选自由W下组成 的组的巧长素除草剂盐：钢盐、钟盐、锭盐、裡盐、二锭盐、单乙醇胺盐、二乙醇胺盐、=乙醇 胺盐、=异丙醇胺盐、二甲胺盐、二乙胺盐、=乙胺盐、甲胺盐、乙胺盐、二甘醇胺盐、丙胺盐、 下胺盐、戊胺盐、己胺盐、庚胺盐、辛胺盐、十二胺盐和癸胺盐，及其组合。9. 如权利要求1至6中任一项所述的制剂，其中所述阴离子除草剂选自由W下组成的 组：麦草畏、=氯比、2, 4-D及其组合。10. 如权利要求1至6中任一项所述的制剂，其中所述阴离子除草剂选自由W下组成的 组：麦草畏、2, 4-D及其组合。11. 如权利要求1至6中任一项所述的制剂，其中所述阴离子除草剂是麦草畏。12. 如权利要求11所述的制剂，其中所述阴离子除草剂是麦草畏的单乙醇胺盐、二乙 醇胺盐、钢盐、钟盐、异丙胺盐、二甘醇胺盐或二甲胺盐或其组合。13. 如权利要求12所述的制剂，其中所述阴离子除草剂是麦草畏的单乙醇胺盐、二乙 醇胺盐或钟盐或其组合。14. 如权利要求12所述的制剂，其中所述阴离子除草剂是麦草畏的二甘醇胺盐。15. 如权利要求1至14中任一项所述的制剂，其中所述颗粒吸附剂具有约90至约 300m2/g、约100至约250m2/g、或约100至约200m2/g的BET表面积。16. 如权利要求1至15中任一项所述的制剂，其中所述颗粒吸附剂在约2至约3的抑 下具有负电荷。17. 如权利要求1至16中任一项所述的制剂，其中所述阴离子除草剂W约0. 1至约80 重量％a.e.、约1至约60重量％a.e.、约5至约60重量％a.e.、约5至约50重量％a.e.、 约10至约40重量％a.e.、约10至约30重量％a.e.、或约10至约20重量％a.e.的浓度 存在。18. 如权利要求1至17中任一项所述的制剂，其中所述阴离子除草剂W约10至约800g a.e./I、约 20 至约 750ga.e./I、约 100 至约 750ga.e./I、约 200 至约 600ga.e./I、约 250 至约 550ga.e./I、约 300 至约 450ga.e./I、约 300 至约 400ga.e./I、约 325 至约 375g a.e. /I、或约360ga.e./l的比例存在。19. 如权利要求1至18中任一项所述的制剂，其中所述制剂具有约2至约10、约3至 约8、或约4至约8的抑。20. 如权利要求1至19中任一项所述的制剂，其中所述阳离子表面活性剂与所述阴离 子除草剂的摩尔比是至少约0. 2:1、至少约0. 5:1、或至少约1:1。21. 如权利要求1至20中任一项所述的制剂，其中所述阳离子表面活性剂与所述阴离 子除草剂的摩尔比小于约8:1、小于约6:1或小于约4:1。22. 如权利要求1至21中任一项所述的制剂，其中所述阳离子表面活性剂与所述阴离 子除草剂的摩尔比是约0. 2:1至约8:1、约0. 2:1至约6:1、或约0. 2:1至约4:1、约0. 5:1 至约3:1、或约1:1至约2:1。23. 如权利要求1至22中任一项所述的制剂，其中所述阳离子表面活性剂包含式（I) 季烷基锭离子：其中Ri、R2、R呀PR4是具有1至25个碳原子、1至20个碳原子、或1至15个碳原子的 控基或取代的控基。24. 如权利要求23所述的制剂，其中R1是具有5至25个碳原子或6至22个碳原子的 控基或取代的控基。25. 如权利要求23所述的制剂，其中R1是具有12至20个碳原子的控基或取代的控基， 并且R2、R嘴R墙甲基。26. 如权利要求23所述的制剂，其中R1、R2、R呀PR墙乙基。27. 如权利要求1至22中任一项所述的制剂，其中所述阳离子表面活性剂包含式（II) 化晚鐵离子：其中Ri°是具有1至25个碳原子、1至20个碳原子、或10至20个碳原子的控基或取 代的控基。28. 如权利要求1至22中任一项所述的制剂，其中所述阳离子表面活性剂包含式 (III)联化晚鐵离子：其中R2°和R25是具有1至25个碳原子、1至20个碳原子、或1至15个碳原子的控基 或取代的控基。29. 如权利要求1至22中任一项所述的制剂，其中所述阳离子表面活性剂包含式（IV) 化咯嘟鐵离子：其中R3°是具有1至25个碳原子、1至20个碳原子、或1至15个碳原子的控基或取代 的控基。30. 如权利要求1至22中任一项所述的制剂，其中所述阳离子表面活性剂包含式（V) 咪挫鐵离子：其中R35和R4°是具有1至25个碳原子、1至20个碳原子、或1至15个碳原子的控基 或取代的控基。31. 如权利要求1至22中任一项所述的制剂，其中所述阳离子表面活性剂包含式（VI) 苯甲控锭离子：其中R45、R5°、R55是具有1至25个碳原子、1至20个碳原子、或1至15个碳原子的控基 或取代的控基。32. 如权利要求1至31中任一项所述的制剂，所述制剂进一步包含选自由W下组成的 组的第二除草剂的离子：草甘麟、乙草胺及其组合。33. 如权利要求32所述的制剂，所述制剂进一步包含草甘麟。34. -种水性除草制剂，所述制剂包含： 麦草畏、颗粒二氧化娃和阳离子表面活性剂，其中： 所述阳离子表面活性剂被键合于所述颗粒二氧化娃，并且麦草畏被键合于所述结合于 所述二氧化娃粒子的阳离子表面活性剂，所述制剂进一步包含草甘麟。35. 如权利要求34所述的制剂，其中麦草畏阴离子被键合于所述颗粒二氧化娃。36. 如权利要求34或35所述的制剂，其中所述草甘麟是选自由W下组成的组的草甘麟 盐：钟盐、异丙锭盐及其组合。37. 如权利要求32至36中任一项所述的制剂，其中草甘麟W约0. 1至约80重量％ a.e.、约1至约60重量％a.e.、约5至约60重量％a.e.、约5至约50重量％a.e.、约10 至约40重量％a.e.、约10至约30重量％a.e.、或约10至约20重量％a.e.的浓度存在。38. 如权利要求33至36中任一项所述的制剂，其中草甘麟W约10至约800ga.eVl、 约 20 至约 750ga.e. /I、约 100 至约 750ga.e. /I、约 200 至约 600ga.e. /I、约 250 至约 550ga.e. /I、约 300 至约 450ga.e. /I、约 300 至约 400ga.e. /I、约 325 至约 375ga.e. / 1、或约360ga.eVl的比例存在。39. -种水性除草制剂，所述制剂包含： 巧长素除草剂、颗粒吸附剂和阳离子表面活性剂，其中： 所述阳离子表面活性剂被键合于所述颗粒吸附剂，并且所述巧长素除草剂被键合于所 述结合于所述颗粒吸附剂的阳离子表面活性剂，并且 所述巧长素除草剂浓度是至少约0. 1重量％。40. -种用于水性除草制剂的佐剂，所述佐剂包含二氧化娃粒子和阳离子表面活性剂， 其中所述阳离子表面活性剂被键合于所述二氧化娃粒子，并且所述佐剂具有至少约20重 量％的二氧化娃（Si〇2)含量。41. 一种用于控制作物植物的田地中的杂草的方法，所述方法包括： W除草有效量向所述田地施加水性除草制剂，其中所述水性除草制剂如权利要求1至 39中任一项中所定义。42. 如权利要求41所述的方法，其中所述作物植物选自由大豆、棉花、花生、稻、小麦、 加拿大油菜、首猜、甘薦、高梁和向日葵组成的组。43. 如权利要求42所述的方法，其中所述作物植物选自由玉米、大豆和棉花组成的组。44. 如权利要求41至43中任一项所述的方法，其中在种植所述作物植物之前向所述田 地施加所述制剂。45. 如权利要求41至43中任一项所述的方法，其中在种植所述作物植物之前约40天、 约30天、约25天、约20天、约15天、约10天或约5天至在种植所述作物植物之前即刻的 间隔期间的任何时间向所述田地施加所述制剂。46. 如权利要求41至43中任一项所述的方法，其中在所述作物植物萌发前向所述田地 施加所述制剂。47. 如权利要求41至43中任一项所述的方法，其中在种植所述作物植物之后约1天、 在种植所述作物植物之后约2天、在种植所述作物植物之后约3天、在种植所述作物植物之 后约4天、在种植所述作物植物之后约5天、在种植所述作物植物之后约10天、在种植所述 作物植物之后约15天、或在种植所述作物植物之后约20天直至但不包括所述作物植物萌 发的间隔期间的任何时间向所述田地施加所述制剂。48. 如权利要求41至43中任一项所述的方法，其中在所述作物植物萌发后向所述田地 施加所述制剂。49. 如权利要求41至43中任一项所述的方法，其中在所述作物植物萌发之后多达约1 天、在所述作物植物萌发之后多达约2天、在所述作物植物萌发之后多达约3天、在所述作 物植物萌发之后多达约4天、在所述作物植物萌发之后多达约5天、在所述作物植物萌发之 后多达约10天、在所述作物植物萌发之后多达约15天、或在所述作物植物萌发之后多达约 20天的间隔期间的任何时间向所述田地施加所述制剂。50. 如权利要求41至49中任一项所述的方法，其中所述制剂包含麦草畏，并且所述作 物植物包括转基因麦草畏耐受性植物。51. 如权利要求41至50中任一项所述的方法，其中所述制剂包含草甘麟，并且所述作 物植物包括草甘麟耐受性作物植物。52. 如权利要求41至51中任一项所述的方法，其中所述杂草包括一个或多个草甘麟抗 性物种，并且所述制剂包含麦草畏。53. 如权利要求41至52中任一项所述的方法，其中所述杂草包括一个或多个麦草畏抗 性物种，并且所述制剂进一步包含草甘麟。54. 如权利要求41至53中任一项所述的方法，其中在所述杂草萌发前向所述田地施加 所述制剂。55. 如权利要求41至53中任一项所述的方法，其中在所述杂草萌发前约40天、约30 天、约25天、约20天、约15天、约10天或约5天的间隔期间的任何时间向所述田地施加所 述制剂。56. 如权利要求41至53中任一项所述的方法，其中在所述杂草萌发后向所述田地施加 所述制剂。57. 如权利要求41至53中任一项所述的方法，其中在所述杂草萌发之后多达约1天、 在所述杂草萌发之后多达约2天、在所述杂草萌发之后多达约3天、在所述杂草萌发之后多 达约4天、在所述杂草萌发之后多达约5天、在所述杂草萌发之后多达约10天、在所述杂草 萌发之后多达约15天、或在所述杂草萌发之后多达约20天的间隔期间的任何时间向所述 田地施加所述制剂。58. -种用于改进阴离子除草剂的残余有效性的方法，所述方法包括： 组合阴离子除草剂、颗粒吸附剂、阳离子表面活性剂和水，由此形成水性除草制剂，其 中所述阳离子表面活性剂被键合于所述颗粒吸附剂，并且所述阴离子除草剂被键合于所述 结合于所述颗粒吸附剂的阳离子表面活性剂。59. 如权利要求58所述的方法，其中使所述颗粒吸附剂和阳离子表面活性剂作为佐 剂与所述阴离子除草剂组合，所述佐剂包含所述键合于所述颗粒吸附剂的阳离子表面活性 剂。60. 如权利要求58或59所述的方法，其中所述阴离子除草剂是巧长素除草剂。
【专利摘要】本发明一般涉及高残效和/或低异地移动阴离子除草剂制剂，并且更具体来说，涉及茁长素除草剂制剂。通常，本发明的制剂包括阴离子除草剂(例如茁长素除草剂)、颗粒吸附剂(例如二氧化硅)、阳离子表面活性剂和水。茁长素除草剂已被证明可有效和高度有益于控制非所需的植物。
【IPC分类】A01N37/10
【公开号】CN105007730
【申请号】CN201480012976
【发明人】张俊华, D·R·赖特
【申请人】孟山都技术公司
【公开日】2015年10月28日
【申请日】2014年1月8日
【公告号】US20140200139, WO2014110076A1