1.一种无污染高均匀性PTFE膜覆铜板，其特征在于，它包括铜箔层(1)、PTFE薄膜层(2)和玻璃布层(3)。
2.如权利要求1所述的无污染高均匀性PTFE膜覆铜板，其特征在于，所述玻璃布层(3)为未浸渍过PTFE分散液的原态玻璃布。
3.如权利要求2所述的无污染高均匀性PTFE膜覆铜板，其特征在于，所述铜箔层(1)、PTFE薄膜层(2)、玻璃布层(3)、PTFE薄膜层(2)依次热压成型，构成PTFE膜单面覆铜板。
4.一种如权利要求2所述的无污染高均匀性PTFE膜覆铜板，其特征在于，还包括另一铜箔或金属基层(4)，所述铜箔层(1)、PTFE薄膜层(2)、玻璃布层(3)、PTFE薄膜层(2)、铜箔或金属基层(4)依次热压成型，构成PTFE膜双面覆铜板。
5.如权利要求4所述的无污染高均匀性PTFE膜覆铜板，其特征在于，它还在所述PTFE薄膜层(2)下面包括由玻璃布层(3)和PTFE薄膜层(2)依次组成的组合。
6.如权利要求5所述的无污染高均匀性PTFE膜覆铜板，其特征在于，所述组合的数量为一组或多于一组。
7.一种无污染高均匀性PTFE膜覆铜板的制备方法，包括以下步骤：
a)玻璃布与PTFE薄膜的组合：玻璃布和PTFE薄膜按不同介电常数和厚度需求,用不同型号、厚度、数量的玻璃布层和不同厚度、数量的PTFE膜层预组合成介质层胚料；
b)叠配：将步骤a)所得的胚料，和铜箔(或金属基)进行组合，放入两张钢模板之间，连续放置不同厚度的一book产品生料，待用；
c)热压复合成型：将步骤b)中叠配好的生料推入高温真空压机，在一定的温度、压力、时间、真空度配合下，热压复合成成品PTFE覆铜板。
8.一种如权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述步骤C)中的中热压复合的温度范围为：室温至410℃。
9.一种如权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述步骤C)中的中热压复合的压力范围为2至65kg/cm2。
10.一种如权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述步骤C)中的中热压复合时间范围为30分钟至240分钟，真空度为：20～60mmHg。