装饰构件及其制备方法与流程

本申请要求在2017年6月27日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2017-0081405号以及在2017年10月20日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2017-0136810号的优先权和权益，其全部内容通过引用并入本文。

本公开涉及一种装饰元件及其制备方法。特别地，本公开涉及一种适用于移动设备或电子产品的装饰元件以及制备该装饰元件的方法。

背景技术：

对于移动电话、各种移动设备和电子产品，除了产品功能之外，诸如颜色、形状和图案的产品设计在向客户提供产品价值方面也起到了主要作用。产品偏好和价格也取决于设计。

关于作为一个示例的移动电话，使用各种方法获得各种颜色和色觉(colorsense)并将其用于产品中。可以包括向手机外壳材料本身提供颜色的方法或通过将实现颜色和形状的装饰膜附接到外壳材料来提供设计的方法。

在现有的装饰膜中，已经尝试通过诸如印刷和沉积的方法来显色。当在单个表面上表达各种颜色时，需要进行两次以上印刷，并且当将各种颜色应用于三维图案时，实现几乎不现实。另外，现有的装饰膜具有根据视角的固定的颜色，并且即使当存在轻微的变化时，该变化也仅限于色觉上的差异。

技术实现要素：

技术问题

本公开旨在提供一种装饰元件，由于光反射层和光吸收层的层叠结构，该装饰元件能够最小化由电磁(emi)屏蔽特性引起的射频(rf)接收干扰因子并且容易获得各种颜色。

技术方案

本申请的一个实施例提供了一种装饰元件，包括：光反射层；以及设置在所述光反射层上的光吸收层，其中，所述光反射层是不连续膜。

根据本申请的另一实施例，所述光反射层具有20欧姆/平方以上的表面电阻，优选地，具有1千兆欧姆/平方以上的表面电阻。

根据本申请的另一实施例，彩色膜进一步设置在：所述光反射层和所述光吸收层之间；所述光反射层的与面向所述光吸收层的表面相对的表面上；或者所述光吸收层的与面向所述光反射层的表面相对的表面上。与没有设置所述彩色膜时相比，当存在所述彩色膜时，所述彩色膜采用大于1的色差δe*ab(即显色层的颜色坐标ciel*a*b*中的l*a*b*空间中的距离)。

在本说明书中，所述光吸收层可以表示为所述显色层。

根据本申请的另一实施例，透明基板设置在：所述光反射层的与面向所述光吸收层的表面相对的表面上；或者所述光吸收层的与面向所述光反射层的表面相对的表面上。例如，当所述透明基板设置在所述光反射层的与面向光吸收层的表面相对的表面上并且所述彩色膜位于所述光反射层的与面向所述光吸收层的表面相对的表面上时，所述彩色膜可以设置在：所述透明基板和所述光反射层之间；或者所述透明基板的与面向所述光反射层的表面相对的表面上。作为另一个示例，当所述透明基板设置在所述光吸收层的与面所述光反射层的表面相对的表面上并且所述彩色膜位于所述光吸收层的与面向所述光反射层的表面相对的表面上时，所述彩色膜可以设置在：所述透明基板和所述光吸收层之间；或者所述透明基板的与面向所述光吸收层的表面相对的表面上。

根据本申请的另一实施例，所述透明基板设置在所述光反射层的与面向所述光吸收层的表面相对的表面上，所述彩色膜设置在：所述透明基板和所述光反射层之间；或者所述透明基板的与面向所述光反射层的表面相对的表面上，或者，所述透明基板设置在所述光吸收层的与面向所述光反射层的表面相对的表面上，并且所述彩色膜设置在：所述透明基板和所述光吸收层之间；或者所述透明基板的与面向所述光吸收层的表面相对的表面上。

根据本申请的另一实施例，所述光吸收层包括具有不同厚度的两个或更多个点。

根据本申请的另一实施例，所述光吸收层包括具有不同厚度的两个或更多个区域。

根据本申请的另一实施例，所述光吸收层包括一个或多个区域，所述一个或多个区域中的上表面具有倾斜表面，所述倾斜表面具有大于0度且小于或等于90度的倾斜角，并且所述光吸收层包括厚度与具有所述倾斜表面的任何一个区域的厚度不同的一个或多个区域。

根据本申请的另一实施例，所述光吸收层包括具有逐渐变化的厚度的一个或多个区域。

根据本申请的另一实施例，所述光吸收层包括一个或多个区域，所述一个或多个区域中的上表面具有倾斜表面，所述倾斜表面具有大于0度且小于或等于90度的倾斜角；并且具有倾斜表面的至少一个区域具有所述光吸收层的厚度逐渐变化的结构。

据本申请的另一实施例，所述光吸收层在400nm处具有大于0且小于或等于4的消光系数(k)值。

根据本申请的另一实施例，所述装饰元件是装饰膜、移动设备的外壳、电子产品的外壳或需要彩色装饰的商品。

有益效果

根据本说明书中描述的实施例，光吸收发生在当外部光通过显色层进入时的每个进入路径中和当外部光被反射时的反射路径中，并且由于外部光在光吸收层表面和光反射层表面中的每一者上被反射，在光吸收层表面上的反射光和光反射层表面上的反射光之间发生相长干涉和相消干涉现象。通过进入路径和反射路径中的这种光吸收以及相长干涉和相消干涉现象，可以显示特定的颜色。另外，由于所显示的颜色根据厚度，所以即使具有相同的材料组成，颜色也可以根据厚度而变化。除此之外，通过使用具有特定范围内的表面电阻同时具有光反射特性的光反射层作为光反射层和光吸收层的层叠结构中的光反射层，由电磁(emi)屏蔽特性引起的对射频(rf)接收的干扰被最小化，并且可以防止使用装饰元件的电子设备的功能受到抑制。

附图说明

图1是用于描述光反射层和光吸收层结构中的显色的工作原理的模拟图；

图2示出了依赖于表面电阻的电磁波屏蔽特性；

图3至图6示出了根据本申请实施例的装饰元件的层叠结构；

图7至图10示出了根据本申请实施例的装饰元件的光吸收层的上表面结构；

图11和图12是分别示出在比较例1和实施例1中制备的膜的连续性的照片；

图13和图14是分别示出在实施例4和实施例7中制备的膜的连续性的照片；

图15是示出铟层的光反射率的图；

图16是具有作为光反射层的铝层、铟层或锡层的装饰元件的颜色模拟的结果；

图17是示出区分光吸收层和光反射层的方法的图。

具体实施方式

在下文中，将详细描述本公开。

在本说明书中，“点”表示不具有面积的一个位置。在本说明书中，该表达用于表示光吸收层具有不同厚度的两个或更多个点。

在本说明书中，“区域”表示具有特定面积的部分。例如，当将装饰元件放置在地面上使得光反射层放置在底部并且光吸收层放置在顶部，并将倾斜表面的两端或垂直于地面的具有相同厚度的两端分开时，具有倾斜表面的区域是指由倾斜表面的两端划分的区域，并且具有相同厚度的区域是指由具有相同厚度的两端划分的区域。

在本说明书中，“表面”或“区域”可以是平坦表面，但不限于此，并且部分或全部可以是曲面。例如，可以包括其中垂直截面形状是圆形或椭圆形的弧的一部分、波结构、z字形等的结构。

在本说明书中，“倾斜表面”是指，当将装饰构件放置在地面上使得光反射层放置在底部并且光吸收层放置在顶部时，由上表面相对于地面形成的具有大于0度且小于或等于90度的角度的表面。

在本说明书中，某层的“厚度”是指从相应层的下表面到上表面的最短距离。

在本说明书中，除非另外定义，否则“或”表示选择性地或全部包括所列出的内容的情况，即“和/或”的含义。

在本说明书中，可以使用已知的片电阻器根据4点探针法测量表面电阻。关于表面电阻，通过使用4个探针测量电流(i)和电压(v)来测得电阻值(v/i)，并且通过使用样本的面积(单位面积，w)和用于测量电阻的电极之间的距离(l)来获得表面电阻(v/i×w/l)，然后，乘以电阻校正因子(rcf)，以计算为欧姆/平方(表面电阻单位)。可以使用样本尺寸、样本厚度和测量时的温度来计算电阻校正因子，并且可以使用泊松方程来计算电阻校正因子。可以根据层叠体本身测量并计算整个层叠体的表面电阻，并且可以在形成由剩余材料形成的层(除了从整个层叠体测量的目标层之外)之前测量每层的表面电阻，可以在去除由剩余材料形成的层(除了从整个层叠体测量的目标层之外)之后测量每层的表面电阻，或者可以通过分析目标层的材料然后在与目标层相同的条件下形成层来测量每层的表面电阻。

根据本申请的一个实施例的装饰元件，包括：光反射层；以及设置在光反射层上的光吸收层，其中，光反射层是不连续膜。与连续膜相反，不连续膜是指具有两个或更多个物理上分开的部分。不连续膜的示例包括岛状结构、网状结构等。

图1示出了根据本公开的一个实施例的装饰元件的层叠结构。根据图1，光吸收发生在光吸收层中的光的进入路径和反射路径中，并且通过在光吸收层的表面以及光吸收层和光反射层的界面中的每一个上反射光，两个反射光经过相长干涉或相消干涉。在本说明书中，在光吸收层的表面上反射的光可以表示为表面反射光，并且在光吸收层和光反射层的界面上反射的光可以表示为界面反射光。在图1中，基板设置在光反射层的底部，然而，不需如此。另外，光反射层201在图1中形成为不连续膜。由此可以提供高电阻光反射层。图1示出了光吸收层301形成为连续膜的结构，然而，结构不限于此，并且光吸收层也可以具有不连续膜结构。

通过图17，描述了光吸收层和光反射层。在图17的装饰元件中，基于光进入方向各层按照li-1层、li层和li+1层的顺序进行层叠，界面ii位于li-1层和li层之间，界面ii+1位于li层和li+1层之间。

当在垂直于每层的方向上照射具有特定波长的光使得不发生薄膜干涉时，界面ii处的反射率可以由以下数学方程式1表示。

[数学方程式1]

在数学方程式1中，ni(λ)表示根据第i层的波长(λ)的折射率，ki(λ)表示根据第i层的波长(λ)的消光系数。消光系数是能够定义主体材料吸收特定波长的光的强度的量度，并且该定义如上所述。

使用数学方程式1，当在每个波长处计算的界面ii处的每个波长的反射率之和为ri时，ri如下面的数学方程式2中所示。

[数学方程式2]

例如，当光反射层具有两个以上岛状结构时，与整个光反射层的面积相比，电绝缘的面积变得较小，因此，电阻增加。

作为具体示例，光反射层具有两个以上岛状结构，并且每个岛的水平横截面积的面积对应于100nm*100nm为10^-14m²或更小，并且优选地，对应于50nm*50nm为2.5×10^-15m²或更小。

光反射层的表面电阻优选为20欧姆/平方以上，100欧姆/平方以上，优选为500欧姆/平方以上，优选为5000欧姆/平方以上，更优选为10000欧姆/平方以上，最优选为1千兆欧姆/平方以上。根据图2，可以看出，当表面电阻为20欧姆/平方以上时，电磁波屏蔽效果最大化。

根据一个实施例，光反射层可具有最大10千兆欧姆/平方的表面电阻。

根据本申请的另一实施例，光反射层材料的比电阻可以为2×10^-4欧姆*厘米以上，优选1×10^-3欧姆*厘米以上，更优选10欧姆*厘米以上，最优选10⁴欧姆*厘米以上。然而，比电阻不限于此，并且，取决于上述不连续膜的结构，也可以使用具有较低比电阻值的材料，只要其具有能够进一步增加光反射层的表面电阻的结构即可。

金属材料通常可用于光反射层的光反射特性，然而，诸如铝的金属材料具有高导电性。当在诸如移动设备(例如移动电话)的电子设备中使用时，这可能会由于电磁波屏蔽特性引起对rf接收的干扰。然而，根据上述实施例，由于光反射层具有高表面电阻，所以可以最小化对rf接收的干扰。

光反射层没有特别限制，只要其是能够反射光的材料即可；并且，作为可以形成为具有上述的不连续膜结构的材料，能够通过不连续膜结构具有上述表面电阻。可以根据材料确定光反射率，例如，颜色容易在50％以上时进行表现。可以使用椭圆偏振计(ellipsometer)测量光反射率。

作为一个示例，光反射层可以是单层或多层，该单层或多层包含选自铟(in)、钛(ti)、锡(sn)、硅(si)、锗(ge)、铝(al)、铜(cu)、镍(ni)、钒(v)、钨(w)、钽(ta)、钼(mo)、钕(nd)、铁(fe)、铬(cr)、钴(co)、金(au)和银(ag)或它们的氧化物、氮化物或氮氧化物中的一种或两种以上材料，以及碳和碳复合物中的一种或两种以上材料。例如，光反射层可包含选自上述材料中的两种以上合金，或其氧化物、氮化物或氮氧化物。根据另一实施例，光反射层可以通过使用包含碳或碳复合物的油墨进行制备而成为高电阻反射层。炭黑、cnt等可被可以作为碳或碳复合物。包含碳或碳复合物的油墨可包含上述材料，或其氧化物、氮化物或氮氧化物，例如，可包含选自铟(in)、钛(ti)、锡(sn)、硅(si)、锗(ge)、铝(al)、铜(cu)、镍(ni)、钒(v)、钨(w)、钽(ta)、钼(mo)、钕(nd)、铁(fe)、铬(cr)、钴(co)、金(au)和银(ag)中的一种或两种以上氧化物。在印刷包含碳或碳复合物的油墨之后，可以进一步进行固化工艺。

当光反射层包含两种以上类型的材料时，可以使用一种工艺(例如，沉积或印刷的方法)形成该两种以上类型的材料，然而，可以使用首先使用一种或多种类型的材料形成层，然后使用一种或多种类型的材料在该层上另外形成层的方法。例如，可以通过使铟或锡进行岛状生长，然后印刷包含碳的油墨，然后固化所得物，来形成光反射层。油墨可进一步包含氧化物，例如氧化钛或氧化硅。

根据一个实施例，光反射层可以包含铟(in)、钛(ti)、锡(sn)、硅(si)和锗(ge)中的一种，或者它们的合金、或氧化物、氮化物或氮氧化物中的两种以上，以及碳和碳复合物中的一种或两种以上。

根据一个实施例，光反射层可以由铟(in)、钛(ti)、锡(sn)、硅(si)和锗(ge)中的一种，或者它们的合金、或氧化物、氮化物或氮氧化物中的两种以上形成。这些材料是非导电真空金属化(ncvm)材料，并且具有使薄膜生长模式生长为岛状结构形式而不是厚度小于50nm的连续膜的特性。除这些材料之外的金属具有小于30nm的临界厚度，并且已知为在开始经过岛型生长模式之后生长为连续膜形式。

与光反射层一样，光吸收层可以具有不连续膜结构，或者可以在光反射层上具有连续膜结构。

光吸收层的表面电阻优选为20欧姆/平方以上，100欧姆/平方以上，优选500欧姆/平方以上，优选5000欧姆/平方以上，更优选10000欧姆/平方以上，最优选1千兆欧姆/平方以上。

根据本申请的另一实施例，包括光反射层和光吸收层的整个装饰元件的表面电阻为20欧姆/平方以上，100欧姆/平方以上，优选500欧姆/平方以上，优选5000欧姆/平方以上，更优选10000欧姆/平方以上，最优选1千兆欧姆/平方以上，更优选4千兆欧姆/平方以上。

光吸收层优选在400nm处具有0至8的折射率(n)，并且折射率可以为从0至7，可以为从0.01至3，并且可以为从2至2.5。折射率(n)可以通过sinθ1/sinθ2(θ1是光入射在光吸收层表面上的角度，θ2是光吸收层内部的光的折射角)进行计算。

光吸收层优选在380nm至780nm处具有0至8的折射率(n)，并且折射率可以为从0至7，可以为从0.01至3，并且可以为从2至2.5。

光吸收层在400nm处可以具有大于0且小于或等于4的消光系数(k)，并且消光系数(k)优选为从0.01至4，可以为从0.01至3.5，可以为从0.01至3，并且可以为从0.1至1。消光系数(k)是-λ/4πi(di/dx)(在这里是λ/4π与di/i相乘的值，即光吸收层中每路径单位长度(dx)(例如1m)的光强度的既约分数，并且在这里，λ是光的波长)。

光吸收层在380nm至780nm处可以优选地具有大于0且小于或等于4的消光系数(k)，例如，消光系数(k)优选为从0.01至4，可以为从0.01至3.5，可以为从0.01至3，并且可以为从0.1至1。

消光系数(k)在400nm处、优选在380nm至780nm处的整个可见波长区域中的上述范围内，因此，光吸收层的作用可以在整个可见范围内进行。

即使当具有相同的折射率(n)值时，也可以在消光系数(k)值为0时和消光系数(k)值在400nm处为0.01时得到的差。例如，当模拟将d65(太阳光谱)作为光源照射在玻璃/铟(岛状结构不连续膜，厚度为30nm)/氮氧化铝/空气层的层叠结构上的情况时，如下面的表1，获得当氮氧化铝的k值为0和0.01时的e*ab值。这里，铟层的厚度(h1)为120nm，氮氧化铝层的厚度(h2)在下面的表1中进行描述。k值任意设定为0和0.01进行模拟，并且，使用铟的值作为n值。

【表1】

例如，使用通过向树脂中添加染料来吸收光的方法，并且使用具有如上所述的消光系数的材料，导致不同的光吸收光谱。当通过向树脂中添加染料来吸收光时，吸收波长带是固定的，并且仅发生根据涂层厚度的变化而改变吸收量的现象。另外，为了获得目标光吸收量，需要改变至少几微米以上的厚度以调节光吸收量。另一方面，在具有消光系数的材料中，即使厚度变化了几纳米级到几十纳米级，吸收光的波长带也会改变。

根据一个实施例，光吸收层可以是单层，或两层以上的多层。

光吸收层可以由具有400nm处、优选380nm至780nm处的消光系数(k)的材料，即，具有大于0且小于或等于4的消光系数的材料形成。例如，光吸收层可以包括选自由金属、准金属以及金属或准金属的氧化物、氮化物、氮氧化物和碳化物组成的组中的一种或两种以上。金属或准金属的氧化物、氮化物、氮氧化物或碳化物可以在本领域技术人员设定的沉积条件等下进行形成。光吸收层还可以包含与光反射层相同的两种以上金属、准金属、合金或氮氧化物。

例如，光吸收层可以是单层或多层，该单层或多层包含选自铟(in)、锡(sn)、硅(si)、铝(al)、铜(cu)、镍(ni)、钒(v)、钨(w)、钽(ta)、钼(mo)、钕(nd)、钛(ti)、铁(fe)、铬(cr)、钴(co)、金(au)和银(ag)或它们的氧化物、氮化物或氮氧化物中的一种或两种以上材料。作为具体示例，光吸收层包括选自氧化铜、氮化铜、氧氮化铜、氧化铝、氮化铝、氮氧化铝和氧氮化钼钛中的一种或两种以上。

根据一个实施例，光吸收层包含硅(si)或锗(ge)。

由硅(si)或锗(ge)形成的光吸收层在400nm处可具有0至8或0至7的折射率(n)，并且可具有大于0且小于或等于4，优选0.01至4的消光系数(k)，并且消光系数(k)可以为从0.01至3或从0.01至1。

根据另一实施例，光吸收层包含选自氧化铜、氮化铜、氮氧化铜、氧化铝、氮化铝、氮氧化铝和氮氧化钼钛中的一种或两种以上。在这种情况下，光吸收层可以在400nm处具有1至3(例如，2至2.5)的折射率(n)以及大于0且小于或等于4，0.01至2.5，优选0.2至2.5，更优选0.2至0.6的消光系数(k)。

根据一个实施例，光吸收层是aloxny(x>0，y>0)。

根据另一实施例，光吸收层可以是aloxny(0≤x≤1.5，0≤y≤1)。

根据另一实施例，光吸收层是aloxny(x>0，y>0)，并且相对于100％的原子总数，每个原子的数量满足以下方程式。

根据一个实施例，光吸收层可以由具有400nm处、优选380nm至780nm处的消光系数(k)的材料形成。

根据一个实施例，可以根据最终结构中的目标颜色来确定光反射层的厚度，并且例如，可以是1nm以上，优选25nm以上，例如，小于50nm以上。

根据一个实施例，光吸收层的厚度可以为从5nm至500nm，例如从30nm至500nm。

根据一个实施例，光吸收层的区域的厚度差为从2nm至200nm，并且可以根据目标色差来确定。

根据本申请的另一实施例，彩色膜进一步设置在：光反射层的与面向光吸收层的表面相对的表面上；光反射层和光吸收层之间；或者光吸收层的与面向光反射层的表面相对的表面上。当透明基板设置在光反射层侧上时，彩色膜可以设置在：光反射层和透明基板之间；或者透明基板的与面向光反射层的表面相对的表面上。当透明基板设置在光吸收层侧上时，彩色膜可以设置在：光吸收层和透明基板之间；或者透明基板的与面向光吸收层的表面相对的表面上。

与没有设置彩色膜时相比，当存在彩色膜时，彩色膜没有特别限制，只要其具有大于1的色差δe*ab(显色层的颜色坐标ciel*a*b*中的l*a*b*空间中的距离)即可。

颜色可以由ciel*a*b*来表示，并且可以使用l*a*b*空间中的距离(δe*ab)来定义色差。具体地，色差是并且在0<δe*ab<1的范围内，观察者可能无法识别色差[参考文献：machinegraphicsandvision(机器图形和视觉)20(4):383-411]。因此，在本说明书中，通过彩色膜添加获得的色差可以由δe*ab>1来定义。

图3(a)示出了连续层叠光反射层201、光吸收层301和彩色膜401的结构，图3(b)示出了连续层叠光反射层201、彩色膜401和光吸收层301的结构，图3(c)示出了连续层叠彩色膜401、光反射层201和光吸收层301的结构。

彩色膜还可以起到基板的作用。例如，可以用作基板的材料可以通过向其中添加颜料或染料而用作彩色膜。

透明基板可以设置在：光反射层的与面向光吸收层的表面相对的表面上；或者光吸收层的与面向光反射层的表面相对的表面上。图4(a)示出了透明基板设置在光反射层的与面向光吸收层的表面相对的表面上的示例，图4(b)示出了透明基板设置在光吸收层的与面向光反射层的表面相对的表面上的示例。

例如，当透明基板设置在与光反射层的面向光吸收层的表面相对的表面上并且彩色膜位于光反射层的与面向光吸收层的表面相对的表面上时，彩色膜可以设置在：透明基板和光反射层之间；或者透明基板的与面向光反射层的表面相对的表面上。作为另一示例，当透明基板设置在光吸收层的与面向光反射层的表面相对的表面上并且彩色膜位于光吸收层的与面向光反射层的表面相对的表面上时，彩色膜可以设置在：透明基板和光吸收层之间；或者透明基板的与面向光吸收层的表面相对的表面上。

根据本申请的另一实施例，透明基板设置在光反射层的与面向光吸收层的表面相对的表面上，并且还设置有彩色膜。图5(a)示出了彩色膜401设置在光吸收层301的与光反射层201侧相对的表面上的结构，图5(b)示出了彩色膜401设置在光吸收层301和光反射层201之间的结构，图5(c)示出了彩色膜401设置在光反射层201和透明基板101之间的结构，图5(d)示出了彩色膜401设置在透明基板101的与光反射层201侧相对的表面上的结构。图5(e)示出了彩色膜401a、401b、401c、401d分别设置在：光吸收层301的与光反射层201侧相对的表面上，光吸收层301和光反射层201之间，光反射层201和透明基板101之间，以及透明基板101的与光反射层201侧相对的表面上的结构，然而，该结构不限于此，并且可以不包括彩色膜401a、401b、401c、401d中的1至3个。

根据本申请的另一实施例，透明基板设置在光吸收层的与面向光反射层的表面相对的表面上，并且还设置有彩色膜。图6(a)示出了彩色膜401设置在透明基板101的与光吸收层301侧相对的表面上的结构，图6(b)示出了彩色膜401设置在透明基板101和光吸收层301之间的结构，图6(c)示出了彩色膜401设置在光吸收层301和光反射层201之间的结构，图6(d)示出了彩色膜401设置在光反射层201的与光吸收层301侧相对的表面上的结构。图6(e)示出了彩色膜401a、401b、401c、401d分别设置在：透明基板101的与光吸收层201侧相对的表面上，基板101和光吸收层301之间，光吸收层301和光反射层201之间，以及光反射层201的与光吸收层201侧相对的表面上结构，然而，该结构不限于此，并且可以不包括彩色膜401a、401b、401c、401d中的1至3个。

在诸如图5(b)和图6(c)的结构中，当彩色膜具有大于0％的可见光透射率时，光反射层可以反射通过彩色膜进入的光，因此，可以通过将光吸收层和光反射层进行层叠来获得颜色。

在诸如图5(c)、图5(d)和图6(d)的结构中，从光反射层201的彩色膜显示的颜色的透光率可以是1％以上，优选3％以上，更优选5％以上，从而可以识别通过彩色膜添加而获得的色差的变化。这是由于在这种透光率范围内透射的光可以与由彩色膜获得的颜色进行混合的事实。

彩色膜可以设置为一个片，或者设置为类型相同或不同的2个片或更多个片的层叠体。

可以将能够通过与由上述光反射层和光吸收层的层叠结构产生的颜色进行组合而显示目标颜色的那些用作彩色膜。例如，可以使用通过将一种或两种以上颜料和染料分散到基质树脂中来表现颜色的彩色膜。可以通过在可设置彩色膜的位置上直接涂覆用于形成彩色膜的组分来形成这种彩色膜，或者可以使用通过在单独的基板上涂覆用于形成彩色膜的组分或使用已知的诸如浇铸或压铸的成型方法来制备彩色膜，然后将该彩色膜设置或附接在可设置彩色膜的位置上的方法。

能够包含在彩色膜中的颜料和染料可以选自能够从最终装饰构件获得目标颜色的那些颜料和染料，以及在本领域中已知的，并且可以使用诸如红色基、黄色基、紫色基、蓝色基或粉色基的颜料和染料中的一种或两种以上。具体地，诸如芘酮基(perinone-based)红色染料、蒽醌基红色染料、甲烷基黄色染料、蒽醌基黄色染料、蒽醌基紫色染料、酞菁基蓝色染料、硫靛蓝基粉色染料或异靛蓝基(isoxindigo-based)粉色染料的染料可以单独使用或作为组合使用。诸如炭黑、酞菁铜(c.i.颜料蓝15:3)、c.i.颜料红112、颜料蓝或异吲哚啉黄的颜料可以单独使用或作为组合使用。可以使用市售的那些染料或颜料，例如，可以使用由cibaoracet或chokwangpaintltd.制造的材料，作为这样的染料或颜料。染料或颜料的类型及其颜色仅用于说明性目的，并且可以使用各种已知的染料或颜料，并且可以从中获得更多样的颜色。

可以使用已知的作为透明膜、底漆层、粘结层或涂层材料的材料作为包含在彩色膜中的基质树脂，并且基质树脂不特别限于这些材料。例如，可以选择诸如丙烯酸基树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯基树脂、氨基甲酸乙酯基树脂、线性烯烃基树脂、环烯烃基树脂、环氧基树脂或三乙酰纤维素基树脂的各种材料，也可以使用上述材料的共聚物或混合物。

例如，当彩色膜设置得比图5(a)和5(b)以及图6(a)、6(b)和6(c)的结构中的光反射层或光吸收层更靠近观察装饰构件的位置时，由光反射层、光吸收层或光反射层和光吸收层的层叠结构的彩色膜显示的颜色的透光率可以是1％以上，优选3％以上，更优选5％以上。因此，可以通过将从彩色膜显示的颜色与从光反射层、光吸收层或其层叠结构显示的颜色进行组合来获得目标颜色。

彩色膜的厚度没有特别限制，本领域技术人员可以选择和设定厚度，只要其能够获得目标颜色。例如，彩色膜可以具有500nm至1mm的厚度。

根据本申请的另一实施例，当光吸收层包括图案时，该图案可以具有对称结构、非对称结构或其组合。

根据一个实施例，光吸收层可包括对称结构图案。作为对称结构，包括棱镜结构、双凸透镜结构等。

在本说明书中，非对称结构图案是指当从上表面、侧表面或截面观察时在至少一个表面上具有非对称结构。当具有这种非对称结构时，装饰构件可以产生二色性。二色性是指根据视角所观察到的不同的颜色。

二色性可以通过与上述色差有关的来表示，并且依赖于视角的δe*ab>1的色差可以被定义为具有二色性。

根据一个实施例，光吸收层包括上表面具有锥形的突起或凹槽的图案。锥形包括圆锥形、椭圆形锥形或多棱锥形。这里，多棱锥形的底表面的形状包括三角形、正方形、具有5个或更多个凸点的星形等。锥形可具有形成在光吸收层的上表面上的突起的形状，或形成在光吸收层的上表面上的凹槽的形状。突起具有三角形截面，并且凹槽具有倒三角形截面。光吸收层的下表面也可以具有与光吸收层的上表面相同的形状。

根据一个实施例，锥形图案可以具有非对称结构。例如，当基于锥形的顶点将锥形图案旋转360度并从上表面观察时，当存在三个或更多个相同形状时难以从图案显示二色性。然而，当基于锥形的顶点将锥形图案旋转360度并从上表面观察时，当存在两个或更少个相同形状时显示二色性。图7示出了锥形的上表面，并且(a)示出了所有对称结构的锥形，并且(b)示出了非对称结构的锥形。

对称结构的锥形具有这样的结构，其中锥形的底表表面是圆形或具有相同边长的正多边形，并且锥形的顶点存在于底表面的重心的垂直线上。然而，非对称结构的锥形具有这样的结构，其中当从上表面观察时，锥形的顶点的位置存在于不是底表面的重心的点的垂直线上，或者具有这样的结构，其中底表面是非对称结构的多边形或椭圆形。当底表面是非对称结构的多边形时，多边形的边和角中的至少一个可以设计成与其余的不同。

例如，如图8所示，可以改变锥形的顶点的位置。具体地，当从图8的第一张图所示的上表面进行观察时，在将锥形的顶点设计成位于底表面的重心o1的垂直线上时，当基于锥形的顶点旋转360度时，可以获得4个相同的结构(4折对称)。然而，通过将锥形的顶点设计在不是底表面的重心o1的位置o2上，破坏了对称结构。当采用底表面的一边的长度为x，锥形的顶点的迁移距离为a和b，锥形的高度(将锥形的顶点o1或o2垂直连接到底表面的线的长度)为h，以及由锥形的底表面和侧表面形成的角为θn时，可以如下获得图8的表面1、表面2、表面3和表面4的余弦值。

这里，θ1和θ2相同，因此不存在二色性。然而，θ3和θ4不同，并且│θ3-θ4│表示两种颜色之间的色差(e*ab)，因此，可以获得二色性。这里，│θ3-θ4│>0。如上所述，对称结构被破坏多少，即非对称程度，可以使用由锥形的底表面和侧表面形成的角度定量地表示，并且表示这种非对称程度的值与二色性的色差成比例。

根据另一实施例，光吸收层包括具有最高点具有线形形状的突起或最低点具有线形形状的凹槽的图案。线形形状可以是直线形状或曲线形状，并且可以包括曲线和直线两者。当基于上表面的重心将具有线形形状的突起或凹槽的图案旋转360度并从上表面观察时，当存在两个或更多个相同形状时难以产生二色性。然而，当基于上表面的重心将具有线形形状的突起或凹槽的图案旋转360度并从上表面观察时，当仅存在一个相同形状时可以产生二色性。图9示出了具有线形形状的突起的图案的上表面，(a)示出了具有不产生二色性的线形形状突起的图案，(b)示出了具有显示二色性的线形形状突起的图案。图9(a)的x-x'截面是等腰三角形或等边三角形，并且图9(b)的y-y'截面是具有不同边长的三角形。

根据另一实施例，光吸收层包括上表面具有突起或凹槽的图案，该突起或凹槽具有锥形上表面被切割的结构。图案的这种截面可以具有梯形或倒梯形形状。在这种情况下，也可以通过将上表面、侧表面或截面设计成具有非对称结构来产生二色性。

除了上面所示的结构之外，还可以获得如图10所示的各种突起或凹槽图案。

根据本申请的另一实施例，光吸收层可包括具有不同厚度的两个或更多个区域。

根据本申请的另一实施例，光吸收层包括一个或多个区域，在该一个或多个区域中，上表面具有倾斜表面，该倾斜表面具有大于0度且小于或等于90度的倾斜角，并且光吸收层包括厚度与具有倾斜表面的任何一个区域的厚度不同的一个或多个区域。

根据一个实施例，光吸收层包括具有第一倾斜表面的第一区域，该第一倾斜表面具有在1度至90度范围内的倾斜角，光吸收层还可以包括第二区域，在该第二区域中，上表面具有倾斜表面，该倾斜表面与第一倾斜表面具有不同的倾斜方向或不同的倾斜角，或者上表面是水平的。这里，在光吸收层中，第一区域和第二区域的厚度可以彼此不同。

根据另一实施例，光吸收层包括具有第一倾斜表面的第一区域，该第一倾斜表面具有在1度至90度范围内的倾斜角度，并且光吸收层还可以包括两个以上区域，在这些区域中，上表面具有倾斜表面，该倾斜表面与第一倾斜表面具有不同的倾斜方向或不同的倾斜角，或者上表面是水平的。这里，在光吸收层中，第一区域和两个以上区域的厚度可以全部彼此不同。

根据一个实施例，可以进一步包括设置在光反射层的下表面上或光吸收层的上表面上的基板。基板的诸如上表面斜率的表面特性可以与光反射层和光吸收层的上表面相同。通过使用沉积方法形成光反射层和光吸收层，基板、光反射层和光吸收层可以具有角度相同的倾斜表面。例如，可以通过在基板的上表面上形成倾斜表面或三维结构，并且依次在其上沉积光反射层和光吸收层，或者依次沉积光吸收层和光反射层，来获得如上结构。

根据一个实施例，装饰元件可以是装饰膜或移动设备的外壳。根据需要，装饰元件还可包括胶合层。

基板的材料没有特别限制，当使用上述方法形成倾斜表面或三维结构时，可以使用本领域已知的紫外线固化树脂。

在光吸收层上，可以进一步设置保护层。

根据一个实施例，可以在设置有光吸收层或光反射层的基板的相对表面上进一步设置粘结层。该粘结层可以是光学透明粘合剂(oca)层。根据需要，可以在粘结层上进一步设置剥离层(离型膜)以进行保护。

在本说明书中，诸如溅射方法的沉积法已被描述为形成光反射层和光吸收层的示例，然而，可以使用制备薄膜的各种方法，只要能够获得本说明书中所述实施例的构造和特性即可。例如，可以使用气相沉积方法、化学气相沉积(cvd)方法、湿法涂层等。

在下文中，将参考实施例更详细地描述本公开。然而，以下示例仅用于说明性目的，而不是限制本公开的范围。

比较例1至比较例3

在pet膜上，在3毫托的工艺压力的真空条件下，使用非反应沉积工艺(ar100％)，将铝(al)层沉积为100nm的厚度作为光反射层。随后，在该光反射层上，使用反应溅射沉积制备具有下表2的厚度的氮氧化铝光吸收层。在3×10^-6托的基础压力和3毫托的工艺压力的真空条件下进行沉积工艺，将ar气调节至100sccm，并且如下表3和表4中调节反应气体n2。反应气体分压部分为13.5％至14％。

从图11的照片可以看出，铝层形成为连续膜。所制备的透明基板/铝层/氮氧化铝层的表面电阻如下表2所示。光吸收层的组成和形成光吸收层时的n2气体流量如下表3和表4所示。表4列出了氮氧化铝的n值和k值。

示例1至示例9

以与比较例1至比较例3中相同的方式进行制备，不同之处在于使用非反应沉积工艺(ar100％)进行沉积至下面表2的厚度以形成作为光反射层的铟(in)层或锡(sn)层而不是铝(al)层，并且光吸收层形成为具有如下表2中的厚度。

从图12的照片可以看出，示例1至示例3的铟层形成为不连续膜。从图13的照片可以确认，示例4的铟层形成为不连续膜，并且从图14的照片可以确认，示例7的锡层形成为不连续膜。根据图13和图14，确认铟或锡以岛状生长形式经历非导电沉积，并且当在其上沉积光吸收层(alon)时，确认沿着该形状生长。根据图14，确认除了使用铟(in)之外，还能够使用锡(sn)材料形成岛状结构。

制备的透明基板/光反射层/光吸收层的表面电阻如下表2所示。

使用已知的表面电阻器根据4点探针法测量表面电阻。使用hirestamcp-ht450、asp探针(aspprobe)的测量设备测量表面电阻。

【表2】

m：兆欧姆

or：超出范围(在5000v时大于1千兆欧姆/□，超出设备的测量范围)

光吸收层的组成和表面电阻列于下表3中，并且形成光吸收层时的n2气体流量以及光吸收层的折射率(n)和消光系数(k)列于表4中。图15示出了铟层的光反射率。

【表3】

关系：

【表4】

如表3所示，可以看出，与比较例相比，示例1至示例9中制备的层叠体具有更高的表面电阻，并且基于图2可以看出，通过减少电磁波屏蔽增强了rf接收的功能。特别地，确认了示例3、示例6和示例9的包含了在14％的氮分压时所形成的铟层和氮氧化铝层的膜在施加5000v时表现出1千兆欧姆/平方以上的高电阻。

表3中的元素含量测量是通过xps分析方法进行的，具体条件如下。

k-α，赛默非世尔科技公司(thermofisherscientificinc)

x射线源：单色alkα(1486.6ev)

x射线光斑尺寸：300μm

ar离子蚀刻：单原子(1000ev，高，光栅宽度：1.5mm，溅射速率：0.18nm/s)

操作模式：cae(恒定分析仪能量)模式

电荷补偿：默认fg03模式(250μa，1v)

*峰值背景：使用智能方法

当通过诸如比较例1、示例4和示例7的结构中的空气层或玻璃从光吸收层的与邻近光反射层的表面相对的表面照射光源d65时出现的颜色的模拟结果如图16所示。这些模拟结果是，当邻近光反射层的层是玻璃层并且邻近光吸收层的层是空气层或玻璃层时，用于呈现将比较例1中的铝层、示例4中的铟层和示例7中的锡层中的每一个的厚度从10nm变为100nm(每次增加10nm)时所获得的颜色的模拟结果。

图16的ciel*ab颜色坐标值列于下表5中。在每层中，左侧值是厚度为10nm时的值，右侧值是厚度为100nm时的值。

【表5】