本实用新型涉及材料技术领域，特别是涉及一种无溶剂离型膜。
背景技术：
无溶剂PET离型膜，主要是指以PET作为基材，在PET基材上涂抹一层无溶剂离型物质，无溶剂离型物质主要是指无溶剂型干硅。无溶剂PET离型膜被广泛应用于电子模切、背光模切、亚克力胶底膜结合、胶粘制品带胶腹底贴合、陶瓷电容行业等。
然而，现有的无溶剂PET离型膜在高温(150摄氏度以上)下易变形，对于一些温度稍高(150摄氏度以上)的领域的应用受限。
技术实现要素：
基于此，有必要提供一种能够耐高温的无溶剂离型膜。
一种无溶剂离型膜，包括PET基材层、纳米二氧化硅涂层以及无溶剂涂层，所述纳米二氧化硅涂层贴合所述PET基材层，所述无溶剂涂层贴合所述纳米二氧化硅涂层远离所述PET基材层的侧面。
在其中一个实施例中，无溶剂离型膜还包括光油涂层，所述光油涂层位于所述纳米二氧化硅涂层与所述PET基材层之间，所述光有涂层贴合所述纳米二氧化硅涂层远离所述无溶剂涂层的侧面，所述PET基材层贴合所述光油涂层远离所述纳米二氧化硅涂层的侧面。
在其中一个实施例中，无溶剂离型膜还包括正温度系数材料层，所述正温度系数材料层设置于所述纳米二氧化硅涂层和所述无溶剂涂层之间，所述正温度系数材料层贴合所述纳米二氧化硅涂层远离所述光油涂层的侧面，所述无溶剂涂层贴合所述正温度系数材料层远离所述纳米二氧化硅涂层的侧面。
在其中一个实施例中，所述PET基材层靠近所述纳米二氧化硅涂层的侧面上设置有凸起，所述纳米二氧化硅涂层靠近所述PET基材层的侧面上设置有与所述凸起相配合的凹槽。
在其中一个实施例中，所述PET基材层靠近所述纳米二氧化硅涂层的侧面上设置有多个凸起，所述纳米二氧化硅涂层靠近所述PET基材层的侧面上设置有多个凹槽，各所述凸起一一配合各所述凹槽。
在其中一个实施例中，无溶剂离型膜还包括聚丙烯腈层，所述聚丙烯腈层位于PET基材层和所述纳米二氧化硅涂层之间，所述聚丙烯腈层贴合所述远离所述无溶剂涂层的侧面，所述PET基材层贴合所述聚丙烯腈层远离所述纳米二氧化硅涂层的侧面。
在其中一个实施例中，所述聚丙烯腈层、所述PET基材层的厚度的比值为1：(2.2～4.1)。
在其中一个实施例中，所述聚丙烯腈层、所述PET基材层的厚度的比值为1：(3.8～4.02)。
在其中一个实施例中，所述聚丙烯腈层、所述PET基材层的厚度的比值为1：3.87。
在其中一个实施例中，所述无溶剂涂层的厚度为20nm～200nm。
上述无溶剂离型膜，通过在PET基材层与无溶剂涂层之间设置纳米二氧化硅涂层，纳米二氧化硅涂层具有较好的耐高温能力和隔热能力，能够减少PET基材层在高温下的变形，能够适用于150摄氏度以上的一些领域，能够耐受150摄氏度～200摄氏度的高温，使得无溶剂离型膜的应用领域更为广泛。
附图说明
图1为本实用新型一实施例的无溶剂离型膜的结构示意图。
具体实施方式
为了便于理解本实用新型，为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型，附图中给出了本实用新型的较佳实施方式。但是，本实用新型可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施方式。相反地，提供这些实施方式的目的是使对本实用新型的公开内容理解的更加透彻全面。本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进，因此本实用新型不受下面公开的具体实施例的限制。
此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。在本实用新型的描述中，“若干”的含义是至少一个，例如一个，两个等，除非另有明确具体的限定。
需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
例如，一种无溶剂离型膜，包括PET基材层、纳米二氧化硅涂层以及无溶剂涂层，所述纳米二氧化硅涂层贴合所述PET基材层，所述无溶剂涂层贴合所述纳米二氧化硅涂层远离所述PET基材层的侧面。
为了进一步说明上述无溶剂离型膜，又一个例子是，请参阅图1，无溶剂离型膜10包括PET基材层110、纳米二氧化硅涂层120以及无溶剂涂层130，所述纳米二氧化硅涂层120贴合所述PET基材层110，所述无溶剂涂层130贴合所述纳米二氧化硅涂层120远离所述PET基材层110的侧面。所述纳米二氧化硅涂层最高可以耐受温度1300摄氏度左右，且其导热系数只有0.017，具备较好的隔热能力，如此，通过在PET基材层与无溶剂涂层之间设置纳米二氧化硅涂层，纳米二氧化硅涂层具有较好的耐高温能力和隔热能力，能够减少PET基材层在高温下的变形，能够使上述无溶剂离型膜适用于150摄氏度以上的一些领域，能够耐受150摄氏度～200摄氏度的高温，使得无溶剂离型膜的应用领域更为广泛。又如，所述无溶剂涂层的厚度为20nm～200nm，又如，所述无溶剂涂层的厚度为50nm～100nm，又如，所述无溶剂涂层的厚度为72nm，如此，能够提供较为合适的离型力度范围，便于供客户进行选择。
为了使PET基材层和纳米二氧化硅涂层结合得较为牢固，减少所述PET基材层和所述纳米二氧化硅涂层之间发生相对位移，一实施例中，无溶剂离型膜还包括光油涂层，所述光油涂层位于所述纳米二氧化硅涂层与所述PET基材层之间，所述光有涂层贴合所述纳米二氧化硅涂层远离所述无溶剂涂层的侧面，所述PET基材层贴合所述光油涂层远离所述纳米二氧化硅涂层的侧面。如此，通过在所述纳米二氧化硅涂层与所述PET基材层之间设置光油涂层，能够使PET基材层和纳米二氧化硅涂层结合得较为牢固，减少所述PET基材层和所述纳米二氧化硅涂层之间发生相对位移，进一步增强无溶剂离型膜在150摄氏度～200摄氏度下的稳定性。作为另一种实施方式，所述PET基材层靠近所述纳米二氧化硅涂层的侧面上设置有凸起，所述纳米二氧化硅涂层靠近所述PET基材层的侧面上设置有与所述凸起相配合的凹槽。又如，所述PET基材层靠近所述纳米二氧化硅涂层的侧面上设置有多个凸起，所述纳米二氧化硅涂层靠近所述PET基材层的侧面上设置有多个凹槽，各所述凸起一一配合各所述凹槽。如此，通过凸起和凹槽的配合，能够使PET基材层和纳米二氧化硅涂层结合得较为牢固，减少所述PET基材层和所述纳米二氧化硅涂层之间发生相对位移，进一步增强无溶剂离型膜在150摄氏度～200摄氏度下的稳定性。
为了增强无溶剂离型膜在高温下的绝缘能力，一实施例中，无溶剂离型膜还包括正温度系数材料层，所述正温度系数材料层设置于所述纳米二氧化硅涂层和所述无溶剂涂层之间，所述正温度系数材料层贴合所述纳米二氧化硅涂层远离所述光油涂层的侧面，所述无溶剂涂层贴合所述正温度系数材料层远离所述纳米二氧化硅涂层的侧面。正温度系数(PTC)是指材料的电阻值会随温度上升而上升的材料，如此，通过在所述纳米二氧化硅涂层和所述无溶剂涂层之间设置正温度系数材料层，能够增强无溶剂离型膜在高温下的绝缘能力。
为了进一步增强无溶剂离型膜的拉伸强度，一实施例中，无溶剂离型膜还包括聚丙烯腈层，所述聚丙烯腈层位于PET基材层和所述纳米二氧化硅涂层之间，所述聚丙烯腈层贴合所述远离所述无溶剂涂层的侧面，所述PET基材层贴合所述聚丙烯腈层远离所述纳米二氧化硅涂层的侧面。聚丙烯腈层具有较好的弹性，强度较为稳定，能够进一步增强耐高温PET离型膜的拉伸轻度，尤其需要说明的是，通过设置所述纳米二氧化硅涂层，纳米二氧化硅涂层较好的隔热能力也能够保护聚丙烯腈层，使其在150摄氏度～200摄氏度的温度下较为稳定。又如，所述聚丙烯腈层、所述PET基材层的厚度的比值为1：(2.2～4.1)。又如，所述聚丙烯腈层、所述PET基材层的厚度的比值为1：(3.8～4.02)。又如，所述聚丙烯腈层、所述PET基材层的厚度的比值为1：3.87，如此，能够进一步增强耐高温PET离型膜的拉伸轻度，且基于PET基材层较低的成本，能够在控制成本的基础上增强无溶剂离型膜的拉伸强度。又如，当同时设置光油涂层时，所述聚丙烯腈层设置于所述光油涂层与所述PET基材层之间，即所述聚丙烯腈层贴合于所述PET基材层上，所述光油涂层贴合于所述聚丙烯腈层远离所述PET基材层的侧面。
上述无溶剂离型膜，通过在PET基材层与无溶剂涂层之间设置纳米二氧化硅涂层，纳米二氧化硅涂层具有较好的耐高温能力和隔热能力，能够减少PET基材层在高温下的变形，能够适用于150摄氏度以上的一些领域，能够耐受150摄氏度～200摄氏度的高温，使得无溶剂离型膜的应用领域更为广泛。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。