放射治疗平台的制作方法

文档序号:16571130发布日期:2019-01-13 17:01阅读:155来源:国知局
放射治疗平台的制作方法

本实用新型属于医疗器械技术领域,涉及一种放射治疗平台。



背景技术:

医务人员在利用放射技术对病人进行治疗或诊断时,往往是对病人身体的某一部分进行放射处理,为了防止辐射源对病人其他部位造成辐射,危害病人其他部位的健康,通常采用让病人穿上事先预留有处理范围的防护服再进行放射治疗或诊断。对于一些体质差的病人穿戴较为不便,且医疗效率低下。目前,放射治疗设备较多,但在医疗过程中,需要病人频繁的调整身体的各个部位,以便身体治疗的部位与放射源较好的对应,达到治疗的目的,治疗或诊断效率低下。



技术实现要素:

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种放射治疗平台,结构简单,治疗或诊断时无需病人频繁的调整身体,操作方便,治疗或诊断效率高。

为解决上述技术问题,本实用新型所采用的技术方案是:一种放射治疗平台,它包括底座、升降平台、仰卧平台、放射平台、第一驱动装置和第二驱动装置;所述的底座为梯形的块状结构体,其上设有贯穿的螺纹孔;所述的升降平台包括与矩形伸缩体上下密封的上盖和下底,伸缩体由多个硬质的受力框与软质的蒙皮组合的中空可伸缩的结构体,下底上设有充气接口;所述的仰卧平台包括与卧床连接的靠枕,卧床底部的凹槽中设有固定螺纹滑套;所述的放射平台包括与放射座上的放射孔配合旋转的旋转放射装置,旋转放射装置包括与旋转座固定连接的支撑板、与支撑板连接的放射头;所述的第一驱动装置包括与第一丝杆两端配合的第一轴承座、与第一丝杆任一端连接的第一步进电机;所述的第二驱动装置包括与第二丝杆两端配合的第二轴承座、与第二丝杆任一端连接的第二步进电机;第一驱动装置上的第一丝杆与底座上的螺纹孔配合,第一轴承座固定于升降平台的下底,第二驱动装置上的第二丝杆与仰卧平台上的固定螺纹滑套配合,第二轴承座固定于升降平台的上盖,放射平台上的放射座与底座位于同一水平面上,带有气压调节开关的管接头与充气接口配合冲放气。

所述升降平台的下底底部设有滚轮与底座接触。

所述仰卧平台的卧床的凹槽中设有滚轮与升降平台的上盖接触。

所述卧床一端的连接轴与靠枕上的轴孔配合,位于轴孔两端设有棘轮,卧床底部的凹槽中设有滑动杆配合棘轮限位。

一种放射治疗平台,它包括底座、升降平台、仰卧平台、放射平台、第一驱动装置和第二驱动装置;底座为梯形的块状结构体,其上设有贯穿的螺纹孔;升降平台包括与矩形伸缩体上下密封的上盖和下底,伸缩体由多个硬质的受力框与软质的蒙皮组合的中空可伸缩的结构体,下底上设有充气接口;仰卧平台包括与卧床连接的靠枕,卧床底部的凹槽中设有固定螺纹滑套;放射平台包括与放射座上的放射孔配合旋转的旋转放射装置,旋转放射装置包括与旋转座固定连接的支撑板、与支撑板连接的放射头;第一驱动装置包括与第一丝杆两端配合的第一轴承座、与第一丝杆任一端连接的第一步进电机;第二驱动装置包括与第二丝杆两端配合的第二轴承座、与第二丝杆任一端连接的第二步进电机;第一驱动装置上的第一丝杆与底座上的螺纹孔配合,第一轴承座固定于升降平台的下底,第二驱动装置上的第二丝杆与仰卧平台上的固定螺纹滑套配合,第二轴承座固定于升降平台的上盖,放射平台上的放射座与底座位于同一水平面上,带有气压调节开关的管接头与充气接口配合冲放气。结构简单,病人平躺于仰卧平台上,通过第一驱动装置上的第一步进电机驱动升降平台沿第一丝杆来回运动,通过第二驱动装置上的第二步进电机驱动仰卧平台沿第二丝杆来回运动,通过对升降平台上的充气接口冲气或放气使其高度升高或降低,通过旋转靠枕调节头部高低,通过旋转座旋转调节放射头的放射方向,病人整个身体均可随卧床穿过放射孔,还可被放射头整个覆盖,治疗或诊断时无需病人频繁的调整身体,操作方便,治疗或诊断效率高。

在优选的方案中,升降平台的下底底部设有滚轮与底座接触。在第一驱动装置上的第一步进电机驱动升降平台沿第一丝杆来回运动的过程中,下底与底座采用滚轮接触,摩擦力更小,升降平台滑动更平稳。

在优选的方案中,仰卧平台的卧床的凹槽中设有滚轮与升降平台的上盖接触。在第二驱动装置上的第二步进电机驱动仰卧平台沿第二丝杆来回运动的过程中,上盖与卧床采用滚轮接触,摩擦力更小,仰卧平台滑动更平稳。

在优选的方案中,卧床一端的连接轴与靠枕上的轴孔配合,位于轴孔两端设有棘轮,卧床底部的凹槽中设有滑动杆配合棘轮限位。靠枕由连接轴与轴孔配合旋转调整其高低,滑动杆配合棘轮限位,调节高度更方便。

本实用新型提供的一种放射治疗平台,它包括底座、升降平台、仰卧平台、放射平台、第一驱动装置和第二驱动装置,通过第一驱动装置上的第一步进电机驱动升降平台沿第一丝杆来回运动,通过第二驱动装置上的第二步进电机驱动仰卧平台沿第二丝杆来回运动,通过对升降平台上的充气接口冲气或放气使其高度升高或降低,通过旋转靠枕调节头部高低,通过旋转座旋转调节放射头的放射方向,病人整个身体均可随卧床穿过放射孔,还可被放射头整个覆盖。克服了原放射治疗或诊断时病人需要频繁调整身体部位,效率低下的问题。本实用新型具有结构简单,治疗或诊断时无需病人频繁的调整身体,操作方便,治疗或诊断效率高的特点。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明:

图1为本实用新型的结构示意图。

图2为本实用新型升降平台的构示意图。

图3为本实用新型底座的构示意图。

图4为本实用新型底座与第一驱动装置配合示意图。

图5为本实用新型放射平台的结构示意图。

图6为本实用新型仰卧平台与第二驱动装置配合示意图。

图中:底座1,螺纹孔11,升降平台2,伸缩体21,受力框211,蒙皮212,上盖22,下底23,充气接口231,仰卧平台3,卧床31,靠枕32,螺纹滑套33,放射平台4,放射座41,放射孔42,旋转放射装置43,旋转座431,支撑板432,放射头433,第一驱动装置5,第一丝杆51,第一轴承座52,第一步进电机53,第二驱动装置6,第二丝杆61,第二轴承座62,第二步进电机63。

具体实施方式

如图1~图6中,为解决上述技术问题,本实用新型所采用的技术方案是:一种放射治疗平台,它包括底座1、升降平台2、仰卧平台3、放射平台4、第一驱动装置5和第二驱动装置6;所述的底座1为梯形的块状结构体,其上设有贯穿的螺纹孔11;所述的升降平台2包括与矩形伸缩体21上下密封的上盖22和下底23,伸缩体21由多个硬质的受力框211与软质的蒙皮212组合的中空可伸缩的结构体,下底23上设有充气接口231;所述的仰卧平台3包括与卧床31连接的靠枕32,卧床31底部的凹槽中设有固定螺纹滑套33;所述的放射平台4包括与放射座41上的放射孔42配合旋转的旋转放射装置43,旋转放射装置43包括与旋转座431固定连接的支撑板432、与支撑板432连接的放射头433;所述的第一驱动装置5包括与第一丝杆51两端配合的第一轴承座52、与第一丝杆51任一端连接的第一步进电机53;所述的第二驱动装置6包括与第二丝杆61两端配合的第二轴承座62、与第二丝杆61任一端连接的第二步进电机63;第一驱动装置5上的第一丝杆51与底座1上的螺纹孔11配合,第一轴承座52固定于升降平台2的下底23,第二驱动装置6上的第二丝杆61与仰卧平台3上的固定螺纹滑套33配合,第二轴承座62固定于升降平台2的上盖22,放射平台4上的放射座41与底座1位于同一水平面上,带有气压调节开关的管接头与充气接口231配合冲放气。结构简单,病人平躺于仰卧平台3上,通过第一驱动装置5上的第一步进电机53驱动升降平台2沿第一丝杆51来回运动,通过第二驱动装置6上的第二步进电机63驱动仰卧平台3沿第二丝杆61来回运动,通过对升降平台2上的充气接口231冲气或放气使其高度升高或降低,通过旋转靠枕32调节头部高低,通过旋转座431旋转调节放射头433的放射方向,病人整个身体均可随卧床31穿过放射孔42,还可被放射头433整个覆盖,治疗或诊断时无需病人频繁的调整身体,操作方便,治疗或诊断效率高。

优选的方案中,所述升降平台2的下底23底部设有滚轮与底座1接触。在第一驱动装置5上的第一步进电机53驱动升降平台2沿第一丝杆51来回运动的过程中,下底23与底座1采用滚轮接触,摩擦力更小,升降平台2滑动更平稳。

优选的方案中,所述仰卧平台3的卧床31的凹槽中设有滚轮与升降平台2的上盖22接触。在第二驱动装置6上的第二步进电机63驱动仰卧平台3沿第二丝杆61来回运动的过程中,上盖22与卧床31采用滚轮接触,摩擦力更小,仰卧平台3滑动更平稳。

优选的方案中,所述卧床31一端的连接轴与靠枕32上的轴孔配合,位于轴孔两端设有棘轮,卧床31底部的凹槽中设有滑动杆配合棘轮限位。靠枕32由连接轴与轴孔配合旋转调整其高低,滑动杆配合棘轮限位,调节高度更方便。

本实用新型提供的一种放射治疗平台,它包括底座1、升降平台2、仰卧平台3、放射平台4、第一驱动装置5和第二驱动装置6,通过第一驱动装置5上的第一步进电机53驱动升降平台2沿第一丝杆51来回运动,通过第二驱动装置6上的第二步进电机63驱动仰卧平台3沿第二丝杆61来回运动,通过对升降平台2上的充气接口231冲气或放气使其高度升高或降低,通过旋转靠枕32调节头部高低,通过旋转座431旋转调节放射头433的放射方向,病人整个身体均可随卧床31穿过放射孔42,还可被放射头433整个覆盖。克服了原放射治疗或诊断时病人需要频繁调整身体部位,效率低下的问题。本实用新型具有结构简单,治疗或诊断时无需病人频繁的调整身体,操作方便,治疗或诊断效率高的特点。

上述的实施例仅为本实用新型的优选技术方案,而不应视为对于本实用新型的限制,本申请中的实施例及实施例中的特征在不冲突的情况下,可以相互任意组合。本实用新型的保护范围应以权利要求记载的技术方案,包括权利要求记载的技术方案中技术特征的等同替换方案为保护范围。即在此范围内的等同替换改进,也在本实用新型的保护范围之内。

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