图14是有机EL元件31的纵剖面图，下部电极32和发光层34直接接触，在上部电极33和发光层34之间存在层X。层X由1种或多种层构成，与上部电极33和发光层34 两者接触。图15是有机EL元件31的纵剖面图，表示在上部电极33和发光层34之间存在2 个层Xl和X2的实例。S卩，在阴极(电极33)和发光层34之间设置电子注入层Xl和电子传输层X2这两个层的情况下，将与阴极(电极33)相接的层称为电子注入层XI，将除该电子注入层Xl之外的层称为电子传输层X2。电子注入层Xl是具有改善由阴极的电子注入效率的功能的层。电子传输层X2是具有改善由阴极、电子注入层或更接近阴极的电子传输层的电子注入的功能的层。空穴阻挡层是具有阻挡空穴的传输的功能的层。需要说明的是，电子注入层和/或电子传输层具有阻挡空穴的传输的功能的情况下，有时这些层兼作空穴阻挡层。
空穴阻挡层具有阻挡空穴的传输的功能，例如可制作只使空穴电流流过的元件， 通过其电流值的减少来确认阻挡的效果。图16是有机EL元件31的纵剖面图，表示在下部电极32和发光层34之间存在2 个层Yl和Y2的实例。即，作为在阳极(电极32)和发光层34之间设置的层Y，可列举空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层等。在阳极(电极32)和发光层34之间只设置一层的情况下，将该层称为空穴注入层。在阳极(电极32)和发光层34之间设置空穴注入层Yl和空穴传输层Y2这两个层的情况下，将与阳极(电极32)相接的层称为空穴注入层Y1，将除该空穴注入层Yl之外的层称为空穴传输层Y2。空穴注入层Yl是具有改善由阳极(电极32)的空穴注入效率的功能的层。空穴传输层Y2是具有改善由阳极(电极32)、空穴注入层Yl或更接近阳极的空穴传输层的空穴注入的功能的层。电子阻挡层是具有阻挡电子的传输的功能的层。需要说明的是，空穴注入层、和/或空穴传输层具有阻挡电子的传输的功能的情况下，有时这些层兼作电子阻挡层。电子阻挡层具有阻挡电子的传输的功能，例如可制作只使电子电流流过的元件， 通过其电流值的减少来确认阻挡的效果。需要说明的是，有时将电子注入层和空穴注入层总称为电荷注入层，有时将电子传输层和空穴传输层总称为电荷传输层。以下示出有机EL元件的能够采取的层构成的一例。a)阳极/发光层/阴极(图11中所示的构成)b)阳极/空穴注入层/发光层/阴极(图13中使层Y为空穴注入层的构成)c)阳极/空穴注入层/发光层/电子注入层/阴极(图12中使层Y为空穴注入层，使层X为电子注入层的构成)e)阳极/空穴注入层/发光层/电子传输层/阴极(图12中使层Y为空穴注入层，使层X为电子传输层的构成)f)阳极/空穴注入层/发光层/电子传输层/电子注入层/阴极(图12中使层 X为空穴注入层，作为层Y采用图16的结构的构成)d)阳极/空穴传输层/发光层/阴极(图13中使层Y为空穴传输层的构成)e)阳极/空穴传输层/发光层/电子注入层/阴极(图12中使层Y为空穴传输层，使层Y为电子注入层的构成)f)阳极/空穴传输层/发光层/电子传输层/阴极(图12中使层Y为空穴传输层，使层X为电子传输层的构成)g)阳极/空穴传输层/发光层/电子传输层/电子注入层/阴极(图12中使层 Y为空穴传输层，使层X为图15中所示的电子传输层X2/电子注入层Xl结构的构成)h)阳极/空穴注入层/空穴传输层/发光层/阴极(图13中使层Y为图16中所示的空穴注入层Yl/空穴传输层Y2结构的构成)i)阳极/空穴注入层/空穴传输层/发光层/电子注入层/阴极(图12中使层 Y为图16中所示的空穴注入层Yl/空穴传输层Y2结构，使层X为电子注入层的构成)j)阳极/空穴注入层/空穴传输层/发光层/电子传输层/阴极(图12中使层 Y为图16中所示的空穴注入层Yl/空穴传输层Y2结构，使层X为电子传输层的构成)k)阳极/空穴注入层/空穴传输层/发光层/电子传输层/电子注入层/阴极(图12中使层Y为图16中所示的空穴注入层Yl/空穴传输层Y2结构，使层X为图15中所示的电子传输层X2/电子注入层Xl结构的构成)1)阳极/发光层/电子注入层/阴极(图14中使层X为电子注入层的构成)m)阳极/发光层/电子传输层/阴极(图14中使层X为电子传输层的构成)η)阳极/发光层/电子传输层/电子注入层/阴极(图14中使层X为图15中所示的电子传输层Χ2/电子注入层Xl结构的构成)需要说明的是，符号“/”表示夹持记号“/”的各层邻接地层叠。下同。本实施方式的有机EL元件可具有2层以上的发光层，作为具有2层的发光层的有机EL元件，在上述a) η)的层构成中的任一个中，如果将由阳极和阴极夹持的层叠体记为“重复单元Α”，则如图17中所示，能够形成以下的ο)中所示的层构成。ο)阳极/(重复单元A)/电荷注入层Z/(重复单元A)/阴极S卩，图17中，在电极32、32间，存在多个层叠体A (重复单元Α)，在层叠体A间存在电荷注入层Ζ。此外，作为具有3层以上的发光层的有机EL元件，如果将“(重复单元Α) /电荷注入层Ζ”记为“重复单元B”，则如图18中所示，能够形成以下的ρ)中所示的层构成。ρ)阳极/(重复单元B) χ/(重复单元A)/阴极需要说明的是，记号“X”表示2以上的整数，(重复单元Β)χ表示将χ段的重复单元B层叠的层叠体。S卩，图18中，在电极32、32间只存在数χ的层叠体B (重复单元B)，与位于多个层叠体B的最外侧的层叠体B邻接地存在层叠体Α，电极32与层叠体A邻接。其中，所谓电荷注入层(Ζ)，是通过施加电场，产生空穴和电子的层。作为电荷注入层，可列举例如由氧化钒、铟锡氧化物(Indium Tin Oxide 简称ΙΤΟ)、氧化钼等形成的薄膜。有机EL元件，通常将阳极配置在基板侧，但也可将阴极配置在基板侧。对于层叠的层的顺序、层数和各层的厚度，可考虑发光效率、元件寿命而适当设定。接下来，对构成有机EL元件的各层的材料和形成方法，更具体地说明。〈支撑基板〉支撑基板，适合使用在制造有机EL元件的工序中不变化的支撑基板，可使用例如玻璃、塑料、高分子膜和硅基板以及将它们层叠而成的产物等。需要说明的是，也可将形成了驱动有机EL元件的电路的驱动基板用作支撑基板，可设置例如TFT(Thin Film Transistor)基板作为支撑基板。〈阳极〉从发光层(34)放射的光通过阳极(电极32)向元件外出射的构成的有机EL元件的情况下，将显示光透射性的电极用于阳极，可将在显示光透射性的膜主体中配置具有导电性的丝状的导电体而构成的薄膜(以下有时称为“导电性树脂电极”)用作电极。图19是由导电性树脂电极构成的下部电极32(或上部电极33)的立体图。这样的导电性树脂电极可采用例如涂布法形成。膜主体M优选使用可见光区域的光的透射率高的膜主体，含树脂、无机聚合物、无机_有机混合化合物等而构成。作为膜主体M,优选使用具有导电性的树脂。通过这样在丝状的导电体W基础上使用具有导电性的膜主体M，能够使电阻降低。电极的膜厚，根据电阻和可见光的透射率等适当设定，例如为0. 02 μ m 2 μ m， 优选为0. 02 1 μ m。丝状的导电体W的直径，优选小直径，例如为400nm以下，优选为200nm以下，更优选为IOOnm以下。配置于膜主体的丝状的导电体，将通过该电极的光衍射或散射，因此提高浊度值(Haze Factor)，同时降低光的透射率，但通过使用比可见光的波长程度或可见光的波长小的直径的丝状的导电体W，能够将对于可见光的浊度值控制得低，同时抑制光的透射率的下降。此外，丝状的导电体的直径，如果过小则电阻升高，因此其直径优选IOnm以上。在膜主体M中配置的丝状的导电体W，可以是1根，也可以是多根，优选在膜主体中形成网状结构。例如膜主体M中，优选1个或多个丝状的导电体W遍及膜主体的全体而复杂地缠结配置，形成了网状结构。例如1根丝状的导电体W复杂地缠结，或者多根丝状的导电体W相互接触配置的结构，可两维或三维地扩展而形成网状结构。利用形成该网状结构的丝状的导电体W，能够降低导电性树脂电极(电极32)的体积电阻率。丝状的导电体W，例如可以是曲线状，也可以是针状。曲线状和/或针状的导电体相互接触形成网状结构，从而能够实现体积电阻率低的电极。(丝状的导电体)作为丝状的导电体W的材料，优选使用电阻低的金属，可列举例如Ag、Au、Cu、Al和它们的合金等。丝状的导电体W，能够采用例如根据N. R. Jana, L. Gearheart和C. J. Murphy 的方法(Chm. Commun. , 2001, p617_p618)、根据 C. Ducamp-Sanguesa, R. Herrera-Urbina 禾口 M. Figlarz 等的方法(J. Solid State Chem.，Vol. 100，1992，p272 p280)制造。作为丝状的导电体W，能够使用例如用含氨基的高分子系分散剂(I. I. C JAPAN社制、商品名“ ” ^ ^ m 24000SC”)将表面保护的银纳米丝(长轴平均长度1 μ m、短轴平均长度lOnm)。作为形成在显示光透射性的膜主体M中配置具有导电性的丝状的导电体W而构成的薄膜的方法，可列举例如通过将丝状的导电体W在树脂中混炼，使丝状的导电体W在树脂 (膜主体M)中分散的方法，将使丝状的导电体W和树脂在分散介质中分散的分散液采用规定的涂布法成膜化的方法和将丝状的导电体W涂布到由树脂构成的膜的表面，使导电体W 在膜中分散的方法等。需要说明的是，在分散液中根据需要可加入表面活性剂、抗氧化剂等各种添加剂。树脂的种类根据折射率、透光率和电阻等电极所要求的特性适当选择。此外，使丝状的导电体W分散的量，由于对电极的电阻、浊度值和透光率等产生影响，因此根据导电性树脂电极所要求的特性适当设定。导电性树脂电极，通过使具有导电性的丝状的导电体W分散在分散介质中得到的分散液，将得到的分散液采用规定的涂布法涂布成膜，进而将该膜固化而得到。分散液通过使丝状的导电体W和树脂分散在分散介质中而调制。作为该分散介质，只要是例如将树脂溶解或分散的分散介质即可，可列举氯仿、二氯甲烷、二氯乙烷等氯系溶剂、四氢呋喃等醚系溶剂、甲苯、二甲苯等芳香族烃系溶剂、丙酮、甲乙酮等酮系溶剂、 醋酸乙酯、醋酸丁酯、乙基溶纤剂醋酸酯等酯系溶剂。此外，作为该树脂，可列举例如低密度或高密度的聚乙烯、乙烯_丙烯共聚物、乙烯_ 丁烯共聚物、乙烯_己烯共聚物、乙烯_辛烯共聚物、乙烯_降冰片烯共聚物、乙烯_ 二亚甲基_八氢萘共聚物、聚丙烯、乙烯_醋酸乙烯酯共聚物、乙烯_甲基丙烯酸甲酯共聚物、 离聚物树脂等聚烯烃系树脂；聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯系树脂；尼龙-6、尼龙_6，6、间二甲苯二胺-己二酸缩聚物；聚甲基甲基丙烯酰亚胺等酰胺系树脂；聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系树脂；聚苯乙烯、苯乙烯_丙烯腈共聚物、苯乙烯_丙烯腈_ 丁二烯共聚物、聚丙烯腈等苯乙烯_丙烯腈系树脂；三醋酸纤维素、 二醋酸纤维素等疏水化纤维素系树脂；聚氯乙烯、聚偏氯乙烯、聚偏氟乙烯、聚四氟乙烯等含有卤素的树脂；聚乙烯醇、乙烯_乙烯醇共聚物、纤维素衍生物等氢结合性树脂；聚碳酸酯树脂、聚砜树脂、聚醚砜树脂、聚醚醚酮树脂、聚苯醚树脂、聚甲醛树脂、聚丙烯酸酯树脂、 液晶树脂等工程塑料系树脂等。此外，作为该树脂，优选使用具有导电性的树脂，作为具有导电性的树脂，可以列举例如聚苯胺、聚噻吩的衍生物等。可使用例如折射率为1. 7的聚(亚乙基二氧噻吩)/聚苯乙烯磺酸的溶液(STARC公司制、商品名“BayTronP”)。导电性树脂电极的折射率，主要由树脂等构成的膜主体的折射率决定。该膜主体的折射率例如主要由使用的树脂的种类决定，因此通过选择使用的树脂，能够容易地形成显示意图的折射率的导电性树脂电极。例如一方的电极与支撑基板相接地设置的情况下， 优选一方的电极与支撑基板的折射率差小，例如差的绝对值优选小于0. 4，作为折射率的数值，优选1.8以下。导电性树脂电极的折射率，能够通过适当地选择用于膜主体的树脂的种类而设定为所期的值，因此能够将与支撑基板的折射率的关系设定在上述的范围内。需要说明的是，用于感光性光致抗蚀剂的感光性材料和光固化性单体，如果使用使丝状的导电体分散的分散液，能够采用涂布法和光刻法容易地形成具有规定的图案形状的电极。能够使用例如三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(新中村化学社制、商品名“NK ESTER-TMPT”)和聚合引发剂(日本汽巴精化公司制、商品名“IRGA⑶RE 907”)等。作为将丝状的导电体分散的分散液的涂布方法，可以列举浸渍(dipping)法、采用棒涂机的涂布法、采用旋涂机的涂布法、刮刀(doctor blade)法、喷雾涂布法、丝网印刷法、刷毛涂布、喷射、辊式涂布等。需要说明的是，使用热固化性树脂、光固化性树脂的情况下，将分散液涂布后，能够通过加热或光照射，使涂膜固化。通常在显示光透射性的电极中使用了 ΙΤ0。ITO的折射率为2左右，玻璃基板的折射率为1. 5左右，与ITO相接的部分(例如发光层)的折射率为1. 7左右，因此使用ITO作为电极的情况下，具有在折射率低的玻璃基板与发光层之间夹持折射率高的ITO的结构。 因此，有时从发光层放射的光的一部分通过全反射等被ITO反射，不能高效地将光向外部射出。但是，通过使用上述的折射率低的导电性树脂电极，能够抑制在电极处的反射，能够高效地使光向外部射出。需要说明的是，上述的导电性树脂电极以外，也能够使用电导率高的金属氧化物、 金属硫化物和金属等的薄膜作为阳极。具体而言，使用由氧化铟、氧化锌、氧化锡、ΙΤ0、铟锌氧化物(Indium Zinc Oxide 简称IZO)、金、钼、银和铜等形成的薄膜，这些中，优选使用由 ΙΤ0、IZO或氧化锡形成的薄膜。作为阳极的制作方法，可列举真空蒸镀法、溅射法、离子镀法、镀敷法等。此外，作为该阳极，可使用聚苯胺或其衍生物、聚噻吩或其衍生物等有机的透明导电膜。阳极可使用反射光的材料，作为该材料，优选功函数3. OeV以上的金属、金属氧化物、金属硫化物。阳极的膜厚，可考虑光的透射性和电导率适当选择，例如为IOnm 10 μ m，优选为20nm 1 μ m,更优选为50nm 500nmo〈空穴注入层〉作为构成空穴注入层的空穴注入材料，可列举氧化钒、氧化钼、氧化钌和氧化铝等氧化物，苯胺系、星型胺系、酞菁系、无定形碳、聚苯胺和聚噻吩衍生物等。作为空穴注入层的成膜方法，可列举例如由含空穴注入材料的溶液的成膜。作为由溶液的成膜中使用的溶剂，只要将空穴注入材料溶解，则并无特别限制，可列举氯仿、 二氯甲烷、二氯乙烷等氯系溶剂、四氢呋喃等醚系溶剂、甲苯、二甲苯等芳香族烃系溶剂、丙酮、甲乙酮等酮系溶剂、醋酸乙酯、醋酸丁酯、乙基溶纤剂醋酸酯等酯系溶剂和水。作为由溶液的成膜方法，可列举喷嘴印刷法、旋涂法、流延法、微凹版辊涂布法、凹版辊涂布法、棒涂法、辊涂法、绕线棒涂布法、浸涂法、喷涂法、丝网印刷法、柔版印刷法、胶版印刷法、喷墨印刷法等涂布法，本实施方式中，优选使用前述的喷嘴印刷法。空穴注入层的膜厚，基于元件设计适当地设定最佳的值，例如为Inm Ιμπι，优选为2nm 500nm，更优选为5nm 200nm。〈空穴传输层〉作为构成空穴传输层的空穴传输材料，可列举聚乙烯基咔唑或其衍生物、聚硅烷或其衍生物、侧链或主链具有芳香族胺的聚硅氧烷衍生物、吡唑啉衍生物、芳基胺衍生物、 芪衍生物、三苯基二胺衍生物、聚苯胺或其衍生物、聚噻吩或其衍生物、聚芳基胺或其衍生物、聚吡咯或其衍生物、聚(对-亚苯基亚乙烯基)或其衍生物、或聚(2，5-亚噻吩基亚乙烯基)或其衍生物等。这些中，作为空穴传输材料，优选聚乙烯基咔唑或其衍生物、聚硅烷或其衍生物、 侧链或主链具有芳香族胺化合物基的聚硅氧烷衍生物、聚苯胺或其衍生物、聚噻吩或其衍生物、聚芳基胺或其衍生物、聚(对-亚苯基亚乙烯基)或其衍生物、或聚(2，5-亚噻吩基亚乙烯基)或其衍生物等高分子空穴传输材料，更优选为聚乙烯基咔唑或其衍生物、聚硅烷或其衍生物、侧链或主链具有芳香族胺的聚硅氧烷衍生物。低分子的空穴传输材料的情况下，优选分散于高分子粘结剂中使用。作为空穴传输层的成膜方法，并无特别限制，对于低分子的空穴传输材料，可列举由含高分子粘结剂和空穴传输材料的混合液的成膜，对于高分子的空穴传输材料，可列举由含空穴传输材料的溶液的成膜。作为由溶液的成膜中使用的溶剂，只要溶解空穴传输材料，则并无特别限制，可列举氯仿、二氯甲烷、二氯乙烷等氯系溶剂、四氢呋喃等醚系溶剂、甲苯、二甲苯等芳香族烃系溶剂、丙酮、甲乙酮等酮系溶剂、醋酸乙酯、醋酸丁酯、乙基溶纤剂醋酸酯等酯系溶剂等。作为由溶液的成膜方法，可列举与前述的空穴注入层的成膜法同样的涂布法，本实施方式中优选使用前述的喷嘴印刷法。作为混合的高分子粘结剂，优选不极度阻碍电荷传输的物质，而且优选使用对于可见光的吸收弱的物质，可列举例如聚碳酸酯、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚氯乙烯、聚硅氧烷等。空穴传输层的膜厚，基于元件设计而适当设定最佳的值，例如为Inm Ιμπι，优选为2nm 500nm，更优选为5nm 200nm。〈发光层〉
发光层通常由主要发荧光和/或磷光的有机物、或者该有机物和辅助其的掺杂剂形成。掺杂剂为了例如发光效率的改善、使发光波长变化而加入。需要说明的是，有机物可以是低分子化合物，也可以是高分子化合物，发光层优选含聚苯乙烯换算的数均分子量为 IO3 IO8的高分子化合物。作为构成发光层的发光材料，可列举例如以下的色素系材料、 金属络合物系材料、高分子系材料、掺杂剂材料。(色素系材料)作为色素系材料，可列举例如甲环戊丙胺(cyclopendamine)衍生物、四苯基丁二烯衍生物化合物、三苯胺衍生物、噁二唑衍生物、吡唑喹啉衍生物、二苯乙烯基苯衍生物、二苯乙烯基亚芳基衍生物、吡咯衍生物、噻吩环化合物、吡啶环化合物、茈酮衍生物、茈衍生物、低聚噻吩衍生物、噁二唑二聚体、吡唑啉二聚体、喹吖啶酮衍生物、香豆素衍生物等。(金属络合物系材料)作为金属络合物系材料，可列例如中心金属具有Al、Zn、Be等或Tb、Eu、Dy等稀土类金属，配体具有噁二唑、噻二唑、苯基吡啶、苯基苯并咪唑、喹啉结构等的金属络合物，可列举例如铱络合物、钼络合物等具有来自三重线激发态的发光的金属络合物、喹啉酚铝络合物、苯并喹啉酚铍络合物、苯并噁唑基锌络合物、苯并噻唑锌络合物、偶氮甲基锌络合物、 卟啉锌络合物、铕络合物等。(高分子系材料)作为高分子系材料，可列举聚对亚苯基亚乙烯基衍生物、聚噻吩衍生物、聚对亚苯基衍生物、聚硅烷衍生物、聚乙炔衍生物、聚芴衍生物、聚乙烯基咔唑衍生物、将上述色素系材料、金属络合物系发光材料高分子化的产物等。上述发光性材料中，作为发蓝色光的材料，可列举二苯乙烯基亚芳基衍生物、噁二唑衍生物、和它们的聚合物、聚乙烯基咔唑衍生物、聚对亚苯基衍生物、聚芴衍生物等。其中，优选高分子材料的聚乙烯基咔唑衍生物、聚对亚苯基衍生物、聚芴衍生物等。此外，作为发绿色光的材料，可列举喹吖啶酮衍生物、香豆素衍生物、和它们的聚合物、聚对亚苯基亚乙烯基衍生物、聚芴衍生物等。其中，优选高分子材料的聚对亚苯基亚乙烯基衍生物、聚芴衍生物等。此外，作为发红色光的材料，可列举香豆素衍生物、噻吩环化合物和它们的聚合物、聚对亚苯基亚乙烯基衍生物、聚噻吩衍生物、聚芴衍生物等。其中，优选高分子材料的聚对亚苯基亚乙烯基衍生物、聚噻吩衍生物、聚芴衍生物等。(掺杂剂材料)作为掺杂剂材料，可列举例如茈衍生物、香豆素衍生物、红荧烯衍生物、喹吖啶酮衍生物、方酸鐺(日文原文” 了” M衍生物、吓啉衍生物、苯乙烯基系色素、并四苯衍生物、吡唑啉酮衍生物、十环烯、吩噁嗪酮等。需要说明的是，这样的发光层的厚度通常为约 2nm 200nm。〈发光层的成膜方法〉作为发光层的成膜方法，能够使用将含发光材料的溶液涂布的方法、真空蒸镀法、 转印法等。作为用于由溶液的成膜的溶剂，可列举与由前述的溶液将空穴传输层成膜时使用的溶剂同样的溶剂。作为将含发光材料的溶液涂布的方法，可列举旋涂法、流延法、微凹版辊涂布法、
16凹版辊涂布法、棒涂法、辊式涂布法、绕线棒涂布法、浸涂法、狭逢涂布法、毛细管涂布法、喷涂法和喷嘴印刷法等涂布法以及凹版印刷法、丝网印刷法、柔版印刷法、胶版印刷法、反转印刷法、喷墨印刷法等涂布法，在本实施方式中优选使用前述的喷嘴印刷法。〈电子传输层〉作为构成电子传输层的电子传输材料，能够使用公知的材料，可列举噁二唑衍生物、蒽醌二甲烷或其衍生物、苯醌或其衍生物、萘醌或其衍生物、蒽醌或其衍生物、四氰基蒽醌二甲烷或其衍生物、芴酮衍生物、二苯基二氰基乙烯或其衍生物、联对苯醌衍生物、或 8-羟基喹啉或其衍生物的金属络合物、聚喹啉或其衍生物、聚喹喔啉或其衍生物、聚芴或其衍生物等。这些中，作为电子传输材料，优选噁二唑衍生物、苯醌或其衍生物、蒽醌或其衍生物、或8-羟基喹啉或其衍生物的金属络合物、聚喹啉或其衍生物、聚喹喔啉或其衍生物、聚芴或其衍生物，更优选2-(4_联苯基)-5-(4_叔丁基苯基)-1，3，4_噁二唑、苯醌、蒽醌、三 (8-羟基喹啉)铝、聚喹啉。作为电子传输层的成膜法，并无特别限制，对于低分子的电子传输材料，可列举由粉末的真空蒸镀法、或者由溶液或熔融状态的成膜，对于高分子的电子传输材料，可列举由溶液或熔融状态的成膜。需要说明的是，进行由溶液或熔融状态的成膜的情形下，可并用高分子粘结剂。作为由溶液将电子传输层成膜的方法，可列举与由前述的溶液将空穴传输层成膜的方法同样的成膜法，本实施方式中，优选使用前述的喷嘴印刷法。电子传输层的膜厚，因使用的材料，最佳值不同，以驱动电压和发光效率成为适度的值的方式适当设定，至少不产生针眼的厚度是必要的，如果太厚，元件的驱动电压升高而不优选。因此，作为该电子传输层的膜厚，例如为Inm Ιμπι，优选为2nm 500nm，更优选为 5nm 200nmo〈电子注入层〉作为构成电子注入层的材料，可根据发光层的种类适当选择最佳的材料，可列举碱金属、碱土类金属、包含碱金属和碱土类金属中的1种类以上的合金、碱金属或碱土类金属的氧化物、卤化物、碳酸盐、或者这些物质的混合物等。作为碱金属、碱金属的氧化物、卤化物和碳酸盐的实例，可列举锂、钠、钾、铷、铯、氧化锂、氟化锂、氧化钠、氟化钠、氧化钾、氟化钾、氧化铷、氟化铷、氧化铯、氟化铯、碳酸锂等。此外，作为碱土类金属、碱土类金属的氧化物、卤化物、碳酸盐的实例，可列举镁、钙、钡、锶、氧化镁、氟化镁、氧化钙、氟化钙、氧化钡、氟化钡、氧化锶、氟化锶、碳酸镁等。电子注入层可以由将2层以上层叠而成的层叠体构成，可列举例如LiF/Ca等。电子注入层采用蒸镀法、溅射法、印刷法等形成。作为电子注入层的膜厚，优选Inm Iym左右。〈阴极〉作为阴极的材料，优选功函数小、向发光层的电子注入容易、电导率高的材料。此夕卜，对于从阳极侧将光取出的有机EL元件，为了将来自发光层的光用阴极向阳极侧反射， 作为阴极的材料，优选可见光反射率高的材料。对于阴极，能够使用例如碱金属、碱土类金属、过渡金属和周期表第13族金属等。作为阴极的材料，能够使用例如锂、钠、钾、铷、铯、 铍、镁、钙、锶、钡、铝、钪、钒、锌、钇、铟、铈、钐、铕、铽、镱等金属，上述金属中的2种以上的合金、上述金属中的1种以上和金、银、钼、铜、锰、钛、钴、镍、钨、锡中的1种以上的合金、或者石墨或石墨层间化合物等。作为合金的实例，可列举镁_银合金、镁_铟合金、镁_铝合金、铟_银合金、锂_铝合金、锂_镁合金、锂_铟合金、钙_铝合金等。此外，作为阴极(电极33)，能够使用能够采用阳极的条目中说明的涂布法形成的导电性树脂电极、由导电性金属氧化物和导电性有机物等形成的透明导电性电极。具体而言，作为导电性金属氧化物，可列举氧化铟、氧化锌、氧化锡、ITO和ΙΖ0，作为导电性有机物，可列举聚苯胺或其衍生物、聚噻吩或其衍生物等。需要说明的是，阴极可由将2层以上层叠而成的层叠体构成。需要说明的是，有时也将电子注入层用作阴极。需要说明的是，构成阴极的电极33，如图19中所示，可具有膜主体M和在膜主体M 内分散的多个纳米丝即导电体W。这种情形的阴极的电极内部结构与阳极的情形相同。阴极的膜厚，考虑电导率、耐久性而适当设定，例如为IOnm ΙΟμπι，优选为 20nm 1 μ m,更优选为50nm 500nmo以上对设置虚设电极的形态进行了说明，但在其实施方式中，可如图21和图22中所示，替换虚设电极45而设置由与绝缘膜24相同的材料构成的虚设绝缘膜24D。图21是使用了虚设绝缘膜的发光装置11的立体图，图22为使用了虚设绝缘膜的发光层形成前的发光装置11的立体图。即，上述虚设绝缘膜24D设置在凹陷部44的底面 (支撑基板21的表面)上，以凹陷部44到达虚设绝缘膜24D的表面的方式设置。该实施方式中，凹陷部44的底部相当于虚设绝缘膜24D的表面。需要说明的是，图21和图22的发光装置，只在代替虚设电极45而使用虚设绝缘膜24D的方面与上述的实施方式不同，其他的构成与图8和图9中所示的发光装置相同。本实施方式中，在虚设电极45的位置，取而代之设置了与其相同形状(长方形)的虚设绝缘膜24D，虚设绝缘膜24D在与绝缘膜24相同的工序中制造，这些绝缘膜24D、24可相连。虚设绝缘膜可设置在前述的实施方式的设置虚设电极的部位。需要说明的是，虚设绝缘膜可与绝缘膜一体地形成。即，绝缘膜延伸至前述的实施方式中的形成了虚设电极的部位而设置，可将延伸到设置了虚设电极的部位的绝缘膜作为虚设绝缘膜。虚设绝缘膜优选在与绝缘膜的形成工序相同的工序中形成。通过这样采用与绝缘膜相同的材料构成虚设绝缘膜，能够在与绝缘膜相同的工序中形成虚设绝缘膜，因此能够在不增加工序数的情况下形成虚设绝缘膜。作为虚设电极的替代，设置虚设绝缘膜的情况下，优选绝缘膜和虚设绝缘膜与隔壁相比显示亲液性。具体而言，优选凹陷部的底部由相对于苯甲醚的接触角小于30°的材料构成，成为凹陷部的底部的虚设绝缘膜优选由相对于苯甲醚的接触角小于30°的材料构成。因此，在作为绝缘膜的材料例示的材料中，使用绝缘膜显示亲液性的材料形成绝缘膜是必要的。作为绝缘膜和虚设绝缘膜的材料，可列举SiO2等氧化物、氮氧化物和SiN，优选SiO2 等氧化物和氧化氮，更优选亲液性高的Si02。作为阴极的制作方法，可列举真空蒸镀法、溅射法以及将金属薄膜热压接的层压法等。需要说明的是，上述的凹陷部44，可如图23和图24中所示，由具有周围被隔壁材料(抗蚀剂)包围的开口的凹部构成。图23是使用了具有开口的凹部的发光装置11的立体图，图24为使用了具有开口的凹部的发光层形成前的发光装置11的立体图。需要说明的是，图23和图24的发光装置，只是在凹陷部44的形状为具有长方形的开口的凹部方面与上述的实施方式不同，其他的构成与图8和图9中所示的发光装置相同。以上说明的发光装置可适合用于显示装置，还能够应用于例如液晶显示装置的背光、照明装置、扫描仪的光源等。附图标记的说明1 基板2 隔壁2a 外周部2b 间隔部3 支撑基板4 一方的电极5 绝缘膜11 发光装置21 支撑基板24 绝缘膜28 开口31 有机EL元件32 一方的电极41 隔壁42 外周部43 间隔部44 凹陷部45 虚设电极
权利要求
1.一种发光装置，其具有支撑基板、在所述支撑基板上设置的多个有机电致发光元件和将所述多个有机电致发光元件分隔的隔壁，所述隔壁具有以将设置所述多个有机电致发光元件的区域包围的方式配置的外周部、和在被所述外周部包围的区域中配置成条状、长度方向的一端和另一端分别与所述外周部连接的多根间隔部，所述有机电致发光元件配置在彼此相邻的间隔部间，在所述外周部的、所述间隔部的长度方向的延长线上设置有朝向所述支撑基板的凹陷部。
2.如权利要求1所述的发光装置，其中所述凹陷部的底面由相对于苯甲醚的接触角小于30°的材料构成。
3.如权利要求1所述的发光装置，其中所述有机电致发光元件具有一对电极，该发光装置在所述凹陷部的底面上还具有由与所述一对电极中的靠近所述支撑基板配置的一方的电极相同的材料构成的虚设电极，以到达所述虚设电极表面的方式设置所述凹陷部。
4.如权利要求3所述的发光装置，其中所述一方的电极和所述虚设电极采用涂布法形成。
5.如权利要求3所述的发光装置，其中所述一方的电极通过在显示光透射性的膜主体中配置具有导电性的丝状的导电体而构成。
6.如权利要求1所述的发光装置，其中还具有分别将所述多个有机电致发光元件电绝缘的绝缘膜和由与该绝缘膜相同的材料构成的虚设绝缘膜，所述绝缘膜设置在所述隔壁和所述支撑基板之间， 所述虚设绝缘膜设置在所述凹陷部的底面上， 所述凹陷部以到达所述虚设绝缘膜表面的方式设置。
全文摘要
该发光装置是具有支撑基板、在支撑基板上设置的多个有机EL元件和将多个有机EL元件分隔的隔壁的发光装置，隔壁具有以将设置多个有机EL元件的区域包围的方式配置的外周部和在由外周部包围的区域中配置为条状、长度方向的一端和另一端分别与外周部连接的多根间隔部，将有机EL元件配置在彼此相邻的间隔部间，在外周部的、间隔部的长度方向的延长线上设置有朝向支撑基板的凹陷部。
文档编号H05B33/12GK102474935SQ201080033529
公开日2012年5月23日 申请日期2010年7月28日 优先权日2009年7月29日
发明者小野善伸 申请人:住友化学株式会社