一种镀膜玻璃的制作方法
【技术领域】
[0001 ] 本实用新型涉及玻璃制品领域，特指一种镀膜玻璃。
【背景技术】
[0002]镀膜玻璃(Reflective glass)也称反射玻璃。镀膜玻璃是在玻璃表面涂镀一层或多层金属、合金或金属化合物薄膜，以改变玻璃的光学性能，满足某种特定要求。镀膜玻璃按产品的不同特性，可分为以下几类:热反射玻璃、低辐射玻璃(Low-E)、导电膜玻璃等。
[0003]随着社会的进步和科学的发展，人类物质生活水平逐步提高，对于玻璃的要求也越来越高，这推动了玻璃生产技术的发展，相继出现了烤漆玻璃、镀膜玻璃等各种各样的玻璃，以此来满足人类隔音、隔离紫外线等要求。现有技术的镀膜玻璃按照生产方法可分为两种:在线镀膜玻璃和离线镀膜玻璃。其中镀膜玻璃一般采用单一功能的镀膜，生产成本高、功能单一、稳定性较差、经济效益低，不利于大规模的生产和使用。
【发明内容】
[0004]本实用新型的目的在于针对已有的技术现状，提供一种稳定性好、经济效益高的镀膜玻璃。
[0005]为达到上述目的，本实用新型采用如下技术方案:
[0006]—种镀膜玻璃，主要包括玻璃基片，所述的玻璃基片的外表面由内到外设置有第一电介质层、Ag膜层、第一阻挡层、第二阻挡层、过渡层、外层电介质层；所述的第一电介质层为T1J莫层或T1 J莫/S1 2膜复合膜层；所述的第二阻挡层为ZnO膜层；所述的过渡层为T1、Zn、N1、Cr中的任意一种；所述的外层电介质层为Si3N4膜层。
[0007]所述的第一电介质层厚度为50~100nm ;所述的Ag膜层厚度为10~20nm ;所述的第一阻挡层厚度为15~30nm ;所述的第二阻挡层厚度为10~20nm ;所述的过渡层厚度为l~5nm ;所述的外层电介质层厚度为3~10nm。
[0008]优选地，所述的第一电介质层厚度为55nm ;所述的Ag膜层厚度为14nm ;所述的第一阻挡层厚度为ISnm ;所述的第二阻挡层厚度为12nm ;所述的过渡层厚度为3nm ;所述的外层电介质层厚度为8nm。
[0009]所述的T1J莫层是采用直流反应磁控测射法制得的纳米级别T1 2薄膜层。
[0010]所述的镀膜玻璃用于制作成建筑门窗、汽车夹层玻璃、汽车中空玻璃。
[0011]本实用新型的有益效果为:
[0012]1、引入了 T1J莫层或T1 J莫/S1 J莫复合膜层作为电介质层，不仅使Ag膜层化学稳定性和热稳定性得到显著改善，提高了可见光透过率和降低了雾度，而且大大提高对太阳光的利用率。
[0013]2、通过合理设计各膜层的种类及厚度，大大提高了镀膜玻璃的隔热性能，可应用于建筑领域，特别是汽车夹层玻璃领域，产品也具有非常低的传热系数，应用前景广阔。
[0014]【附图说明】:
[0015]附图1为本实用新型镀膜玻璃结构示意图；
[0016]其中，1-玻璃基片；2_第一电介质层；3_ Ag膜层；4_第一阻挡层；5_第二阻挡层；6-过渡层；7_外层电介质层。
[0017]【具体实施方式】:
[0018]为了使审查委员能对本实用新型之目的、特征及功能有更进一步了解，兹举较佳实施例并配合图式详细说明如下:
[0019]请参阅图1所示，系为本实用新型之较佳实施例的结构示意图，本实用新型为一种镀膜玻璃，主要包括玻璃基片1，所述的玻璃基片I的外表面由内到外设置有第一电介质层2、Ag膜层3、第一阻挡层4、第二阻挡层5、过渡层6、外层电介质层7 ;所述的第一电介质层2为T1J莫层或T1 J莫/S1 2膜复合膜层；所述的第二阻挡层5为ZnO膜层；所述的过渡层6为T1、Zn、N1、Cr中的任意一种；所述的外层电介质层7为Si3N4膜层。所述的第一电介质层2厚度为50~100nm ;所述的Ag膜层3厚度为10~20nm ;所述的第一阻挡层4厚度为15~30nm ;所述的第二阻挡层5厚度为10~20nm ;所述的过渡层6厚度为l~5nm ;所述的外层电介质层7厚度为3~10nm。优选地，所述的第一电介质层2厚度为55nm ;所述的Ag膜层3厚度为14nm ;所述的第一阻挡层4厚度为ISnm ;所述的第二阻挡层5厚度为12nm ;所述的过渡层6厚度为3nm ;所述的外层电介质层7厚度为8nm。所述的T1J莫层是采用直流反应磁控测射法制得的纳米级别1102薄膜层。所述的镀膜玻璃用于制作成建筑门窗、汽车夹层玻璃、汽车中空玻璃。
[0020]当然，以上图示仅为本实用新型较佳实施方式，并非以此限定本实用新型的使用范围，故，凡是在本实用新型原理上做等效改变均应包含在本实用新型的保护范围内。
【主权项】
1.一种镀膜玻璃，主要包括玻璃基片(I)，其特征在于:所述的玻璃基片(I)的外表面由内到外设置有第一电介质层(2)、Ag膜层(3)、第一阻挡层(4)、第二阻挡层(5)、过渡层(6)、外层电介质层(7);所述的第一电介质层(2)为T1J莫层或T1 2膜/S1 J莫复合膜层；所述的第二阻挡层(5)为ZnO膜层；所述的过渡层(6)为T1、Zn、N1、Cr中的任意一种；所述的外层电介质层(7)为Si3N4膜层。2.根据权利要求1所述的一种镀膜玻璃，其特征在于:所述的第一电介质层(2)厚度为50~100nm ;所述的Ag膜层(3)厚度为10~20nm ;所述的第一阻挡层(4)厚度为15~30nm -JJf述的第二阻挡层(5)厚度为10~20nm ;所述的过渡层(6)厚度为l~5nm ;所述的外层电介质层(7)厚度为3~10nmo3.根据权利要求2所述的一种镀膜玻璃，其特征在于:所述的第一电介质层(2)厚度为55nm ;所述的Ag膜层(3)厚度为14nm ;所述的第一阻挡层(4)厚度为18nm ;所述的第二阻挡层(5)厚度为12nm ;所述的过渡层(6)厚度为3nm ;所述的外层电介质层(7)厚度为8nm。4.根据权利要求1所述的一种镀膜玻璃，其特征在于:所述的T1J莫层是采用直流反应磁控测射法制得的纳米级别打02薄膜层。
【专利摘要】本实用新型涉及一种镀膜玻璃，主要包括玻璃基片所述的玻璃基片的外表面由内到外设置有第一电介质层、Ag膜层、第一阻挡层、第二阻挡层、过渡层、外层电介质层；所述的第一电介质层为TiO2膜层或TiO2/SiO2复合膜层；所述的第二阻挡层为ZnO膜层；所述的过渡层为Ti、Zn、Ni、Cr中的任意一种；所述的外层电介质层为Si3N4膜层。本实用新型的镀膜玻璃，设置了合理厚度和种类的镀膜层，可见光透光率和红外线反射率效果更好，隔热效果强，节能又环保。
【IPC分类】B32B9/04, B32B15/04, B32B17/06
【公开号】CN204936376
【申请号】CN201520596300
【发明人】林楚兴
【申请人】广东光耀玻璃有限公司
【公开日】2016年1月6日
【申请日】2015年8月10日