一种盖板及电子设备的制作方法

本实用新型涉及电子产品器件领域，特别是涉及一种盖板。本实用新型还涉及一种电子设备。

背景技术：

目前，随着电子产品的快速发展，以及人们审美观要求的不断提高，促使电子产品比如智能手机、智能手表、平板电脑等的外观不断推陈出新，已由传统的塑料机身、金属机身，发展到现在的陶瓷机身和玻璃机身。

陶瓷机身外观精美，使用手感好，但是由于其制作工艺复杂，良率低，导致其使用成本高。而相比之下玻璃机身价格低，制作工艺简单，而且通过表面镀膜，同样可以达到陶瓷视觉感。然而玻璃机身存在一个凸显缺陷，即在玻璃表面直接镀陶瓷视觉感的颜色膜后，其玻璃的机械强度会降低很多，这也成为限制其应用的一大障碍。

技术实现要素：

有鉴于此，本实用新型提供一种盖板，应用于电子设备，能够表现出陶瓷色泽效果，并且与现有能呈现陶瓷视觉感的玻璃盖板相比，其机械强度提高。本实用新型还提供一种电子设备。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种盖板，包括基板，还包括：

形成在所述基板上的、含有碳元素并且为非晶质结构的碳素层；

形成在所述碳素层之上的、用于增加调色层与所述碳素层之间结合力的第一过渡层；

形成在所述第一过渡层之上的、用于调节呈现颜色以使所述盖板呈现出陶瓷色泽效果的调色层。

可选地，所述碳素层还包括氢元素。

可选地，所述调色层包括至少两种不同折射率的介质膜，各层介质膜堆叠设置。

可选地，还包括：位于所述基板和所述碳素层之间的、用于增加所述碳素层与所述基板之间结合力的第二过渡层。

可选地，所述第二过渡层包括二氧化硅层。

可选地，所述第一过渡层为二氧化硅层，或者所述第一过渡层为硅和二氧化硅的混合层。

一种电子设备，包括以上所述的盖板。

由上述技术方案可知，本实用新型所提供的盖板，包括基板、碳素层、第一过渡层和调色层，其中碳素层、第一过渡层和调色层以层叠形式形成在基板上，第一过渡层位于碳素层与调色层之间，用于增加碳素层与调色层之间结合力。本盖板通过调色层以及碳素层、过渡层共同作用调节盖板呈现颜色，能够使盖板呈现出陶瓷色泽效果。另外位于基板与调色层之间的碳素层，碳素层含有碳元素并且为非晶质结构，具有高硬度、高耐磨性和高弹性模量的特性，对调色层与基板之间应力能起到一定缓冲作用，因此与现有在玻璃基体直接形成颜色膜相比，可提高盖板的机械强度。

本实用新型提供的一种电子设备，包括上述盖板，能够达到上述有益效果。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型实施例提供的一种盖板的示意图；

图2为本实用新型又一实施例提供的一种盖板的示意图。

具体实施方式

本实用新型实施例提供一种盖板，应用于电子设备，能够表现出陶瓷色泽效果，并且与现有能够呈现陶瓷视觉感的玻璃盖板相比，其机械强度提高。

本实施例提供的一种盖板，包括基板，还包括：

形成在所述基板上的、含有碳元素并且为非晶质结构的碳素层；

形成在所述碳素层之上的、用于增加调色层与所述碳素层之间结合力的第一过渡层；

形成在所述第一过渡层之上的、用于调节呈现颜色以使所述盖板呈现出陶瓷色泽效果的调色层。

其中，碳素层包含碳元素，碳元素为非晶质结构，具体为碳元素以空间立体结构和平面网状结构共存。本碳素层具有高硬度、高耐磨性和高弹性模量的特性。

对于现有能呈现陶瓷视觉感的玻璃盖板，是在玻璃基体上直接形成用于调节颜色的颜色膜，而颜色膜由不同折射率的材料膜层堆叠形成，各膜层材料不同，产生的内应力不同，这使得颜色膜整体存在较大的内应力，颜色膜直接形成在玻璃基体表面，使得盖板机械强度大大降低。而本实施例盖板在基板与调色层之间形成碳素层，碳素层基于其特性，对调色层与基板之间应力能起到一定缓冲作用，因此能够提高盖板的机械强度。

为了使本技术领域的人员更好地理解本实用新型中的技术方案，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本实用新型保护的范围。

其次，本实用新型结合示意图进行详细描述，在详述本实用新型实施例时，为便于说明，表示结构的剖面图会不依一般比例作局部放大，而且所述示意图只是示例，其在此不应限制本实用新型保护的范围。此外，在实际制作中应包含长度、宽度及深度的三维空间尺寸。

请参考图1，本实施例提供的一种盖板，包括基板10、碳素层11、第一过渡层12和调色层13。

本实施例中，基板10为玻璃基板，其成本低，制作盖板工艺简单，并且用于电子产品使用手感好。

碳素层11包含有非晶质结构的碳元素，具有高硬度、高耐磨性和高弹性模量的特性。在具体实施时，碳素层11可以只包含碳元素，并不掺入其它元素。

可选的，在具体实施时，碳素层11除包含碳元素之外，还可包括其它元素。比如可在碳素层中掺入氢元素，或者也可以是其它元素，也均在本实用新型保护范围内。

本实施例盖板中，所述调色层13包括至少两种不同折射率的介质膜，各层介质膜堆叠设置。本调色层13通过不同折射率的介质膜，调节对入射到盖板的入射光中不同波段的反射率，实现调节盖板呈现出的颜色，能够使盖板呈现出陶瓷色泽效果。其中介质膜的材料可以是金属氧化物或者非金属氧化物，包括但不限于二氧化硅、氧化钛、氧化铌或者氮化硅。

在具体实施时，通过选择调色层13各介质膜层的折射率以及调整各介质膜层的厚度，可以使盖板呈现出不同的陶瓷色泽效果。示例性的，所述调色层可以为呈现出黑色陶瓷色泽的调色层，或者所述调色层为呈现出蓝色陶瓷色泽的调色层，或者所述调色层为呈现出金色陶瓷色泽的调色层，或者也可使调色层13呈现出其它陶瓷色泽效果。

第一过渡层12位于碳素层11和调色层13之间，用于增加调色层13与碳素层11之间结合力。在具体实施时，所述第一过渡层12优选采用二氧化硅层，或者第一过渡层12为硅和二氧化硅的混合层。

在本盖板又一实施例中，请参考图2，在上一实施例的基础上，所述盖板还包括位于所述基板10和所述碳素层11之间的、用于增加所述碳素层11与所述基板10之间结合力的第二过渡层14。通过第二过渡层14使碳素层与基板之间结合更稳固。

在具体实施时，第二过渡层14优选采用二氧化硅层。下面对本实施例盖板的制作方法进行说明，具体以制作的盖板在基板与碳素层之间具有过渡层为例来说明。本实施例盖板的一种制作方法包括以下步骤：

S20：对基板表面进行清洁处理。

在具体实施时，基板采用玻璃基板，对玻璃基板表面进行去尘、去油清洁处理，使基板表面干净，能够进行镀膜。

S21：在基板表面制备第二过渡层。

可在清洁后的基板表面制备SiO₂层，用于增加基板与后续制备的碳素层之间的结合力。在实际操作中，SiO₂层的厚度可以是5nm-15nm。

S22：在第二过渡层上制备碳素层。

在具体实施时，可采用溅射方法制备碳素层。具体可通过以下过程实现：以石墨作为溅射靶材，通入氩气/氢气，对溅射工艺参数调节，在第二过渡层上制备出碳素层。通过本方法制备出的碳素层中会掺入氢元素。在实际操作中，可控制碳素层的厚度为5nm-50nm。

S23：在碳素层上制备第一过渡层。

在具体实施时，可以在碳素层上制备一层SiO₂层，或者一层Si和SiO₂的混合层。在实际操作中，第一过渡层的厚度可以控制在6nm-30nm。

S24：在第一过渡层上制备调色层。

在具体实施时，可采用溅射镀方法、蒸发镀方法或者化学气相沉积方法制备调色层。调色层的厚度可以控制在50nm-1000nm。另外可通过选择调色层各介质膜层的材料折射率以及调整各介质膜层的厚度，使调色层呈现出所需的陶瓷色泽效果。

至此则制作完成了盖板。

本实施例盖板用于电子设备，可以用于制作电子设备机身，使得机身表现为陶瓷色泽效果，但与陶瓷机身相比，成本更低，制作工艺更简单，生产良率高。

相应的，本实用新型实施例还提供一种电子设备，包括以上所述的盖板。

本实施例电子设备，采用以上所述的盖板，其盖板通过调色层以及碳素层、过渡层共同作用调节盖板呈现颜色，能够使盖板呈现出陶瓷色泽效果。而位于基板与调色层之间的碳素层，碳素层含有碳元素并且为非晶质结构，具有高硬度、高耐磨性和高弹性模量的特性，对调色层与基板之间应力能起到一定缓冲作用，因此可提高盖板的机械强度。

以上对本实用新型所提供的一种盖板及电子设备进行了详细介绍。本文中应用了具体个例对本实用新型的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本实用新型的方法及其核心思想。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以对本实用新型进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本实用新型权利要求的保护范围内。