一种用于温室气体施肥的二氧化碳的风力富集装置及方法与流程

本发明属于农业设施技术领域，尤其是涉及一种用于温室气体施肥的二氧化碳的风力富集方法及装置。

背景技术：

温室内气体施肥是提高温室植物产量和质量的有效手段之一。通过光温耦合的碳酸氢铵的热分解进行气体施肥，解决了气体施肥和植物需要的高度耦合，使光温和气体施肥耦合，减少了碳铵的浪费。但是碳铵分解的氨气如果直接排放会污染大气，直接施肥会烧苗和氮肥过量，都是不可行的。如果通过二氧化碳的富集和氨水的利用结合，会解决氨水的排放和碳铵成本过高的问题，进而使温室气体施肥成本进一步降低。

技术实现要素：

有鉴于此，本发明旨在提出一种用于温室气体施肥的二氧化碳的风力富集方法及装置，以克服现有技术中的不足，通过利用风能使碱性化合物和空气中的二氧化碳结合生成容易热分解的化合物，为气体施肥提供碳源和原料，实现了可持续发展的目的。

为达到上述目的，本发明的技术方案是这样实现的：

一种用于温室气体施肥的二氧化碳的风力富集装置，包括风力叶轮机、鼓风机、装有二氧化碳吸收溶液的箱体，所述风力叶轮机位于鼓风机上方，且两者通过传动结构连接，鼓风机的出气口与装有二氧化碳吸收溶液的箱体的进气口相连。

进一步的，所述装有二氧化碳吸收溶液的箱体为可开关的密闭容器，有箱体和盖子两部分组成；盖子上留有进气口和出气口；进气口位于盖子顶部，通过管道连接于二氧化碳吸收溶液底部的用于气体扩散的微孔盲管系统，所述出气口在箱体上设置，出气口上部留有大于20cm的空间。

进一步的，所述盖子和箱体有气密垫。

进一步的，所述装有二氧化碳吸收溶液的箱体为氨水吸收箱。

进一步的，所述二氧化碳吸收溶液为碱性溶液。

进一步的，所述碱性溶液为氨水、碳酸钠、赖氨酸钠、精氨酸钠中一种。

进一步的，所述风力叶轮机，为借助于风力驱动的单转子风轮机，或多转子的风力涡轮机。

本发明还提供一种利用如上所述的风力富集装置的方法，通过鼓风机形成的正压，将进气管道中的空气通过下部的微孔盲管系统进入装有二氧化碳吸收溶液的箱体中，将其中的二氧化碳吸收，其余气体通过排气口排出外部。

相对于现有技术，本发明所述的装置及方法，具有以下优势：

本发明在夜间利用风能，将大气中的二氧化碳与二氧化碳吸收溶液反应生产二氧化碳气体施肥的原料，实现了二氧化碳的高度富集，同时不依靠电力和柴油动力，降低了运营成本，能够在偏远的地区推广。

附图说明

构成本发明的一部分的附图用来提供对本发明的进一步理解，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：

图1为本发明实施例所述的装置的简单结构示意图；

附图标记说明：

1为风力叶轮机，2为氨水吸收箱，3为出气口，4为鼓风机，5为微孔盲管系统，6为进气口。

具体实施方式

需要说明的是，在不冲突的情况下，本发明中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

下面将参考附图并结合实施例来详细说明本发明。

一种用于温室气体施肥的二氧化碳的风力富集装置，包括风力叶轮机1、鼓风机4、装有二氧化碳吸收溶液的箱体，所述风力叶轮机1位于鼓风机4上方，且两者通过传动结构连接，鼓风机4的出气口与装有二氧化碳吸收溶液的箱体的进气口相连。

所述装有二氧化碳吸收溶液的箱体为可开关的密闭容器，有箱体和盖子两部分组成；盖子上留有进气口和出气口3；进气口位于盖子顶部，通过管道连接于二氧化碳吸收溶液底部的用于气体扩散的微孔盲管系统5，所述出气口3在箱体上设置，出气口上部留有大于20cm的空间。

所述盖子和箱体有气密垫。

所述装有二氧化碳吸收溶液的箱体为氨水吸收箱2。

所述风力叶轮机，为借助于风力驱动的单转子风轮机，或多转子的风力涡轮机。

实施案1：

在有风的时候，上部的单转子风力叶轮机转动，通过传动结构带动下面的鼓风机4，将室外的空气鼓入氨水吸收箱2内，氨水吸收箱2内的氨水和二氧化碳反应，形成盐类被固定下来，其余的二氧化碳含量极低的空气通过排气口排除，这种方式溶液表面的负压较低，氨气不容易挥发，大大减少了氨气的损失。

实施案例2：

在有风的时候，上部的多转子风力叶轮机转动，通过传动结构带动下面的鼓风机，将室外的空气鼓入赖氨酸钠溶液吸收箱内，吸收箱内的赖氨酸钠和二氧化碳反应，形成盐类被固定下来，其余的二氧化碳含量极低的空气通过排气口排除，这种方式避免造成氨气污染和氨气的损失。

实施案例3：

在有风的时候，上部的多转子风力叶轮机转动，通过传动结构带动下面的鼓风机，将室外的空气鼓入精氨酸钠溶液吸收箱内，通过微孔盲管系统和溶液充分接触促进反应充分，吸收箱内的精氨酸钠和二氧化碳反应，形成盐类被固定下来，其余的二氧化碳含量极低的空气通过排气口排除，这种方式避免造成氨气污染和氨气的损失。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。