一种离型膜的制作方法
本发明涉及保护膜，特别涉及一种离型膜。
背景技术：
离型膜作为一种保护膜广泛应用于电子行业线路板的制造过程中，离型膜的使用可以有效减少线路板制造时胶黏剂溢出导致的产品不良。常用离型膜多采取表面涂覆的处理方法改善离型力，使离型膜面对生产过程的不同粘性需求均有良好的易剥离性；但是通过表面涂覆方式制备的pet离型膜在使用过程存在硅转移的风险，并且在剥离时常伴有残胶存留，对产品带来污染增加清洗工序耗费成本。此外，线路板传统的压合方式已经不能满足生产的要求，大部分厂家开始选用rolltoroll(卷对卷)工艺，对离型膜阻燃性、抗紫外、离型性等要求进一步提高。并且目前离型膜的离型力单一，不能满足不同下游厂商对离型力的要求。
tpx作为一种结晶度高性能优异的树脂，具有良好的耐热性、不相容性和机械性能。以tpx为原料制成的离型膜无需表面涂覆即具有优异的离型性和耐高温性，但是其耐候性和阻燃性不佳，阻燃等级为ul94hb，不利于长期存储和反复使用，影响产品良率，增加成本。
技术实现要素：
为了解决现有离型膜的离型力单一的问题，本发明提供一种离型膜。本发明提供的离型膜的离型力小，具有优异的易剥离性和贴合性；同时本发明提供的离型膜为离型力不同的双面离型膜；此外，本发明的离型膜还具有良好的阻燃性和抗紫外线性，易于运输和存储，无需涂覆，工艺简单，适用于高要求的印刷线路板生产。
为了解决上述技术问题，本发明提供如下技术方案：
本发明提供一种离型膜，所述离型膜依次包括上离型层、功能层和下离型层。
所述离型膜又称为tpx离型膜，tpx为聚4-甲基戊烯。
进一步的，所述上离型层或下离型层的外表面压花。
所述离型膜在上离型层或下离型层的外表面压花后，则上离型层与下离型层具有不同的粗糙度。
进一步的，所述上离型层和下离型层外表面的粗糙度之差为12.5-15、或下离型层和上离型层外表面的粗糙度之差为12.5-15。
进一步的，所述上离型层和下离型层外表面的粗糙度之差优选为13.6-14.9。
进一步的，所述上离型层和下离型层的表面粗糙度之差最优选为13.6。
进一步的，下离型层和上离型层外表面的粗糙度之差为13.6-14.9。
进一步的，下离型层和上离型层外表面的粗糙度之差最优选为13.6。
进一步的，所述上离型层包括无机粒子，下离型层包括无机粒子。
进一步的，所述上离型层和下离型层中的无机粒子为紫外线屏蔽剂。
进一步的，所述上离型层和下离型层中的紫外线屏蔽剂为炭黑。
进一步的，所述上离型层和下离型层中的无机粒子的粒径为5～20nm。
所述无机粒子的粒径为平均粒径。
进一步的，所述上离型层及下离型层中的无机粒子的比表面积为200～500m2/g。
进一步的，所述上离型层和下离型层中的无机粒子的粒径优选为5-10nm。
进一步的，所述上离型层和下离型层中的无机粒子的比表面积优选为200-300m2/g。
进一步的，所述上离型层和下离型层中的无机粒子的粒径最优选为10nm。
进一步的，所述上离型层和下离型层中的无机粒子的比表面积最优选为300m2/g。
进一步的，所述功能层包括无机阻燃剂。
进一步的，所述无机阻燃剂为三氧化二锑。
进一步的，所述无机阻燃剂在功能层中的含量为1.5～2％，所述百分比为重量百分比。
进一步的，所述无机阻燃剂在功能层中的含量优选为1.5％。
进一步的，所述功能层还包括有机阻燃剂，所述无机阻燃剂和有机阻燃剂组成复合阻燃剂，所述无机阻燃剂和有机阻燃剂的重量比例为1:0.8～1.5。
进一步的，所述无机阻燃剂和有机阻燃剂的重量比例优选为1:0.8。
进一步的，所述有机阻燃剂为间亚苯基四苯基双磷酸酯。
进一步的，所述复合阻燃剂为三氧化二锑和间亚苯基四苯基双磷酸酯，复合比例为1:0.8～1.5。复合比例指复合阻燃剂中无机阻燃剂和有机阻燃剂的重量比例。
进一步的，所述功能层中三氧化二锑的添加量为1.5～2％，间亚苯基四苯基双磷酸酯的添加量为1～2％。
进一步的，所述功能层中三氧化二锑的添加量优选为1.5％，间亚苯基四苯基双磷酸酯的添加量优选为1.2％。
进一步的，所述离型膜的总厚度为115μm，所述上离型层和下离型层的厚度之和为离型膜总厚度的40～60％。
进一步的，所述上离型层和下离型层的厚度之和优选为离型膜总厚度的52％。
进一步的，所述上离型层的厚度为总厚度的20～30％，下离型层的厚度为总厚度的20～30％。
进一步的，所述上离型层的厚度优选为总厚度的26％，下离型层的厚度优选为总厚度的26％。
进一步的，所述功能层的厚度为离型膜总厚度的40～60％。
进一步的，所述功能层的厚度为离型膜总厚度的48％。
进一步的，上离型层和下离型层均包括聚合物。上离型层和下离型层中的聚合物包括tpx和，选自pmma(聚甲基丙烯酸甲酯)、eva(乙烯-醋酸乙烯共聚物)、hdpe(高密度聚乙烯)中的一种或至少两种的组合。
进一步的，所述上离型层的配比为81～85％的tpx、3～7％的pmma、3～7％的hdpe、0.3～0.7％的炭黑、2％的抗氧剂、1～1.5％的热稳定剂、1.5～2％的改性蒙脱土、0.5～0.8％的消泡剂、0.7～1％的增稠剂。所述百分比为重量百分比。
进一步的，所述下离型层的配比为81～85％的tpx、3～7％的eva、3～7％的hdpe、0.3～0.7％的炭黑、2％的抗氧剂、1～1.5％热稳定剂、1.5～2％的改性蒙脱土、0.5～0.8％的消泡剂和0.7～1％的增稠剂。所述百分比为重量百分比。
进一步的，所述功能层的配比为30～31％的tpx、5％的pmma、50～53％的pe(聚乙烯)、5～5.5％的pbt(聚对苯二甲酸丁二醇酯)、2.5～4％的复合阻燃剂、1.2～2％的改性蒙脱土、0.5％的消泡剂、0.8～1％的增稠剂、1.5％的抗氧剂。所述百分比为重量百分比。
进一步的，所述离型膜中的抗氧剂是双(3,5-三级丁基-4-羟基苯基)硫醚，所述上离型层和下离型层中的热稳定剂为硫醇有机锡，所述离型膜中的消泡剂为gpes型消泡剂(聚醚消泡剂)，所述离型膜中的增稠剂为甲基纤维素。
本发明还提供一种制备离型膜的方法，所述制备方法为多层共挤流延工艺，所述制备方法包括如下步骤：
(1)上离型层、功能层和下离型层的原料经不同挤出机料筒熔融后，通过挤出机挤出，再经模头流延铸片；
(2)通过纵拉调整厚度；
(3)经压花辊在上离型层或下离型层的外表面压花；
(4)冷却定型。
其中，所述挤出机料筒包括四个温区加热段，不同温区加热段的设定温度为260～300℃。
其中，所述热定型温度为30～70℃。
其中，所述冷却温度为-5～20℃。
进一步的，所述上离型层的配比为83～85％的tpx、3～7％的pmma、3～5％的hdpe、0.5～0.7％的炭黑，炭黑的平均粒径为5-10nm、比表面积为200-300m2/g、2％的抗氧剂、1～1.2％的热稳定剂、1.5～2％的改性蒙脱土、0.6～0.8％的消泡剂、0.7～1％的增稠剂；所述功能层的配比为31％的tpx、5％的pmma、52％的pe、5％的pbt、2.7％的复合阻燃剂、1.5％的改性蒙脱土、0.5％的消泡剂、0.8％的增稠剂、1.5％的抗氧剂；所述下离型层的配比为83～85％的tpx、3～7％的eva、3～5％的hdpe、0.5～0.7％的紫外线屏蔽剂、2％的抗氧剂、1～1.2％热稳定剂、1.5～2％的改性蒙脱土、0.6～0.8％的消泡剂和0.7～1％的增稠剂。上述技术方案包括实施例5、实施例8、实施例10和实施例14-15。
进一步的，所述上离型层的配比为85％的tpx、3％的pmma、5％的hdpe、0.7％的炭黑，炭黑的平均粒径为10nm、比表面积为300m2/g、2％的抗氧剂、1％的热稳定剂、1.5％的改性蒙脱土、0.8％的消泡剂、1％的增稠剂；所述功能层的配比为31％的tpx、5％的pmma、52％的pe、5％的pbt、2.7％的复合阻燃剂、1.5％的改性蒙脱土、0.5％的消泡剂、0.8％的增稠剂、1.5％的抗氧剂；所述下离型层的配比为85％的tpx、3％的eva、5％的hdpe、0.7％的紫外线屏蔽剂、2％的抗氧剂、1％热稳定剂、1.5％的改性蒙脱土、0.8％的消泡剂和0.7～1％的增稠剂。上述技术方案包括实施例8和实施例15。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明提供的离型膜中的上离型层和下离型层包括无机粒子，上离型层和下离型层中的无机粒子具有良好的紫外线屏蔽性和抗氧化性，少量添加即可改善tpx离型膜材料的耐候性；中间的功能层为阻燃层，采用无机和有机复合阻燃剂，可以大幅提高离型膜的阻燃性；上离型层和下离型层的表面粗糙度的差异可以增大离型膜的离型力变化范围，以应对不同下游厂商对离型力的要求；本发明提供的离型膜为离型力不同的双面离型膜，不需要采取表面涂覆的处理方法改善离型力，不存在硅转移的风险和剥离时有残胶存留，降低了污染和生产成本。因此本发明提供的离型膜具有优异的离型性和耐候性，易于储存不易黄变，高温使用时机械强度良好、且有优异的阻燃抗紫外线性能；可用于对离型膜要求较高的线路板rolltoroll(卷对卷)制程。
附图说明
图1为本发明提供的离型膜的结构示意图；
图2为本发明提供的离型膜压合示意图。
具体实施方式
下面结合图1和具体实施例对本发明中的技术方案进行清晰详细的描述。
图1为本发明提供的离型膜的结构示意图，a表示上离型层、b为功能层、c表示下离型层。
图2为本发明提供的离型膜压合示意图，1表示本发明提供的离型膜，2表示覆盖膜，3表示柔性线路板。
本发明提供的tpx离型膜的制备方法为多层共挤流延工艺，所述制备方法包括以下步骤：
(1)上离型层、功能层和下离型层的原料经不同挤出机料筒熔融后，通过挤出机挤出，再经模头流延铸片；
(2)通过纵拉调整厚度；
(3)经压花辊在上离型层或下离型层的外表面压花；
(4)冷却定型。
其中，所述挤出机料筒包括四个温区加热段，不同温区加热段的设定温度为260～300℃。
其中，所述热定型温度为30～70℃。
其中，所述冷却温度为-5～20℃。
本发明提供的tpx离型膜的主要性能的测试方法简述如下：
离型性：将tesa7475胶带贴于测试的离型面，用压辊来回压三次使胶带和离型面充分接触，放置24h后，以180°剥离角度剥离，记录离型力的测试结果。离型力越小剥离越容易，离型膜的离型性越好。
阻燃性：对产品进行10s的燃烧测试，根据自熄时间和滴落情况判断阻燃等级，阻燃等级由hb、v-2、v-1向v-0逐级递增，hb为最低的阻燃等级。
抗紫外线性：采用抗紫外线老化试验仪进行测试，观察材料是否存在明显颜色变化。
粗糙度：采用粗糙度测试仪进行测试，探针接触材料表面，显示读数即材料表面粗糙度。
黄变：将材料置于耐黄变测试机中，温度设定为50℃，材料与灯间距为25cm，照射材料并观察材料有无颜色变黄趋势。
实施例1
本发明提供一种离型膜，所述离型膜依次包括上离型层、功能层和下离型层。
所述上离型层a的配比为：
tpx：81％，pmma：5％，hdpe：7％，炭黑：0.3％，炭黑的平均粒径为10nm、比表面积为300m2/g，双(3,5-三级丁基-4-羟基苯基)硫醚：2％，硫醇有机锡：1.5％，改性蒙脱土：2％，gpes：0.5％，甲基纤维素：0.7％。
所述功能层b的配比为：
tpx：31％，pmma：5％，pe：50％，pbt：5％，三氧化二锑：2％，间亚苯基四苯基双磷酸酯：2％，改性蒙脱土：2％，gpes：0.5％，甲基纤维素：1％，双(3,5-三级丁基-4-羟基苯基)硫醚：1.5％。
所述下离型层c的配比为：
tpx：81％，eva：5％，hdpe：7％，炭黑：0.3％，炭黑的平均粒径为10nm、比表面积为300m2/g，双(3,5-三级丁基-4-羟基苯基)硫醚：2％，硫醇有机锡：1.5％，改性蒙脱土：2％，gpes：0.5％，甲基纤维素：0.7％。
离型膜的制备方法包括以下步骤：
(1)上离型层、功能层和下离型层的原料经不同挤出机料筒熔融后，通过挤出机挤出，再经模头流延铸片；
(2)通过纵拉调整厚度；
(3)经压花辊在上离型层的外表面压花；
(4)冷却定型。
所述离型膜的制备工艺中，挤出机料筒四个温区的温度分别为260℃、270℃、270℃、270℃，热定型温度为50℃，冷却温度为10℃。
制得的离型膜的总厚度为115μm，上离型层a和下离型层c的厚度分别为总厚度的20％，功能层b的厚度为总厚度的60％，性能测试结果如表1所示。
实施例2
如实施例1提供的离型膜。
所述上离型层a的配比为：
tpx：81％，pmma：5％，hdpe：7％，炭黑：0.3％，炭黑的平均粒径为10nm、比表面积为300m2/g，双(3,5-三级丁基-4-羟基苯基)硫醚：2％，硫醇有机锡：1.5％，改性蒙脱土：2％，gpes：0.5％，甲基纤维素：0.7％；
所述功能层b的配比为：
tpx：31％，pmma：5％，pe：52％，pbt：5％，三氧化二锑：1.5％，间亚苯基四苯基双磷酸酯：1.2％，改性蒙脱土：1.5％，gpes：0.5％，甲基纤维素：0.8％，双(3,5-三级丁基-4-羟基苯基)硫醚：1.5％；
所述下离型层c的配比为：
tpx：81％，eva：5％，hdpe：7％，炭黑：0.3％，炭黑的平均粒径为10nm比表面积为300m2/g，双(3,5-三级丁基-4-羟基苯基)硫醚：2％，硫醇有机锡：1.5％，改性蒙脱土：2％，gpes：0.5％，甲基纤维素：0.7％；
所述离型膜的制备工艺中，挤出机料筒四个温区温度分别为270℃、280℃、280℃、280℃，热定型温度为30℃，冷却温度为-5℃。
制得的离型膜的上离型层a的外表面压花，总厚度为115μm，上离型层a和下离型层c厚度分别为总厚度的26％，功能层b的厚度为总厚度的48％，性能测试结果如表1所示。制得的离型膜的性能测试结果如表1所示。
实施例3
如实施例1提供的离型膜。
所述上离型层a的配比为：
tpx：81％，pmma：5％，hdpe：7％，炭黑：0.3％，炭黑的平均粒径为10nm、比表面积为300m2/g，双(3,5-三级丁基-4-羟基苯基)硫醚：2％，硫醇有机锡：1.5％，改性蒙脱土：2％，gpes：0.5％，甲基纤维素：0.7％；
所述功能层b的配比为：
tpx：30％，pmma：5％，pe：53％，pbt：5.5％，三氧化二锑：1.5％，间亚苯基四苯基双磷酸酯：1％，改性蒙脱土：1.2％，gpes：0.5％，甲基纤维素：0.8％，双(3,5-三级丁基-4-羟基苯基)硫醚：1.5％；
所述下离型层c的配比为：
tpx：81％，eva：5％，hdpe：7％，炭黑：0.3％，炭黑的平均粒径为10nm比表面积为300m2/g，双(3,5-三级丁基-4-羟基苯基)硫醚：2％，硫醇有机锡：1.5％，改性蒙脱土：2％，gpes：0.5％，甲基纤维素：0.7％；
所述离型膜的制备工艺中，挤出机料筒四个温区温度分别为280℃、300℃、300℃、300℃，热定型温度为70℃，冷却温度为20℃。
制得的离型膜的上离型层a的外表面压花，总厚度为115μm，上离型层a和下离型层c厚度分别为总厚度的30％，功能层b厚度为总厚度的40％，性能测试结果如表1所示。
实施例4
如实施例1提供的离型膜。
所述上离型层a的配比为：
tpx：83％，pmma：7％，hdpe：3％，炭黑：0.5％，炭黑的平均粒径为10nm、比表面积为300m2/g，双(3,5-三级丁基-4-羟基苯基)硫醚：2％，硫醇有机锡：1.2％，改性蒙脱土：2％，gpes：0.6％，甲基纤维素：0.7％；
所述功能层b的配比为：
tpx：31％，pmma：5％，pe：50％，pbt：5％，三氧化二锑：2％，间亚苯基四苯基双磷酸酯：2％，改性蒙脱土：2％，gpes：0.5％，甲基纤维素：1％，双(3,5-三级丁基-4-羟基苯基)硫醚(抗氧剂)：1.5％；
所述下离型层c的配比为：
tpx：83％，eva：7％，hdpe：3％，炭黑：0.5％，炭黑的平均粒径为10nm、比表面积为300m2/g，双(3,5-三级丁基-4-羟基苯基)硫醚：2％，硫醇有机锡：1.2％，改性蒙脱土：2％，gpes：0.6％，甲基纤维素：0.7％；
所述离型膜的制备工艺中，挤出机料筒四个温区温度分别为260℃、270℃、270℃、270℃，热定型温度为50℃，冷却温度为10℃。
制得的离型膜的上离型层a的外表面压花，厚度为115μm，上离型层a和下离型层c厚度分别为总厚度的20％，功能层b厚度为总厚度的60％，性能测试结果如表1所示。
实施例5
如实施例1提供的离型膜。
所述上离型层a的配比为：
tpx：83％，pmma：7％，hdpe：3％，炭黑：0.5％，炭黑的平均粒径为10nm、比表面积为300m2/g，双(3,5-三级丁基-4-羟基苯基)硫醚：2％，硫醇有机锡：1.2％，改性蒙脱土：2％，gpes：0.6％，甲基纤维素：0.7％；
所述功能层b的配比为：
tpx：31％，pmma：5％，pe：52％，pbt：5％，三氧化二锑：1.5％，间亚苯基四苯基双磷酸酯：1.2％，改性蒙脱土：1.5％，gpes：0.5％，甲基纤维素：0.8％，双(3,5-三级丁基-4-羟基苯基)硫醚：1.5％；
所述下离型层c的配比为：
tpx：83％，eva：7％，hdpe：3％，炭黑：0.5％，炭黑的平均粒径为10nm、比表面积为300m2/g，双(3,5-三级丁基-4-羟基苯基)硫醚：2％，硫醇有机锡：1.2％，改性蒙脱土：2％，gpes：0.6％，甲基纤维素：0.7％；
所述离型膜的制备工艺中，挤出机料筒四个温区温度分别为270℃、280℃、280℃、280℃，热定型温度为30℃，冷却温度为-5℃。
制得的离型膜的上离型层a的外表面压花，厚度为115μm，上离型层a和下离型层c厚度分别为总厚度的26％，功能层b厚度为总厚度的48％，性能测试结果如表1所示。
实施例6
如实施例1提供的离型膜。
所述上离型层a的配比为：
tpx：83％，pmma：7％，hdpe：3％，炭黑：0.5％，炭黑的平均粒径为10nm、比表面积为300m2/g，双(3,5-三级丁基-4-羟基苯基)硫醚：2％，硫醇有机锡：1.2％，改性蒙脱土：2％，gpes：0.6％，甲基纤维素：0.7％；
所述功能层b的配比为：
tpx：30％，pmma：5％，pe：53％，pbt：5.5％，三氧化二锑：1.5％，间亚苯基四苯基双磷酸酯：1％，改性蒙脱土：1.2％，gpes：0.5％，甲基纤维素：0.8％，双(3,5-三级丁基-4-羟基苯基)硫醚：1.5％；
所述下离型层c的配比为：
tpx：83％，eva：7％，hdpe：3％，炭黑：0.5％，炭黑的平均粒径为10nm、比表面积为300m2/g，双(3,5-三级丁基-4-羟基苯基)硫醚：2％，硫醇有机锡：1.2％，改性蒙脱土：2％，gpes：0.6％，甲基纤维素：0.7％；
所述离型膜的制备工艺中，挤出机料筒四个温区温度分别为280℃、300℃、300℃、300℃，热定型温度为70℃，冷却温度为20℃。
制得的离型膜的上离型层a的外表面压花，厚度为115μm，上离型层a和下离型层c厚度分别为总厚度的30％，功能层b厚度为总厚度的40％，性能测试结果如表1所示。
实施例7
如实施例1提供的离型膜。
所述上离型层a的配比为：
tpx：85％，pmma：3％，hdpe：5％，炭黑：0.7％，炭黑的平均粒径为10nm、比表面积为300m2/g，双(3,5-三级丁基-4-羟基苯基)硫醚：2％，硫醇有机锡：1％，改性蒙脱土：1.5％，gpes：0.8％，甲基纤维素：1％；
所述功能层b的配比为：
tpx：31％，pmma：5％，pe：50％，pbt：5％，三氧化二锑：2％，间亚苯基四苯基双磷酸酯：2％，改性蒙脱土：2％，gpes：0.5％，甲基纤维素：1％，双(3,5-三级丁基-4-羟基苯基)硫醚：1.5％；
所述下离型层c的配比为：
tpx：85％，eva：3％，hdpe：5％，炭黑：0.7％，炭黑的平均粒径为10nm、比表面积为300m2/g，双(3,5-三级丁基-4-羟基苯基)硫醚：2％，硫醇有机锡：1％，改性蒙脱土：1.5％，gpes：0.8％，甲基纤维素：1％；
所述离型膜的制备工艺中，挤出机料筒四个温区温度分别为260℃、270℃、270℃、270℃，热定型温度为50℃，冷却温度为10℃。
制得的离型膜的上离型层a的外表面压花，厚度为115μm，上离型层a和下离型层c厚度分别为总厚度的20％，功能层b厚度为总厚度的60％，性能测试结果如表1所示。
实施例8
如实施例1提供的离型膜。
所述上离型层a的配比为：
tpx：85％，pmma：3％，hdpe：5％，炭黑：0.7％，炭黑的平均粒径为10nm、比表面积为300m2/g，双(3,5-三级丁基-4-羟基苯基)硫醚：2％，硫醇有机锡：1％，改性蒙脱土：1.5％，gpes：0.8％，甲基纤维素：1％；
所述功能层b的配比为：
tpx：31％，pmma：5％，pe：52％，pbt：5％，三氧化二锑：1.5％，间亚苯基四苯基双磷酸酯：1.2％，改性蒙脱土：1.5％，gpes：0.5％，甲基纤维素：0.8％，双(3,5-三级丁基-4-羟基苯基)硫醚：1.5％；
所述下离型层c的配比为：
tpx：85％，eva：3％，hdpe：5％，炭黑：0.7％，炭黑的，平均粒径为10nm、比表面积为300m2/g，双(3,5-三级丁基-4-羟基苯基)硫醚：2％，硫醇有机锡：1％，改性蒙脱土：1.5％，gpes：0.8％，甲基纤维素：1％；
所述离型膜的制备工艺中，挤出机料筒四个温区温度分别为270℃、280℃、280℃、280℃，热定型温度为30℃，冷却温度为-5℃。
制得的离型膜的上离型层a的外表面压花，厚度为115μm，上离型层a和下离型层c厚度分别为总厚度的26％，功能层b厚度为总厚度的48％，性能测试结果如表1所示。
实施例9
如实施例1提供的离型膜。
所述上离型层a的配比为：
tpx：85％，pmma：3％，hdpe：5％，炭黑：0.7％，炭黑的平均粒径为10nm比表面积为300m2/g，双(3,5-三级丁基-4-羟基苯基)硫醚：2％，硫醇有机锡：1％，改性蒙脱土：1.5％，gpes：0.8％，甲基纤维素：1％；
所述功能层b的配比为：
tpx：30％，pmma：5％，pe：53％，pbt：5.5％，三氧化二锑：1.5％，间亚苯基四苯基双磷酸酯：1％，改性蒙脱土：1.2％，gpes：0.5％，甲基纤维素：0.8％，双(3,5-三级丁基-4-羟基苯基)硫醚：1.5％；
所述下离型层c的配比为：
tpx：85％，eva：3％，hdpe：5％，炭黑：0.7％，炭黑的平均粒径为10nm、比表面积为300m2/g，双(3,5-三级丁基-4-羟基苯基)硫醚：2％，硫醇有机锡：1％，改性蒙脱土：1.5％，gpes：0.8％，甲基纤维素：1％；
所述离型膜的制备工艺中，挤出机料筒四个温区温度分别为280℃、300℃、300℃、300℃，热定型温度为70℃，冷却温度为20℃。
制得的离型膜的上离型层a的外表面压花，厚度为115μm，上离型层a和下离型层c厚度分别为总厚度的30％，功能层b厚度为总厚度的40％，性能测试结果如表1所示。
如实施例1提供的离型膜。
tpx：85％，pmma：3％，hdpe：5％，炭黑：0.7％，炭黑的平均粒径为5nm、比表面积为200m2/g，双(3,5-三级丁基-4-羟基苯基)硫醚：2％，硫醇有机锡：1％，改性蒙脱土：1.5％，gpes：0.8％，甲基纤维素：1％；
所述功能层b的配比为：
tpx：31％，pmma：5％，pe：52％，pbt：5％，三氧化二锑：1.5％，间亚苯基四苯基双磷酸酯：1.2％，改性蒙脱土：1.5％，gpes：0.5％，甲基纤维素：0.8％，双(3,5-三级丁基-4-羟基苯基)硫醚：1.5％；
所述下离型层c的配比为：
tpx：85％，eva：3％，hdpe：5％，炭黑：0.7％，炭黑的平均粒径为5nm、比表面积为200m2/g，双(3,5-三级丁基-4-羟基苯基)硫醚：2％，硫醇有机锡：1％，改性蒙脱土：1.5％，gpes：0.8％，甲基纤维素：1％；
所述离型膜的制备工艺中，挤出机料筒四个温区温度分别为280℃、300℃、300℃、300℃，热定型温度为70℃，冷却温度为20℃。
制得的离型膜的上离型层a的外表面压花，厚度为115μm，上离型层a和下离型层c厚度分别为总厚度的26％，功能层b厚度为总厚度的48％，性能测试结果如表1所示。
实施例11
如实施例1提供的离型膜。
所述上离型层a的配比为：
tpx：85％，pmma：3％，hdpe：5％，炭黑：0.7％，炭黑的平均粒径为20nm比表面积为500m2/g，双(3,5-三级丁基-4-羟基苯基)硫醚：2％，硫醇有机锡：1％，改性蒙脱土：1.5％，gpes：0.8％，甲基纤维素：1％；
所述功能层b的配比为：
tpx：31％，pmma：5％，pe：52％，pbt：5％，三氧化二锑：1.5％，间亚苯基四苯基双磷酸酯：1.2％，改性蒙脱土：1.5％，gpes：0.5％，甲基纤维素：0.8％，双(3,5-三级丁基-4-羟基苯基)硫醚：1.5％；
所述下离型层c的配比为：
tpx：85％，eva：3％，hdpe：5％，炭黑：0.7％，炭黑的平均粒径为20nm、比表面积为500m2/g，双(3,5-三级丁基-4-羟基苯基)硫醚：2％，硫醇有机锡：1％，改性蒙脱土：1.5％，gpes：0.8％，甲基纤维素：1％；
所述离型膜的制备工艺中，挤出机料筒温度四个温度分别为280℃、300℃、300℃、300℃，热定型温度为70℃，冷却温度为20℃。
制得的离型膜的上离型层a的外表面压花，厚度为115μm，上离型层a和下离型层c厚度分别为总厚度的26％，功能层b厚度为总厚度的48％，性能测试结果如表1所示。
实施例12
如实施例1提供的离型膜，其不同之处在于，制得的离型膜的下离型层c的外表面压花。
实施例13
如实施例2提供的离型膜，其不同之处在于，制得的离型膜的下离型层c的外表面压花。
实施例14
如实施例5提供的离型膜，其不同之处在于，制得的离型膜的下离型层c的外表面压花。
实施例15
如实施例8提供的离型膜，其不同之处在于，制得的离型膜的下离型层c的外表面压花。
表1实施例1-15制备的离型膜的性能测试结果
由表1可以看出，本发明提供的离型膜具有良好的离型性、阻燃性、抗紫外线性和抗黄变性能。其中实施例5、8、10和实施例14-15提供的离型膜的综合性能较好，上离型层的离型力为5-6g/in、下离型层的离型力为17-20g/in，或上离型层的离型力为17g/in、下离型层的离型力为5-6g/in、阻燃等级为v-1、在抗紫外线老化实验仪中至多有轻微颜色变化、无黄变现象。特别的，实施例8和实施例15提供的离型膜的综合性能最好，上离型层的离型力为6g/in、下离型层的离型力为17g/in，或上离型层的离型力为17g/in、下离型层的离型力为6g/in、阻燃等级为v-1、在抗紫外线老化实验仪中无颜色变化、无黄变现象。
以上所述，仅为本发明的较佳实施例而已，并非用于限定本发明的保护范围。凡是根据本发明内容所做的均等变化与修饰，均涵盖在本发明的专利范围内。
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