1.一种防污片，其具有由防污层形成用组合物形成的防污层，所述防污层形成用组合物含有下述式(a)所示的硅烷类化合物(A)和下述式(b)所示的硅烷类化合物(B)，其中，
相对于(A)成分100摩尔％，所述防污层形成用组合物中的(B)成分的含量为8～90摩尔％，
所述防污层是在氨气氛围中使由所述防污层形成用组合物形成的涂膜干燥固化而形成的层，
式(a)：Si(OR1)p(X1)4-p
式(a)中，R1表示碳原子数1～6的烷基，X1表示卤原子，存在多个R1、X1时，该多个R1、X1各自互为相同或不同，p表示0～4的整数，
式(b)：R2Si(OR3)q(X2)3-q
式(b)中，R2表示未取代或具有取代基的碳原子数4～14的烷基，R3表示碳原子数1～6的烷基，X2表示卤原子，存在多个R3、X2时，该多个R3、X2各自互为相同或不同，q表示0～3的整数。
2.根据权利要求1所述的防污片，其中，所述防污层是在氨浓度0.3ppm以上的气体氛围中使由所述防污层形成用组合物形成的涂膜干燥固化而形成的层。
3.根据权利要求1或2所述的防污片，其中，所述防污层形成用组合物中的(A)成分含有所述式(a)中p为4的硅烷类化合物。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的防污片，其中，所述防污层形成用组合物中的(B)成分含有所述式(b)中q为3的硅烷类化合物。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的防污片，其中，所述防污层形成用组合物还含有酸催化剂(C)。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的防污片，其具有基材和所述防污层。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的防污片，其具有在基材上叠层含有(聚)硅氮烷类化合物的中间层、且在该中间层的表面上叠层所述防污层而成的结构。
8.根据权利要求1～7中任一项所述的防污片，其中，从所述防污片检测出的氨浓度为0.3ppm以上。
9.一种防污片的制造方法，该方法包括下述工序(1)～(3)，
工序(1)：制备防污层形成用组合物的工序，所述防污层形成用组合物含有下述式(a)所示的硅烷类化合物(A)和下述式(b)所示的硅烷类化合物(B)，且相对于(A)成分100摩尔％，(B)成分的含量为8～90摩尔％，
式(a)：Si(OR1)p(X1)4-p
式(a)中，R1表示碳原子数1～6的烷基，X1表示卤原子，存在多个R1、X1时，该多个R1、X1各自互为相同或不同，p表示0～4的整数，
式(b)：R2Si(OR3)q(X2)3-q
式(b)中，R2表示未取代或具有取代基的碳原子数4～14的烷基，R3表示碳原子数1～6的烷基，X2表示卤原子，存在多个R3、X2时，该多个R3、X2各自互为相同或不同，q表示0～3的整数，
工序(2)：使用工序(1)中制备的所述防污层形成用组合物形成涂膜的工序，
工序(3)：在氨气氛围中使工序(2)中形成的涂膜干燥固化，形成防污层的工序。
10.根据权利要求9所述的防污片的制造方法，其中，进行工序(3)的氨气氛围中的氨浓度为0.3ppm以上。
11.根据权利要求9或10所述的防污片的制造方法，其中，所述防污层形成用组合物还含有酸催化剂(C)。
12.根据权利要求11所述的防污片的制造方法，其中，酸催化剂(C)包含选自盐酸、磷酸、乙酸、甲酸、硫酸、甲磺酸、溴酸、对甲苯磺酸及三氟乙酸中的1种以上。
13.根据权利要求11或12所述的防污片的制造方法，其中，所述防污层形成用组合物中的(A)成分、(B)成分和(C)成分的总含量相对于该防污层形成用组合物的总量为50～100质量％。