防湿膜的制作方法
【技术领域】
[0001 ]本实用新型属于薄膜材料领域，特别涉及一种防湿膜。
【背景技术】
[0002]参阅台湾省专利公告号第546200号专利，该专利公开了一种防湿性多层薄膜，其为含有非吸湿性树脂层和无机氧化物或金属氧化物复合薄膜的防湿性多层薄膜，该非吸湿性树脂选自由聚烯烃系树脂、聚酯系树脂、含氯树脂、聚乙烯基芳香族系树脂、聚碳酸酯、聚苯硫、聚酰亚胺、聚砜、环状烯烃系树脂所组成的组群中的至少一种材料;该无机氧化物选自由氧化铝、氧化锌、氧化锡、氧化铟、氧化钛及其混合物所组成的金属氧化物组群以及由Si0、Si02及其混合物所组成的硅氧化物组群中的至少一种材料；而该金属选自由铝、金、银、铂、钯、锡、镍、钴、锌、钛、铟及其混合物所组成的组群中的至少一种材料;该复合薄膜为含有透过黏合剂层与其他非吸湿性树脂层面或其他复合薄膜所迭层的层构造，且与黏合剂层所邻接层相沉积薄膜合计层数(η)为2?8层薄膜所构成，且在温度40°C、相对湿度100%条件下所测定的透湿度(W;单位=g/m2.day)需满足W S (I/n) x0.20。
[0003]该专利是利用无机氧化物或金属氧化物配合形成的复合薄膜搭配非吸湿性树脂层达到防湿的效用，但该专利提供的防湿性多层薄膜存在膜层结构复杂，防水效果有限，老化速度快，生产加工不易等缺点。
【实用新型内容】
[0004]本实用新型的目的是提供一种利用氧化物层组作为阻水的防湿膜，本实用新型提供的防湿膜膜层结构简单，防水及防老化效果佳。
[0005]为实现上述技术方案，本实用新型提供了一种防湿膜，主要包含有:基材层、氧化物层组、介电质层和紫外光吸收层，所述氧化物层组包括氧化钽层和氧化硅层，所述氧化钽层位于基材层的上表面，所述氧化硅层位于氧化钽上表面，所述介电质层位于氧化硅层的上表面，所述紫外光吸收层位于基材层的下表面。
[0006]在上述技术方案中，所述基材层为聚对苯二甲酸乙二醇酯材质，且可弹性弯折。
[0007]在上述技术方案中，所述基材层的厚度为50um?125um。
[0008]在上述技术方案中，所述氧化钽层的厚度为20nm?40nm。
[0009]在上述技术方案中，所述氧化娃层的厚度为30nm?50nm。
[00?0]在上述技术方案中，所述介电质层的厚度为50nm?lOOnm。
[00?1 ]在上述技术方案中，所述紫外光吸收层的厚度为80nm?100nm。
[0012]本实用新型相较于现有技术的有益效果在于:本实用新型提供的防湿膜利用氧化物层组作为阻水层，大大简化了现有技术中复杂的膜层结构，同时设置介电质层和紫外光吸收层可以有效减缓防湿膜的老化速度。
【附图说明】
[0013]图1是本实用新型的结构示意图。
[0014]图中:10-基材，20-氧化物层组，21-氧化钽层，22-氧化硅层，30-介电质层，40-紫外光吸收层。
【具体实施方式】
[0015]下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。本领域普通人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，均属于本实用新型的保护范围。
[0016]实施例1:一种防湿膜。
[0017]参照图1所示，一种防湿膜，主要包含有:基材层10、氧化物层组20、介电质层30和紫外光吸收层40，所述氧化物层组20包括氧化钽层21和氧化硅层22，所述氧化钽层21位于基材层10的上表面，所述氧化硅层22位于氧化钽层21上表面，所述介电质层30位于氧化硅层22的上表面，所述紫外光吸收层40位于基材层10的下表面。
[0018]在上述技术方案中，所述基材层10为聚对苯二甲酸乙二醇酯材质，且可弹性弯折。
[0019]在上述技术方案中，所述基材层10的厚度为80um。
[°02°]在上述技术方案中，所述氧化钽层21的厚度为30nm。
[0021 ]在上述技术方案中，所述氧化娃层22的厚度为40nm。?0022] 在上述技术方案中，所述介电质层30的厚度为50nm。
[0023]在上述技术方案中，所述紫外光吸收层40的厚度为90nm。
[0024]为了进一步解释本实用新型的构造特征、运用技术手段及所预期达成的功效，特将本实用新型的使用方式描述如下:
[0025]参照图1所示，生产制造本实施例中的防湿膜时，先在基材10上沉积形成高密度的氧化钽层21，并再于该氧化钽层21上沉积形成低密度的氧化硅层22，然后在氧化硅层22的上表面沉积形成介电质层30，该介电质层30为光学胶(Optically Clear Adhesive,OCA),另外在基材10的下表面吸附形成一层紫外光吸收层40。高密度的氧化钽层21和低密度的氧化硅层22均能够有效阻断水汽分子的渗透，介电质层30能够反射部分光能，紫外光吸收层40吸收紫外线，均能防止光对本防湿膜加速老化的作用。
[0026]本实施例中，本防湿膜在实验温度25°C、相对湿度95%的条件下，阻水度〈0.1 g/m2.day。
[0027]实施例2:—种防湿膜。
[0028]参照图1所示，一种防湿膜，主要包含有:基材层10、氧化物层组20、介电质层30和紫外光吸收层40，所述氧化物层组20包括氧化钽层21和氧化硅层22，所述氧化钽层21位于基材层10的上表面，所述氧化硅层22位于氧化钽层21上表面，所述介电质层30位于氧化硅层22的上表面，所述紫外光吸收层40位于基材层10的下表面。
[0029]在上述技术方案中，所述基材层10为聚对苯二甲酸乙二醇酯材质，且可弹性弯折。
[0030]在上述技术方案中，所述基材层10的厚度为lOOum。
[OO31 ]在上述技术方案中，所述氧化钽层21的厚度为25nm。
[0032]在上述技术方案中，所述氧化硅层22的厚度为35nm。
[0033]在上述技术方案中，所述介电质层30的厚度为80nm。
[0034]在上述技术方案中，所述紫外光吸收层40的厚度为10nm
[0035]本实施例中，本防湿膜在实验温度25°C、相对湿度95%的条件下，阻水度〈0.2 g/m2.day。
[0036]以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作出的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种防湿膜，其特征在于主要包括有:基材层、氧化物层组、介电质层和紫外光吸收层，所述氧化物层组包括氧化钽层和氧化硅层，所述氧化钽层位于基材层的上表面，所述氧化硅层位于氧化钽层上表面，所述介电质层位于氧化硅层的上表面，所述紫外光吸收层位于基材层的下表面。2.如权利要求1所述的防湿膜，其特征在于:所述基材层为可弹性弯折的聚对苯二甲酸乙二醇酯层。3.如权利要求1所述的防湿膜，其特征在于:所述基材层的厚度为50um?125um。4.如权利要求1所述的防湿膜，其特征在于:所述氧化钽层的厚度为20nnr40nm。5.如权利要求1所述的防湿膜，其特征在于:所述氧化娃层的厚度为30nm~50nm。6.如权利要求1所述的防湿膜，其特征在于:所述介电质层的厚度为50nm~100nm。7.如权利要求1所述的防湿膜，其特征在于:所述紫外光吸收层的厚度为80nm~100nm。
【专利摘要】本实用新型提供了一种防湿膜，主要包含有：基材层、氧化物层组、介电质层和紫外光吸收层，所述氧化物层组包括氧化钽层和氧化硅层，所述氧化钽层位于基材层的上表面，所述氧化硅层位于氧化钽层上表面，所述介电质层位于氧化硅层的上表面，所述紫外光吸收层位于基材层的下表面。实用新型提供的防湿膜利用氧化物层组和介电质层作为阻水层，大大简化了现有技术中复杂的膜层结构，同时设置紫外光吸收层可以有效减缓防湿膜的老化速度。
【IPC分类】B32B27/06, B32B9/00, B32B33/00
【公开号】CN205112573
【申请号】CN201520841728
【发明人】李伟明, 蓝银锋
【申请人】汕头市东通光电材料有限公司
【公开日】2016年3月30日
【申请日】2015年10月28日