包括铰链组件的等离子体处理组件的制作方法
【专利摘要】在一个实施方式中，等离子体处理组件可以包括耦合到铰链体的上处理体和耦合到基部铰链构件的下处理体。所述铰链体能与所述基部铰链构件可枢转地接合。自锁闩能与所述基部铰链构件可枢转地接合。当铰链体围绕第一旋转轴旋转时，凸锁闩接合构件能接触所述自锁闩并且使所述自锁闩围绕第二旋转轴沿与偏置方向相反的方向旋转。所述自锁闩能围绕第二旋转轴沿偏置方向旋转并且能阻止所述铰链体围绕第一旋转轴旋转。
【专利说明】包括铰链组件的等离子体处理组件
【技术领域】
[0001]本说明书总体上涉及等离子体处理组件，并且更具体地，涉及包括铰链组件的等离子体处理组件。
【背景技术】
[0002]等离子体处理组件能够被用来将材料从由例如半导体或玻璃形成的基底蚀刻掉。等离子体处理组件可以包括包围等离子体处理气体的真空室，该处理气体能够被离子化并且转化为等离子体。例如射频源(RF源)能够向处理气体施加射频能量(RF能源)以产生等离子体。在一些等离子体处理组件中，多个电极和电介质环能够同心地对准以将RF能量导向基底的期望的部分。
[0003]此外，一个电极能够耦合到下处理体并且另一个电极能够耦合到上处理体。下处理体和上处理体能够可枢转地彼此啮合以便相对旋转运动。例如:上处理体可以周期性地旋转远离下处理体以便维护和/或清洗下处理体。这种周期性的维护能够导致上处理体和下处理体之间的错位。
[0004]因此，需要一种附加的包括铰链组件的等离子体处理组件。
【发明内容】
[0005]在一种实施方式中，等离子体处理组件可以包括:下处理体、基部铰链构件、铰链体、以及自锁闩。下处理体可以包括形成于其中的下真空室。基部铰链构件能被安装到下处理体。铰链体能与基部铰链构件可枢转地接合。铰链体能被安装到上处理体。基部铰链构件和铰链体能够彼此围绕第一旋转轴相对转动，使得上处理体的运动由基部铰链构件和铰链体约束。铰链体可以包括凸锁R接合构件。自锁R能与基部铰链构件可枢转地接合。自锁闩和基部铰链构件能彼此围绕第二旋转轴相对转动。自锁闩能被偏置在偏置方向。当铰链体围绕第一旋转轴从闭合位置并朝向锁定位置旋转时，凸锁闩接合构件能接触自锁闩并且能使自锁闩围绕第二旋转轴沿与偏置方向相反的方向旋转。当铰链体围绕第一旋转轴旋转到锁定位置时，自锁闩能围绕第二旋转轴沿偏置方向旋转并且能够阻止铰链体围绕第一旋转轴旋转到闭合位置。
[0006]鉴于下文结合附图的详细描述，将更充分地理解这些和通过本文所述的实施方式提供的附加特征。
【专利附图】
【附图说明】
[0007]示于附图中的实施方式是说明性和示例性的，并非旨在限制由权利要求书所限定的主题。当结合下面的附图阅读时，就能够理解本说明性实施方式的以下详细描述，其中用相同的附图标记表示相同的结构，并且其中:
[0008]图1A不意性地描绘了根据本文所不和描述的一个或多个实施方式的位于闭合位置的等离子体处理组件；[0009]图1B示意性地描绘了根据本文所示和描述的一个或多个实施方式的等离子体处理组件；
[0010]图2示意性地描绘了根据本文所示和描述的一个或多个实施方式的铰链组件；
[0011]图3A和3B示意性地描绘了根据本文所示和描述的一个或多个实施方式的位于初始接触点处的铰链组件；
[0012]图4A和4B示意性地描绘了根据本文所示和描述的一个或多个实施方式的铰链组件；
[0013]图5A和5B不意性地描绘了根据本文所不和描述的一个或多个实施方式的位于锁定位置的铰链组件；以及
[0014]图6A和6B示意性地描绘了根据本文所示和描述的一个或多个实施方式的位于释放位置的铰链组件。
【具体实施方式】
[0015]图1 一般地描绘了用于从基底蚀刻材料和/或在基底上沉积材料的等离子体处理组件的一个实施方式。等离子体处理组件通常包括通过铰链组件与下处理体可枢转地接合的上处理体。根据此处所述的实施方式，铰链组件通常包括与铰链体可枢转地接合的基部铰链构件和与基部铰链构件可枢转地接合的自锁闩。在这里将更详细地描述等离子体处理组件的各种实施方式和等离子体处理组件的操作。
[0016]共同参考图1A和1B，等离子体处理组件10包括具有下真空室22的下处理体20，下真空室22形成于下处理体20中，用于密闭(enclose)等离子体处理。在诸如蚀刻或沉积之类的等离子体处理中，下真空室22能够包围等离子体处理气体，例如，处理气体可以包括卤素或卤族元素，例如:氟(F)、氯(Cl)、溴(Br)、碘(I)、和砹(At)。此外，特定的处理气体可以包括 CC1F3、C4F8, C4F6, CHF3> CH2F3> CF4, HBr, CH3F, C2F4, N2, 02、Ar、Xe、He、H2, NH3>SF6, BC13、Cl2和能够被离子化的其它气体。下处理体20能够进一步包括适于将等离子体处理气体密封在下真空室22内的O形环26。因此，O形环26能与下真空室22同心并且与下真空室22相邻。值得注意的是，虽然在图1B中描绘的O形环26位于下处理体20中，但O形环26能位于上处理体30中。
[0017]等离子体处理组件10进一步包括上处理体30，其与下处理体20配合以密封下真空室22。具体而言，上处理体30包括室盖32，室盖32与下处理体20互锁以使下真空室22能够维持在低压。在一些实施方式中，上处理体30的室盖32能与位于下处理体20内的O形环26形成密封。例如:能够使室盖32与O形环26接触(即，如图1A中所示的当上处理体30被关闭时)。上处理体30能引起O形环26的足以能够在下真空室22内抽真空的初始收缩，即，上处理体30的重量能压缩O形环26和/或能利用夹紧装置来引起该初始压缩。然后，真空室内的压强能够逐渐减少并且O形环26能被逐渐地压缩。具体而言，例如，下真空室22能被降低到低压并保持在低压，例如:在毫托的范围，或者约100毫托至约200毫托。因此，O形环26能被配置使得保持合适的密封以允许下真空室22内的压强的降低。
[0018]如图1B所示，下处理体20可以包括销接收孔28以及上处理体30可以包括定位销34。销接收孔28和定位销34能被配置以使上处理体30与下处理体20的下真空室22对准。例如，定位销34可以包括球形构件36以及销接收孔28能具有圆形横截面，使得球形构件36和销接收孔28的尺寸例如，沿着X-Z平面在相对小的径向游隙内，例如:少于约
0.002英寸(约50微米)，在一个实施方式中少于约0.001英寸(约25微米)，或者在另一个实施方式中从约0.0003英寸(约7微米)至约0.0008英寸(约20微米)。值得注意的是，虽然图1B中描绘的定位销34基本上为圆柱形以及销接收孔28基本上为圆形，定位销34和销接收孔28能以适于使下处理体20与上处理体30互锁和对准的任何方式成形。此外，应当注意的是上处理体30可以包括用于定位的孔以及下处理体20可以包括相应的用于定位的销。
[0019]共同参考图1A和1B，上处理体30可以任选地包括用于与基底装卸致动器(未示出)耦合的穿过上处理体30形成的致动器口 38。基底装卸致动器能被配置来为等离子体处理自动地装载和卸载基底。此外，基底装卸致动器能够在斜面蚀刻操作中被用以确保电极和电介质环的正确对准。然而，应当注意的是，本文所述的实施方式可在有或者没有致动器口 38的情况下使用。
[0020]现在参考图2，示意性地描绘了用于向等离子体处理组件10提供枢转运动和自锁机构的铰链组件100。铰链组件100包括与铰链体130可枢转地接合的基部铰链构件110。基部铰链构件I1包括用于与下处理体20 (图1A和1B)耦合的安装平台112。在一个实施方式中，基部铰链构件110能进一步包括第一瓣构件114和第二瓣构件116。第一瓣构件114和第二瓣构件116中的每个能够与安装平台112连接并且自安装平台112垂直延伸(正Y方向)。在一些实施方式中，第一瓣构件114和第二瓣构件116能自安装平台112沿正Z方向横向偏移。第一瓣构件114和第二瓣构件116能够彼此沿X轴横向偏移并且在第一瓣构件114和第二瓣构件116之间限定铰链体接收开口 120。
[0021]细长狭槽118能够穿过每个第一瓣构件114和第二瓣构件116形成并且与第一旋转轴150对准。细长狭槽118能具有基本上圆形的横截面，其在垂直方向(沿Y轴)是细长的。细长狭槽118能够被配置来与铰链销122配合以允许枢转运动和垂直调整。在一个实施方式中，铰链销122能基本上为圆柱形。铰链销122能基本上与第一旋转轴150对准插入细长狭槽118中。因此，细长狭槽118能限制铰链销122并且允许铰链销122在细长狭槽118内垂直滑动(沿Y轴)。例如，当抽真空和O形环26被压缩时，细长狭槽118能成形以允许铰链销122滑向下处理体20。类似地，当释放真空和O形环26膨胀时，细长狭槽118能成形以允许铰链销122滑离下处理体20。
[0022]铰链体130被配置来与上处理体30 (图1A和1B)接合。在一个实施方式中，铰链体130包括用于安装铰链体130的第一安装凸缘134和第二安装凸缘136。铰链体130进一步包括用于与自锁闩160自动接合的凸锁闩接合构件132，如下文更详细地描述。凸锁闩接合构件132为基本上细长的构件，其自铰链体130向外延伸(在图2中所示的闭合位置的正Z方向)。凸锁闩接合构件132形成锁闩偏转表面138和锁定表面140，它们被配置以与自锁闩160配合。
[0023]具体而言，当在图2所示的闭合位置时，锁定表面140朝向基本上垂直，即，锁定表面140具有与正Y方向基本上对齐的表面法线。此外，当位于闭合位置时，锁闩偏转表面138朝向基本上向外，S卩，锁闩偏转表面138具有与正Y方向基本上对齐的表面法线。值得注意的是，虽然凸锁闩接合构件132被描绘为通过对准紧固件131 (例如，螺钉、螺栓等)耦合到铰链体130，凸锁闩接合构件132能使用任何已知的紧固系统耦合到铰链体130，或者凸锁闩接合构件132能与铰链体130是一体的。
[0024]凸锁闩接合构件132能够进一步包括一个或更多个棘爪(detent) 142，其将自锁闩160暂时保持在相对于凸锁闩接合构件132的释放位置，如下文更详细的解释。棘爪142能够被耦合到凸锁闩接合构件132并且延伸出锁闩偏转表面138。在一个实施方式中，每个棘爪142能够包括偏置轴承或者能被选择性释放的任何其他偏置机构。
[0025]仍然参照图2，铰链组件100进一步包括用于自动锁定铰链组件100的与基部铰链构件110可枢转地接合的自锁闩160。具体而言，自锁闩160能与基部铰链构件110可枢转地接合使得自锁闩160围绕第二旋转轴152旋转。如图2中示意性地描绘的，第二旋转轴152基本上垂直于第一旋转轴150。
[0026]自锁闩160被偏置以确保自动锁定。具体而言，自锁闩160被偏置阻止围绕第二旋转轴152沿一个方向的旋转。在一个实施方式中，自锁闩160能够使用与第二旋转轴152一致的闩锁紧固件168可枢转地接合到基部铰链构件110的安装平台112。闩锁紧固件168能够可操作地将扭转构件(例如，弹簧)耦合到自锁闩160使得自锁闩160被偏置阻止围绕第二旋转轴152的逆时针方向旋转。值得注意的是，自锁闩160能够被偏置到适合于自动锁定的任何旋转。
[0027]在一个实施方式中，自锁闩160包括凹进表面162和倾斜的脊部164，它们相互配合以限定铰链锁定腔172。当位于闭合位置时，倾斜的脊部164垂直延伸(沿正Y方向)远离凹进表面162。倾斜的脊部164能够沿着相对于自锁闩160的凹进表面162的倾斜逐渐增加高度。具体而言，倾斜的脊部164能够倾斜设置使得当倾斜的脊部164横向延伸(沿负X方向)时倾斜的脊部164进一步延伸远离凹进表面162。然而，应当注意的是倾斜的脊部164能够沿任何方向倾斜设置。
[0028]自锁闩160可以进一步包括形成于邻近凹进表面162的闩锁开口槽166，用于与凸锁闩接合构件132的一个或更多个棘爪142临时接合。值得注意的是，虽然闩锁开口槽166被描绘为延伸穿过自锁闩160的细长通道，但闩锁开口槽166能够是形成于自锁闩中适合于与棘爪142临时接合的任何特征。在一些实施方式中，自锁闩160可以进一步包括位于凹进表面162与闩锁开口槽166之间的斜面163。相比于凹进表面162，斜面163能够以适于向闩锁开口槽166提供进一步的间隙的任意角度倾斜。
[0029]共同参考图1A和图2，铰链组件100能够通过紧固件188被固定于下处理体20和上处理体30来约束下处理体20和上处理体30之间的枢转运动。例如，紧固件188能是适合将铰链组件100耦合到下处理体20和上处理体30的任何设备，例如:螺纹紧固件、焊接件、铆钉、等等。
[0030]在一种实施方式中，基部铰链构件110能被固定到下处理体20。铰链销122能被接收在基部铰链构件110的细长狭槽118内。诸如销之类的紧固件188能与基部铰链构件110以及铰链销122接合。因此，铰链销122能够被保持在基部铰链构件110的细长狭槽118内，同时允许铰链销122在细长狭槽118内移动。具体而言，在图2所示的实施方式中，铰链销122的基本上与X轴一致的水平运动以及围绕第一旋转轴150的旋转运动能被缓解。然而，铰链销122的基本上与Y轴一致的垂直运动能被允许在细长狭槽118的范围内进行。
[0031]铰链体130能够与铰链销122可枢转地接合以允许相对于基部铰链构件110的相对旋转运动。具体而言，铰链体130能够包围并围绕铰链销122和第一旋转轴150旋转。因此铰链体130被设置使得其能被接收在基部铰链构件110的铰链体接收开口 120内。具体而言，沿第一旋转轴150测量，铰链体130能具有比基部铰链构件110的第一瓣构件114与第二瓣构件116之间的距离小的尺寸。
[0032]在一些实施方式中，能够调整下处理体20与上处理体30之间的对准。具体而言，铰链体130的与铰链销122接合的部分以及铰链体130的与上处理体30接合的部分能被配置来用于相对运动。在一个实施方式中，铰链体130可以由通过对准紧固件131耦合到一起的两片形成。因此，在初始组装过程中，上处理体30与下处理体20彼此固定到一起之前，上处理体30能与铰链体130的部分耦合并且下处理体20能耦合到铰链组件100的其余部分。因此，能够在铰链体130完全组装之前以及由此产生的铰链组件100完全组装之前对准上处理体30和下处理体20。例如，定位销34和销接收孔28 (图1B)能互锁以确保在使用对准紧固件131组装铰链体130之前上处理体30与下处理体20之间的正确对准。
[0033]再次参考图2，基部铰链构件110能包括固定螺丝156，用于调节对O形环26 (图1B)的压缩以将下真空室22初始抽气到真空压强。具体而言，第一瓣构件114和第二瓣构件116每个都能与固定螺丝156螺纹接合。固定螺丝156能够移动穿过第一瓣构件114和第二瓣构件116并且进入细长狭槽118。因此，例如，固定螺丝156能限制在细长狭槽118内的铰链销122的例如在垂直方向(沿Y轴)的移动。在一些实施方式中，例如，固定螺丝156被涂覆有螺纹锁涂层，例如:聚合物、甲基丙烯酸酯系粘接剂，和类似物。可替代地或附加地，例如，固定螺丝156能被耦合到阻止旋转的设备上，该设备如:锁紧垫圈、锁紧螺母、安全线、等等。值得注意的是，虽然在图2中固定螺丝156被描绘为平头螺丝，但固定螺丝156能是适于调整在细长狭槽118内的铰链销122的移动的任何紧固件。
[0034]共同参考图1A和1B，基部铰链构件110能被固定于下处理体20并且与下处理体20的外表面24相接触。铰链体130能被固定于上处理体30并且与上处理体30的外表面33相接触。因此，下处理体20和上处理体30能可枢转地接合并且能够相对于第一旋转轴150相对旋转运动。在一些实施方式中，等离子体处理组件10的上处理体30能保持平衡使得当上处理体30旋转到小于平衡角β的角度时，上处理体30自动旋转到闭合位置(图1Α)。例如，如果等离子体处理组件10位于如图1A所示的其正常操作位置，则上处理体30能被推动围绕第一旋转轴150旋转。例如，如果上处理体30旋转没有超过平衡角β并且推动力停止，则例如:根据作用在等离子体处理组件10上的重力，上处理体30能返回到闭合位置(图1Α)。
[0035]类似地，参考图1Β、图5Α和图5Β，等离子体处理组件10的上处理体30能保持平衡使得当上处理体30旋转到大于平衡角β的角度时，上处理体30自动旋转到锁定位置(图5Α和5Β)。例如，如果等离子体处理组件10位于如图1B所示的其正常操作位置，上处理体30能被推动围绕第一旋转轴150旋转。例如，如果上处理体30旋转超过平衡角β并且推动力停止，则例如根据作用在等离子体处理组件10上的重力，上处理体30能自动转换到锁定位置(图5Α和5Β)。平衡角β可以是小于约60° (约1.05弧度)的任意角度，例如，在一个实施方式中小于约45° (约0.79弧度)或在另一个实施方式中小于约30° (约0.52弧度)。
[0036]现在参考图3Α和3Β，铰链体130能相对于基部铰链构件110围绕第一旋转轴150旋转。在一个实施方式中，凸锁闩接合构件132的锁闩偏转表面138能被推动与在平衡角β之前的自锁闩160的倾斜的脊部164接触。因此，在与倾斜的脊部164接触后，凸锁闩接合构件132能抵消施加到自锁闩160的任何偏置。
[0037]现在参考图4Α和4Β，当铰链体130被推动超过了初始接触点(图3Α和3Β)时，铰链体130相对于第一旋转轴150的旋转能引起自锁闩160围绕第二旋转轴152旋转。在一个实施方式中，随着凸锁闩接合构件132被推动超过平衡角β，锁闩偏转表面138基本上沿着负Z方向沿着倾斜的脊部164滑动。因此，凸锁闩接合构件132能够克服施加到自锁闩160的偏置。铰链体130的继续旋转能清除路径以便于凸锁闩接合构件132进入铰链锁定腔172。凸锁闩接合构件132旋转进入铰链锁定腔172之后，凸锁闩接合构件132能释放自锁闩160的倾斜的脊部164。
[0038]一旦被释放，自锁闩160能将凸锁闩接合构件132约束在如图5Α和5Β所示的锁定位置。具体而言，施加到自锁闩160的偏置能使自锁闩160保持在锁定位置。当位于锁定位置时，自锁闩160的倾斜的脊部164与凸锁闩接合构件132的锁定表面140相配合来限制铰链组件100相对于第一旋转轴150的旋转运动。通过锁定表面140与自锁闩160的倾斜的脊部164之间的相互作用能够阻止铰链体130围绕第一旋转轴150朝着闭合位置(图1Α)旋转。因此，当凸锁闩接合构件132的锁定表面140接触自锁闩160的倾斜的脊部164时，铰链组件100能被限制在锁定位置。
[0039]现在参考图5Α，当位于锁定位置时，自锁闩160的凹进表面162沿着Y轴偏离铰链销122的中心凹进距离182。自锁闩160的倾斜的脊部164的部分沿着Y轴偏离铰链销122的中心脊距离184。例如，凸锁闩接合构件132的部分，例如，相对于Y轴锁定表面140的最低部分，当位于锁定位置时，沿着Y轴偏离铰链销122的中心凸距离186。在一个实施方式中，凹进距离182能大于或等于凸距离186并且脊距离184能小于凸距离186。在一些实施方式中，凸锁闩接合构件132的锁闩偏转表面138能被倾斜设置。具体而言，当位于锁定位置时，锁闩偏转表面138的外端(最接近倾斜的脊部164)最接近凹进表面162并且随着其移动远离倾斜的脊部164，锁闩偏转表面138逐渐移动远离凹进表面162。
[0040]因此，当位于锁定位置时，铰链组件100能被阻止返回到闭合位置。现在参考图6Α和6Β，其描绘了释放位置，自锁闩160能够在与施加到自锁闩160的偏置相反的释放方向170上旋转。由于自锁闩160在释放方向170上旋转，凸锁闩接合构件132的棘爪142能沿着自锁闩160朝向闩锁开口槽166滑动。例如，棘爪142能沿着凹进表面162以及斜面163滑动。通过施加足够量的力来克服棘爪142的偏差能将棘爪142推动进入闩锁开口槽166，即棘爪142缩回。一旦棘爪142被闩锁开口槽166接收，则棘爪142能返回到它们的偏离位置，即棘爪142延伸。因此，棘爪142能接合闩锁开口槽166并且将自锁闩160保持在释放位置。一旦位于释放位置，铰链组件100能被旋转到闭合位置。具体而言，当棘爪142沿着闩锁开口槽166滑动时，自锁闩160的倾斜的脊部164能被保持不接触凸锁闩接合构件132的锁定表面140。而且，一旦铰链体130从自锁闩160释放，棘爪142能脱离闩锁开口槽166并且允许自锁闩160根据所施加的偏置围绕第二旋转轴152旋转。因此，当等离子体处理组件10返回到闭合位置时，自锁闩160能自动复位。
[0041]现在应当理解的是，本文所描述的实施方式涉及具有能自动锁定在开放位置的上处理体的等离子体处理组件。具体而言，自锁闩能被偏置以确保铰链组件能自动锁定在锁定位置(例如，打开用于维护)，并且当上处理体转变到闭合位置时确保铰链组件的自锁闩的自动复位。此外，铰链组件能被配置为包括能在等离子体处理组件的初始制造过程中被设置的对准特征。
[0042]应当注意的是，本文可能使用术语“基本上”和“约”来表示不确定性的固有程度，其可能归因于任何定量比较、值、测量、或其它表示。本文也使用这些术语来表示相对于所描述的参考值，定量表示可以变化而不会导致所讨论的主题的基本功能发生变化的程度。
[0043]此外，应当注意的是，诸如上、下、垂直、水平等参照方位在本文中是参考XYZ坐标系统而言的。为清楚起见提供参照方位，并不起限制作用。具体而言，应当注意提供的这种参照方位参考图1A-6B所示的XYZ坐标系统。因此,通过对相对于所述结构提供的坐标系统做相应的转换可以逆转方向或者朝向任何方向从而延伸本文所述的实施方式。
[0044]尽管本文图示和描述了具体的实施方式，但应当理解的是，在不背离所要求保护的主题和范围的情况下可以做出各种其他变化和修改。此外，尽管本文已经描述了所要求的保护的主题的各个方面，但这些方面不需结合使用。因此，意图是所附权利要求覆盖所有在所要求保护的主题的范围之内的这些变化和修改。
[0045]值得注意的是，一个或多个以下的权利要求使用术语“其中”作为过渡语。用于限定本发明的目的而言，应当注意的是权利要求中引入的该术语作为开放式过渡语，其被用来引入对结构的系列特征的详述并且应该以与解释更常用的开放式前序术语“包括”的方式类似的方式解释。
【权利要求】
1.一种等离子体处理组件，其包括: 下处理体，其包含形成于其中的下真空室； 安装到所述下处理体的基部铰链构件； 与所述基部铰链构件可枢转地接合并安装到上处理体的铰链体，其中所述基部铰链构件和所述铰链体彼此围绕第一旋转轴相对旋转，使得所述上处理体的运动由所述基部铰链构件和所述铰链体约束，并且其中所述铰链体包括凸锁闩接合构件； 与所述基部铰链构件可枢转地接合的自锁闩，其中所述自锁闩和所述基部铰链构件彼此围绕第二旋转轴相对旋转，并且所述自锁闩被偏置在偏置方向，并且其中: 当所述铰链体围绕所述第一旋转轴从闭合位置并且朝向锁定位置旋转时，所述凸锁闩接合构件接触所述自锁闩并且使所述自锁闩围绕所述第二旋转轴沿与偏置方向相反的方向旋转；以及 当所述铰链体围绕所述第一旋转轴旋转到锁定位置时，所述自锁闩围绕所述第二旋转轴沿偏置方向旋转并且阻止所述铰链体围绕所述第一旋转轴旋转到所述闭合位置。
2.如权利要求1所述的等离子体处理组件，其中所述基部铰链构件包括被耦合到所述下处理体的安装平台以及延伸远离所述安装平台的一个或多个瓣构件。
3.如权利要求2所述的等离子体处理组件，其还包括细长狭槽和铰链销，其中所述细长狭槽形成在所述瓣 构件中的至少一个中，并且所述铰链销基本上对准所述第一旋转轴插入所述细长狭槽。
4.如权利要求3所述的等离子体处理组件，其中所述铰链体包围并围绕所述铰链销旋转。
5.如权利要求4所述的等离子体处理组件，其中所述铰链体位于所述瓣构件中的两个之间。
6.如权利要求3所述的等离子体处理组件，其中所述铰链销固定于所述细长狭槽内并且在所述细长狭槽内垂直滑动。
7.如权利要求3所述的等离子体处理组件，还包括固定螺丝，其中所述固定螺丝与所述瓣构件中的一个接合并且接触位于所述细长狭槽内的所述铰链销。
8.如权利要求1所述的等离子体处理组件，其中所述第二旋转轴基本垂直于所述第一旋转轴。
9.如权利要求1所述的等离子体处理组件，其中所述自锁闩包括凹进表面和倾斜的脊部，其中所述凹进表面和所述倾斜的脊部限定铰链锁定腔。
10.如权利要求9所述的等离子体处理组件，其中所述凸锁闩接合构件包括棘爪以及所述自锁闩包括锁闩开口槽，使得当所述自锁闩围绕所述第二旋转轴从所述闭合位置并且朝向释放位置旋转时，所述凸锁闩接合构件的所述棘爪接合所述自锁闩的所述锁闩开口槽并且将所述自锁闩保持在所述释放位置。
11.如权利要求10所述的等离子体处理组件，其中当所述铰链体围绕所述第一旋转轴旋转远离所述释放位置并且朝向所述闭合位置时，所述凸锁闩接合构件的所述棘爪脱离所述自锁闩的所述锁闩开口槽并且所述自锁闩围绕所述第二旋转轴沿所述偏置方向旋转。
12.如权利要求1所述的等离子体处理组件，其中所述上处理体是平衡的，使得当所述上处理体围绕所述第一旋转轴旋转小于相对于所述下处理体测得的平衡角的角度时，所述上处理体自动旋转到所述闭合位置。
13.如权利要求1所述的等离子体处理组件，其中所述上处理体是平衡的，使得当所述上处理体围绕所述第一旋转轴旋转大于相对于所述下处理体测得的平衡角的角度时，所述上处理体自动旋转到所述锁定位置。
14.如权利要求13所述的等离子体处理组件，其中所述平衡角小于约60°(约1.05弧度)。
15.如权利要求1所述的等离子体处理组件，还包括位于所述上处理体或者所述下处理体中的O形环，其中当处于所述闭合位置时，所述上处理体与所述下处理体互锁并且所述O形环密封所述下真空室。
16.如权利要求1所述 的等离子体处理组件，其中所述上处理体包括定位销以及所述下处理体包括销接收孔，并且当处于闭合位置时，所述定位销和所述销接收孔互锁以相对于所述下处理体对准所述上处理体。
【文档编号】H05H1/34GK104041194SQ201280057151
【公开日】2014年9月10日 申请日期:2012年11月7日 优先权日:2011年11月21日
【发明者】格雷格·塞克斯顿 申请人:朗姆研究公司